銦錫氧化物與透明導(dǎo)電氧化物液晶顯示器,，有機發(fā)光二極管變異體,，以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導(dǎo)電氧化物 (TCO) 來傳輸電流,，并作每個發(fā)光元素的陽極。 和任何薄膜工藝一樣,，了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要,。 對于液晶顯示器而言，就需要有測量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法,，對有機發(fā)光二極管而言,，則需要測量發(fā)光、電注入和封裝層的厚度,。

在測量任何多個層次的時候,，諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學(xué)技術(shù)需要測量或建模估算每一個層次的厚度和光學(xué)常數(shù) (反射率和 k 值)。

不幸的是,，使得氧化銦錫和其他透明導(dǎo)電氧化物在顯示器有用的特性,，同樣使這些薄膜層難以測量和建模，從而使測量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難,。Filmetrics 的氧化銦錫解決方案Filmetrics 已經(jīng)開發(fā)出簡便易行而經(jīng)濟有效的方法,，利用光譜反射率精確測量氧化銦錫。 將新型的氧化銦錫模式和 F20-EXR, 很寬的 400-1700nm 波長相結(jié)合,，從而實現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析,。 氧化銦錫層的特性一旦得到確定，剩余顯示層分析的關(guān)鍵就解決了,。

FSM 413 紅外干涉測量設(shè)備

關(guān)鍵詞：厚度測量,，光學(xué)測厚,，非接觸式厚度測量，硅片厚度,，氮化硅厚度,，激光測厚，近紅外光測厚,，TSV, CD, Trench,，砷化鎵厚度，磷化銦厚度,，玻璃厚度測量,，石英厚度，聚合物厚度, 背磨厚度,，上下兩個測試頭,。Michaelson干涉法，翹曲變形,。    

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產(chǎn)品名稱：紅外干涉厚度測量設(shè)備

·       產(chǎn)品型號：FSM 413EC, FSM 413MOT,，F(xiàn)SM 413SA DP,，F(xiàn)SM413C2C, FSM 8108 VITE C2C

如果您需要更多的信息,，請聯(lián)系我們岱美儀器。 Filmetrics F10-RT膜厚儀技術(shù)支持可見光可測試的深度,，良好的厚樣以及多層樣品的局部應(yīng)力,。

F50 系列

包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標準BK7 參考材料整平濾波器 (用于高反射基板)真空泵備用燈

型號 厚度范圍*波長范圍

F50：20nm-70μm 380-1050nm

F50-UV：5nm-40μm 190-1100nm

F50-NIR：100nm-250μm 950-1700nm

F50-EXR：20nm-250μm 380-1700nm

F50-UVX：5nm-250μm 190-1700nm

F50-XT：0.2μm-450μm 1440-1690nm

F50-s980：4μm-1mm 960-1000nm

F50-s1310：7μm-2mm 1280-1340nm

F50-s1550：10μm-3mm 1520-1580nm

額外的好處：每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃

FSM 413SP

AND FSM 413C2C 紅外干涉測量設(shè)備

適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅、藍寶石,、砷化鎵,、磷化銦、碳化硅,、玻璃,、石  英、聚合物…………

應(yīng)用:

   襯底厚度(不受圖案硅片,、有膠帶,、凹凸或者粘合硅片影響)

   平整度

   厚度變化 (TTV)

   溝槽深度

   過孔尺寸、深度,、側(cè)壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

不同半導(dǎo)體材料的厚度

   環(huán)氧樹脂厚度

   襯底翹曲度

   晶圓凸點高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度,、側(cè)壁角度...

FSM413SP半自動機臺人工取放芯片

Wafer 厚度3D圖形

FSM413C2C Fully

automatic 全自動機臺人工取放芯片

可適配Cassette、SMIF POD,、FOUP.

測量復(fù)雜的有機材料典型的有機發(fā)光顯示膜包括幾層： 空穴注入層,，空穴傳輸層,，以及重組/發(fā)光層。所有這些層都有不尋常有機分子（小分子和/或聚合物）,。雖然有機分子高度反常色散,，測量這些物質(zhì)的光譜反射充滿挑戰(zhàn)，但對Filmetrics卻不盡然,。我們的材料數(shù)據(jù)庫覆蓋整個OLED的開發(fā)歷史,，能夠處理隨著有機分子而來的高折射散射和多種紫外光譜特征。軟基底上的薄膜有機發(fā)光顯示器具有真正柔性顯示的潛力,，要求測量像PET（聚乙烯）塑料這樣有高雙折射的基準,，這對托偏儀測量是個嚴重的挑戰(zhàn)： 或者模擬額外的復(fù)雜光學(xué)，或者打磨PET背面,。 而這些對我們非偏振反射光譜來說都不需要,，極大地節(jié)約了人員培訓(xùn)和測量時間。操作箱中測量有機發(fā)光顯示器材料對水和氧極度敏感,。 很多科研小組都要求在控制的干燥氮氣操作箱中測量,。 而我們體積小，模塊化,，光纖設(shè)計的儀器提供非密封,、實時“操作箱”測量,。可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力,。測厚儀膜厚儀有哪些應(yīng)用

紫外光可測試的深度：***的薄膜（SOI 或 Si-SiGe）或者厚樣的近表面局部應(yīng)力,。盒厚膜厚儀實惠價格

    光刻膠）polyerlayers（高分子聚合物層）polymide（聚酰亞胺）polysilicon（多晶硅）amorphoussilicon（非晶硅）基底實例：對于厚度測量，大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑,、反射的基底。對于光學(xué)常數(shù)測量,，需要一塊平整的鏡面反射基底,；如果基底是透明的，基底背面需要進行處理使之不能反射,。包括：silicon（硅）glass（玻璃）aluminum（鋁）gaas（砷化鎵）steel（鋼）polycarbonate（聚碳酸脂）polymerfilms（高分子聚合物膜）應(yīng)用半導(dǎo)體制造液晶顯示器光學(xué)鍍膜photoresist光刻膠oxides氧化物nitrides氮化物cellgaps液晶間隙polyimide聚酰亞胺ito納米銦錫金屬氧化物hardnesscoatings硬鍍膜anti-reflectioncoatings增透鍍膜filters濾光f20使用**仿真活動來分析光譜反射率數(shù)據(jù),。標準配置和規(guī)格F20-UVF20F20-NIRF20-EXR只測試厚度1nm~40μm15nm~100μm100nm~250μm15nm~250μm測試厚度和n&k值50nmandup100nmandup300nmandup100nmandup波長范圍200-1100nm380-1100nm950-1700nm380-1700nm準確度大于％或2nm精度1A2A1A穩(wěn)定性光斑大小20μm至可選樣品大小1mm至300mm及更大探測器類型1250-元素硅陣列512-元素砷化銦鎵1000-元素硅&512-砷化銦鎵陣列光源鎢鹵素?zé)簟：泻衲ず駜x實惠價格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),，發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,。目前我公司在職員工以90后為主，是一個有活力有能力有創(chuàng)新精神的團隊,。誠實,、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求，也是我們做人的基本準則,。公司致力于打造***的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。一直以來公司堅持以客戶為中心、磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)市場為導(dǎo)向,，重信譽,，保質(zhì)量，想客戶之所想,，急用戶之所急,，全力以赴滿足客戶的一切需要。