為了優(yōu)化工藝鏈,，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備,。作為一項特殊功能,，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制,。

通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案,，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。

*根據(jù)ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術(shù),，具有出色的復(fù)制保真度

全自動壓印和受控的低力分離,，可很大程度地重復(fù)使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化時間**快

優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板 SmartNIL技術(shù)可提供功能強大的下一代光刻技術(shù),，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。EVG6200NT納米壓印高性價比選擇

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

晶片納米壓印優(yōu)惠價格IQ Aligner UV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)，是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng),。

    面板廠為補償較低的開口率,，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù),，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程,，可確保適當?shù)拈_口率,，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜,。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小,。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程,。不僅制程時間長,，經(jīng)過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙,，無法完整顯示影像,。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備，可一次形成55吋,、60吋面板的偏光膜圖樣,。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板,。南韓業(yè)者表示,，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個創(chuàng)新任務(wù),。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時程，偏光膜企業(yè)的營收可能減少,。（來自網(wǎng)絡(luò),。

       EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對*復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化,。技術(shù),，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo客戶IP的強大政策的框架內(nèi),，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的,，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案,。”

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾,，即在工業(yè),，企業(yè)和消費者等所有主要市場領(lǐng)域釋放AR在大眾市場的應(yīng)用，并遵循公司模塊計劃的推出,。 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案,，適用于第3代基材,。

關(guān)于WaveOptics       

      WaveOptics是衍射波導(dǎo)的全球**設(shè)計商和制造商，衍射波導(dǎo)是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學(xué)組件,。

      諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設(shè)備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實世界之上的數(shù)字圖像,。有兩個關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式,。

WaveOptics的波導(dǎo)技術(shù)可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中,。該技術(shù)可產(chǎn)生大的眼框，雙目觀察和高視野,。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖,。WaveOptics的波導(dǎo)提供清晰，無失真的文本以及穩(wěn)定的圖像,。

      WaveOptics技術(shù)旨在用于工業(yè),，企業(yè)和消費者市場的沉浸式AR體驗。該公司的目標是,，憑借其獨特的技術(shù)和專業(yè)知識,，其波導(dǎo)將成為所有AR可穿戴設(shè)備中使用的he心光學(xué)組件，以實現(xiàn)****的制造可擴展性和視覺性能,，并為眾多應(yīng)用提供多功能性,。 SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。EVG610納米壓印當?shù)貎r格

EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng),。EVG6200NT納米壓印高性價比選擇

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法,，因為它不受光學(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結(jié)構(gòu),。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù),，可提供功能強大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能,。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,，同時保留了可擴展性和易于維護的操作,。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間,。

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān),。 EVG6200NT納米壓印高性價比選擇

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶提供良好的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),，一切以用戶需求為中心,，深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念,，在儀器儀表深耕多年,，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點,，發(fā)揮人才優(yōu)勢,，打造儀器儀表良好品牌。在社會各界的鼎力支持下,，持續(xù)創(chuàng)新,，不斷鑄造***服務(wù)體驗，為客戶成功提供堅實有力的支持,。