Abouie M 等人［4］針對金—硅共晶鍵合過程中凹坑對鍵合質(zhì)量的影響展開研究，提出一種以非晶硅為基材的金—硅共晶鍵合工藝以減少凹坑的形成,，但非晶硅的實(shí)際應(yīng)用限制較大,。康興華等人［5］加工了簡單的多層硅—硅結(jié)構(gòu),，但不涉及對準(zhǔn)問題,，實(shí)際應(yīng)用的價(jià)值較小。陳穎慧等人［6］以金— 硅共晶鍵合技術(shù)對 MEMS 器件進(jìn)行了圓片級封裝［6］,，其鍵合強(qiáng)度可以達(dá)到 36 MPa,，但鍵合面積以及鍵合密封性不太理想，不適用一些敏感器件的封裝處理,。袁星等人［7]對帶有微結(jié)構(gòu)的硅—硅直接鍵合進(jìn)行了研究,，但其硅片不涉及光刻、深刻蝕、清洗等對硅片表面質(zhì)量影響較大的工藝,，故其鍵合工藝限制較大,。EVG服務(wù)：高真空對準(zhǔn)鍵合、集體D2W鍵合,、臨時(shí)鍵合和熱,、混合鍵合、機(jī)械或者激光剖離,、黏合劑鍵合,。研究所鍵合機(jī)值得買

EVG?6200鍵合機(jī)選件 自動對準(zhǔn) 紅外對準(zhǔn)，用于內(nèi)部基板鍵對準(zhǔn) NanoAlign?包增強(qiáng)加工能力 可與系統(tǒng)機(jī)架一起使用 掩模對準(zhǔn)器的升級可能性 技術(shù)數(shù)據(jù) 常規(guī)系統(tǒng)配置 桌面 系統(tǒng)機(jī)架：可選 隔振：被動 對準(zhǔn)方法 背面對準(zhǔn)：±2μm3σ 透明對準(zhǔn)：±1μm3σ 紅外校準(zhǔn)：選件 對準(zhǔn)階段 精密千分尺：手動 可選：電動千分尺 楔形補(bǔ)償：自動 基板/晶圓參數(shù) 尺寸：2英寸,，3英寸,，100毫米，150毫米,，200毫米 厚度：0.1-10毫米 蕞/高堆疊高度：10毫米 自動對準(zhǔn) 可選的 處理系統(tǒng) 標(biāo)準(zhǔn)：3個(gè)卡帶站 可選：蕞多5個(gè)站吉林鍵合機(jī)技術(shù)支持EVG的鍵合機(jī)設(shè)備占據(jù)了半自動和全自動晶圓鍵合機(jī)的主要市場份額,，并且安裝的機(jī)臺已經(jīng)超過1500套。

EV Group開發(fā)了MLE?（無掩模曝光）技術(shù),，通過消 除與掩模相關(guān)的困難和成本,，滿足了HVM世界中設(shè)計(jì)靈活性和蕞小開發(fā)周期的關(guān)鍵要求。 MLE?解決了多功能（但緩慢）的開發(fā)設(shè)備與快 速（但不靈活）的生產(chǎn)之間的干擾,。它提供了可擴(kuò)展的解決方案,，可同時(shí)進(jìn)行裸片和晶圓級設(shè)計(jì)，支持現(xiàn)有材料和新材料,，并以高可靠性提供高速適應(yīng)性,，并具有多級冗余功能，以提高產(chǎn)量和降低擁有成本（CoO）,。

EVG的MLE?無掩模曝光光刻技術(shù)不僅滿足先進(jìn)封裝中后端光刻的關(guān)鍵要求,，而且還滿足MEMS，生 物醫(yī)學(xué)和印刷電路板制造的要求,。

EVG®301特征

使用1MHz的超音速噴嘴或區(qū)域傳感器（可選）進(jìn)行高/效清潔

單面清潔刷（選件）

用于晶圓清洗的稀釋化學(xué)品

防止從背面到正面的交叉污染

完全由軟件控制的清潔過程

選件

帶有紅外檢查的預(yù)鍵合臺

非SEMI標(biāo)準(zhǔn)基材的工具

技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）：200和100-300毫米

清潔系統(tǒng)

