Total Thickness Variation (TTV) 應用
規(guī)格:
測量方式:
紅外干涉(非接觸式)
樣本尺寸:
50,、75、100,、200,、300 mm, 也可以訂做客戶需要的產(chǎn)品尺寸
測量厚度:
15 — 780 μm (單探頭)
3 mm (雙探頭總厚度測量)
掃瞄方式:
半自動及全自動型號,
另2D/3D掃瞄(Mapping)可選
襯底厚度測量: TTV,、平均值,、*小值、*大值,、公差...
可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS)
重復性:
0.1 μm (1 sigma)單探頭*
0.8 μm
(1 sigma)雙探頭*
分辨率:
10 nm
請訪問我們的中文官網(wǎng)了解更多關(guān)于本產(chǎn)品的信息,。
F3-sX 系列測厚范圍:10μm - 3mm,;波長:960-1580nm。廣東膜厚儀國內(nèi)用戶F10-HC輕而易舉而且經(jīng)濟有效地分析單層和多層硬涂層F10-HC 以 Filmetrics F20 平臺為基礎(chǔ),,根據(jù)光譜反射數(shù)據(jù)分析快速提供薄膜測量結(jié)果。 F10-HC 先進的模擬算法是為測量聚碳酸酯和其它單層和多層硬涂層(例如,,底涂/硬涂層)專門設(shè)計的,。
全世界共有數(shù)百臺 F10-HC 儀器在工作,幾乎所有主要汽車硬涂層公司都在使用它們,。
像我們所有的臺式儀器一樣,,F(xiàn)10-HC 可以連接到您裝有 Windows 計算機的 USB 端口并在幾分鐘內(nèi)完成設(shè)定。
包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure 8 軟件FILMeasure **軟件 (用于遠程數(shù)據(jù)分析)CP-1-1.3 探頭BK7 參考材料TS-Hardcoat-4um 厚度標準備用燈
額外的好處:應用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃 Profilm3D膜厚儀出廠價產(chǎn)品名稱:紅外干涉厚度測量設(shè)備,。
FSM 413SP
AND FSM 413C2C 紅外干涉測量設(shè)備
適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅,、藍寶石、砷化鎵,、磷化銦,、碳化硅、玻璃,、石 英,、聚合物…………
應用:
襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶,、凹凸或者粘合硅片影響)
平整度
厚度變化 (TTV)
溝槽深度
過孔尺寸,、深度、側(cè)壁角度
粗糙度
薄膜厚度
不同半導體材料的厚度
環(huán)氧樹脂厚度
襯底翹曲度
晶圓凸點高度(bump height)
MEMS 薄膜測量
TSV 深度,、側(cè)壁角度...
FSM413SP半自動機臺人工取放芯片
Wafer 厚度3D圖形
FSM413C2C Fully
automatic 全自動機臺人工取放芯片
可適配Cassette,、SMIF POD、FOUP.
更可加裝至三個探頭,,同時測量三個樣品,,具紫外線區(qū)或標準波長可供選擇。F40:這型號安裝在任何顯微鏡外,,可提供*小5um光點(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品,。F50:這型號配備全自動XY工作臺,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可,。通過快速掃瞄功能,,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。F70:*通過在F20基本平臺上增加鏡頭,,使用Filmetrics*新的顏色編碼厚度測量法(CTM),,把設(shè)備的測量范圍極大的拓展至。F10-RT:在F20實現(xiàn)反射率跟穿透率的同時測量,,特殊光源設(shè)計特別適用于透明基底樣品的測量,。PARTS:在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70o光源,,特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量,。**膜厚測量儀系統(tǒng)F20使用F20**分光計系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學參數(shù)(n和k),。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù),。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個桌面系統(tǒng)組裝起來,。F20包括所有測量需要的部件:分光計、光源,、光纖導線,、鏡頭**和Windows下運行的軟件。您需要的只是接上您的電腦,。膜層實例幾乎任何光滑,、半透明、低吸收的膜都能測,。包括:sio2(二氧化硅)sinx(氮化硅)dlc(類金剛石碳)photoresist,。紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量。
電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學,,半導體,,以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。
測量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì),,鈍化層,,或掩膜材料被廣泛應用于半導體產(chǎn)業(yè)。這個案例中,,我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度,,折射率,和消光系數(shù),。有趣的事,,氮化硅薄膜的光學性質(zhì)與薄膜的分子當量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴散模型,,F(xiàn)20-UVX可以很容易地測量氮化硅薄膜的厚度和光學性質(zhì),,不管他們是富硅,貧硅,,還是分子當量,。 F40-EXR范圍:20nm-120μm;波長:400-1700nm,。Filmetrics F-HC膜厚儀原理
當測量斑點只有1微米(μm)時,,需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個系統(tǒng)。廣東膜厚儀國內(nèi)用戶
鏡頭組件Filmetrics 提供幾十種不同鏡頭配置。訂制專門用途 的鏡片一般在幾天之內(nèi)可以完成,。
LA-GL25-25-30-EXR用于 60-1000mm 工作距離的直徑 1" 鏡頭組件,,30mm 焦距鏡頭。KM-GL25用于直徑 1" 鏡頭的簡化動力支架,。 可以在兩個軸上斜向調(diào)節(jié),。 8-32 安裝螺紋。KM-F50用于直徑 0.5" 鏡頭的簡化動力支架,。 還可以用于 F50,。可提供不同的鏡頭組合,。LA-F50/SS-13-20-UVX小光斑 (200um) 選項,,可見光, 近紅外或紫外線,。
如果您想要了解更多的信息,,請聯(lián)系我們岱美儀器。 廣東膜厚儀國內(nèi)用戶
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,,是一家磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)作為磁記錄、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的企業(yè)之一,,為客戶提供良好的磁記錄,半導體,,光通訊生產(chǎn),,測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,,既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,,又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域,實現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)創(chuàng)始人陳玲玲,,始終關(guān)注客戶,創(chuàng)新科技,,竭誠為客戶提供良好的服務(wù),。