納米壓印應(yīng)用一:鏡片成型
晶圓級光學(xué)(WLO)的制造得到EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復(fù)制來的工作印模,,通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉(zhuǎn)移到光學(xué)聚合物材料中,。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,可以輕松地適應(yīng)各種材料組合,,以用于工作印模和微透鏡材料,。EVG系統(tǒng)是客戶進(jìn)行大批量晶圓級鏡頭復(fù)制的優(yōu)先。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,,歡迎各位聯(lián)系我們,,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步,。
高 效,,強(qiáng)大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,,易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量,。江蘇納米壓印聯(lián)系電話
SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù),可用于顯示器,,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新,。例如,SmartNIL提供了****的全區(qū)域共形壓印,,以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標(biāo)準(zhǔn),。SmartNIL還非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)的微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化,以支持下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備的生產(chǎn),。此外,,SmartNIL的***發(fā)展為制造具有比較高功能,**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,,這對于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件(DOE)至關(guān)重要,。
特征:
體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度
專有SmartNIL ®技術(shù),,多使用聚合物印模技術(shù)
經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的分辨率低至40 nm或更小
大面積全場壓印
總擁有成本比較低
在地形上留下印記
對準(zhǔn)能力
室溫過程
開放式材料平臺 山東晶圓納米壓印SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,,因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,。
EVG ® 520 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用
自動(dòng)化壓花工藝
EVG專有的**對準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印
氣動(dòng)壓花選項(xiàng)
軟件控制的流程執(zhí)行
EVG ® 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù)
加熱器尺寸:150毫米,,200毫米
比較大基板尺寸:150毫米,,200毫米
**小基板尺寸:單芯片,100毫米
比較大接觸力:10,、20,、60、100 kN
比較高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C,;可選:550°C
粘合卡盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng)
150毫米加熱器:EVG ® 610,,EVG ® 620,EVG ® 6200
200毫米加熱器:EVG ® 6200,,MBA300,,的Smart View ® NT
真空:
標(biāo)準(zhǔn):0.1毫巴
可選:0.00001 mbar
EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)
分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作
EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺,,可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化,。這種方法允許從**
大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版,。
EVG770的主要功能包括精確的對準(zhǔn)功能,完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性,。 EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng),。
納米壓印光刻(NIL) -SmartNIL ®
用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝
介紹:
EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場**設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn),。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,,以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求,。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果,。
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IQ Aligner UV-NIL是自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng),,是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng),。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印價(jià)格
分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。江蘇納米壓印聯(lián)系電話
納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計(jì)劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography,;NIL),,現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù),。據(jù)ETNews報(bào)導(dǎo),,南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,,未確認(rèn)NIL設(shè)備實(shí)際圖樣形成能力,直接參訪海外NIL設(shè)備廠,。該制程研發(fā)小組透露,,若引進(jìn)相關(guān)設(shè)備,將可提升面板性能,。并已展開具體供貨協(xié)商,。NIL是以刻印圖樣的壓印機(jī),像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程,。在基板上涂布UV感光液后,,再以壓印機(jī)接觸施加壓力,印出面板圖樣,。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣,。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜,。雖然在面板制程中需增加NIL,、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,,可維持同樣的生產(chǎn)成本,。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,,將不會發(fā)生降低亮度的情況,。通常面板分辨率越高,因配線較多,,較難確保開口率(ApertureRatio),。江蘇納米壓印聯(lián)系電話
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司辦公設(shè)施齊全,辦公環(huán)境優(yōu)越,,為員工打造良好的辦公環(huán)境,。專業(yè)的團(tuán)隊(duì)大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗(yàn),熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能,,致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌,。公司以用心服務(wù)為重點(diǎn)價(jià)值,希望通過我們的專業(yè)水平和不懈努力,,將磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】等業(yè)務(wù)進(jìn)行到底,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主營業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄,,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),,測試儀器的批發(fā),,堅(jiān)持“質(zhì)量保證、良好服務(wù),、顧客滿意”的質(zhì)量方針,,贏得廣大客戶的支持和信賴。