EVG ® 610曝光源：

汞光源/紫外線LED光源

楔形補償

全自動軟件控制

晶圓直徑（基板尺寸）

高達100/150/200毫米

曝光設定：

真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式

曝光選項：

間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

先進的對準功能：

手動對準/原位對準驗證

手動交叉校正

大間隙對準

EVG ® 610光刻機系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR

實時遠程訪問，診斷和故障排除

使用的納米壓印光刻技術為“無紫外線” HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,、大間隙、晶圓平面或紅外對準,，在可編程位置自動定位,。中國香港HVM光刻機

此外,，EVG光刻機不斷關注未來的市場趨勢 - 例如光學3D傳感和光子學 - 并為這些應用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案,，以滿足客戶不斷變化的需求。我們用持續(xù)的技術和市場地位證明了這一點,，包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的****的經(jīng)驗,，這些抗蝕劑針對獨特的要求和參數(shù)進行了優(yōu)化。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎,。只有接近客戶,，才能得知客戶**真實的需求,，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。廣東光刻機傳感器應用可在眾多應用場景中找到EVG的設備應用,，包括高級封裝,，化合物半導體,，功率器件,，LED，傳感器和MEMS,。

EVG ® 6200 NT掩模對準系統(tǒng)（半自動/自動）

特色：EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

技術數(shù)據(jù)：EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,，可在**小的占位面積上提供**/先進的掩模對準技術,，并具有**/高的產(chǎn)能,，先進的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本。操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT或完全安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統(tǒng)有半自動或自動配置,，并配有集成的振動隔離功能,，可在廣/泛的應用中實現(xiàn)出色的曝光效果,，例如薄和厚光刻膠的曝光,，深腔和類似地形的圖案，以及薄而易碎的材料（例如化合物半導體）的加工,。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術,。

EVG770自動UV-NIL納米壓印步進機，用于制作主圖章,。母模是晶圓大小的模板，里面完全裝有微透鏡模具,，每個模具都采用分步重復的方法從一個透鏡模板中復制,。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始,，提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程，具有****的鏡片位置精度和**鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復性晶圓級相機模塊,。

IQ Aligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng)，用于UV微透鏡成型,。軟UV壓印光刻技術是用于制造聚合物微透鏡（WLO系統(tǒng)的關鍵要素）的高度并行技術,。EVG從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始,，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其應用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合,。此外,，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關的材料專業(yè)知識,。

EVG40 NT自動測量系統(tǒng)。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,，計量對于驗證是否符合嚴格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關重要,。在WLO制造中,，EVG的度量衡解決方案可用于關鍵尺寸（CD）測量和透鏡疊層對準驗證，以及許多其他應用。 EVG的掩模對準目標是適用于高達300 mm的不同的厚度,，尺寸,，形狀的晶圓和基片,。

HERCULES®

■   全自動光刻跟/蹤系統(tǒng)，模塊化設計,，用于掩模和曝光，集成了預處理和后處理能力

■   高產(chǎn)量的晶圓加工

■   **多8個濕法處理模塊以及多達24個額外烘烤,，冷卻和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技術進行對準和曝光

■   **的柜內(nèi)化學處理

■   支持連續(xù)操作模式(CMO)

EVG光刻機可選項有：

手動和自動處理

我們所有的自動化系統(tǒng)還支持手動基片和掩模加載功能，以便進行過程評估,。此外，該系統(tǒng)可以配置成處理彎曲,，翹曲,，變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片,。各種晶圓卡盤設計毫無任何妥協(xié)，帶來**/大的工藝靈活性和基片處理能力,。我們的掩模對準器配有機械或非接觸式光學預對準器，以確保**/佳的工藝能力和產(chǎn)量,。Load＆Go選項可在自動化系統(tǒng)上提供超快的流程啟動。 HERCULES平臺是“一站式服務”平臺,。河北EVG620光刻機

HERCULES光刻機系統(tǒng)：全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設計，用于掩模和曝光,，集成了預處理和后處理能力,。中國香港HVM光刻機

我們可以根據(jù)您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。

我們的掩模對準系統(tǒng)設計用于從掩模對準到鍵合對準的快速簡便轉換。此外,，可以使用用于壓印光刻的可選工具集,，例如UV-納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷,。所有系統(tǒng)均支持原位對準驗證軟件，以提高手動操作系統(tǒng)的對準精度和可重復性,。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動基片處理，實現(xiàn)現(xiàn)場升級,。此外，所有掩模對準器都支持EVG專有的NIL技術,。如果您需要納米壓印設備,，請訪問我們的官網(wǎng),，或者直接聯(lián)系我們。 中國香港HVM光刻機

岱美儀器技術服務（上海）有限公司一直專注于磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿(mào)易、轉口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易,、轉口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】，是一家儀器儀表的企業(yè)，擁有自己**的技術體系,。公司目前擁有專業(yè)的技術員工,，為員工提供廣闊的發(fā)展平臺與成長空間,，為客戶提供高質的產(chǎn)品服務，深受員工與客戶好評,。誠實,、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求,，也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄,，半導體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),。公司憑著雄厚的技術力量、飽滿的工作態(tài)度,、扎實的工作作風,、良好的職業(yè)道德,，樹立了良好的磁記錄，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)形象,，贏得了社會各界的信任和認可。