開室,，旋轉(zhuǎn)器和清潔臂

腔室：由PP或PFA制成（可選）

清潔介質(zhì)：去離子水（標(biāo)準(zhǔn)），其他清潔介質(zhì)（可選）

旋轉(zhuǎn)卡盤：真空卡盤（標(biāo)準(zhǔn)）和邊緣處理卡盤（選件）,，由不含金屬離子的清潔材料制成

旋轉(zhuǎn)：蕞高3000rpm（5秒內(nèi)）

超音速噴嘴

頻率：1MHz（3MHz選件）

輸出功率：30-60W

去離子水流量：蕞高1.5升/分鐘

有效清潔區(qū)域：?4.0mm

材質(zhì)：聚四氟乙烯 烘烤/冷卻模塊-適用于GEMINI用于在涂布后和鍵合之前加工粘合劑層,。

熔融和混合鍵合系統(tǒng)：

熔融或直接晶圓鍵合可通過每個(gè)晶圓表面上的介電層長久連接，該介電層用于工程襯底或?qū)愚D(zhuǎn)移應(yīng)用,，例如背面照明的CMOS圖像傳感器,。

混合鍵合擴(kuò)展了與鍵合界面中嵌入的金屬焊盤的熔融鍵合，從而允許晶片面對面連接,?；旌辖壎ǖ闹饕獞?yīng)用是高級3D設(shè)備堆疊。

EVG的熔融和混合鍵合設(shè)備包含：EVG301單晶圓清洗系統(tǒng)；EVG320自動化單晶圓清洗系統(tǒng),；EVG810LT低溫等離子基活系統(tǒng),；EVG850LTSOI和晶圓直接鍵合自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)；EVG850SOI和晶圓直接鍵合自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng),；GEMINIFB自動化生產(chǎn)晶圓鍵合系統(tǒng),；BONDSCALE自動化熔融鍵合生產(chǎn)系統(tǒng),。 EVG鍵合機(jī)的特征有：壓力高達(dá)100 kN,、基底高達(dá)200mm、溫度高達(dá)550°C,、真空氣壓低至1·10-6 mbar,。美元報(bào)價(jià)鍵合機(jī)用途是什么

EVG 晶圓鍵合機(jī)上的鍵合過程是怎么樣的呢？研究所鍵合機(jī)值得買

隨著現(xiàn)在科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,，儀器儀表行業(yè)發(fā)生了突飛猛進(jìn)的發(fā)展,，再加上當(dāng)前計(jì)算機(jī)技術(shù)、網(wǎng)絡(luò)技術(shù)的進(jìn)步和發(fā)展,，組建網(wǎng)絡(luò)而構(gòu)成實(shí)用的監(jiān)控系統(tǒng),，可以提高生產(chǎn)效率和共享信息資源方向發(fā)展。當(dāng)前儀器儀表行業(yè)產(chǎn)品發(fā)展呈現(xiàn)微型化,、多功能化,、智能化、網(wǎng)絡(luò)化四大發(fā)展趨勢,。隨著網(wǎng)絡(luò)消費(fèi)的不斷遞增,，而互聯(lián)網(wǎng)的的商業(yè)價(jià)值不斷被挖掘出來，呈爆發(fā)式增長,，傳統(tǒng)的營銷模式將逐步被取代,。有限責(zé)任公司企業(yè)要抓住機(jī)遇，融入到互聯(lián)網(wǎng)發(fā)展的行業(yè)中,，為行業(yè)的發(fā)展提高競爭力,。隨著手機(jī)移動網(wǎng)絡(luò)的消費(fèi)潛力不斷隱現(xiàn)，消費(fèi)者利用手機(jī)消費(fèi)的頻率和份額逐年遞增,。移動互聯(lián)網(wǎng)所隱藏的商業(yè)價(jià)值被更多地挖掘出來之后,，各種傳統(tǒng)行業(yè)（包括磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)行業(yè)）的移動網(wǎng)上平臺相繼誕生。隨著中國的不斷進(jìn)步,，世界上只有一個(gè)救世主——市場,，能救企業(yè)的只有你自己——自強(qiáng)，提高其他型重點(diǎn)競爭力才是中國制造業(yè)的獨(dú)一出路。以顯微科學(xué)儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例,，以親身的實(shí)踐為例,，毛磊認(rèn)為，隨著經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展,，我國的環(huán)境和實(shí)力都發(fā)生了巨大變化,，有了完全不同的基礎(chǔ)，這為國產(chǎn)科學(xué)儀器走向**增強(qiáng)了信心,。研究所鍵合機(jī)值得買

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),，發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大。一批專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),，是實(shí)現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標(biāo)的基礎(chǔ),，是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動力。公司以誠信為本,，業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),，我們本著對客戶負(fù)責(zé)，對員工負(fù)責(zé),，更是對公司發(fā)展負(fù)責(zé)的態(tài)度,，爭取做到讓每位客戶滿意。公司深耕磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),，正積蓄著更大的能量,，向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展,。