曝光光學(xué)：提供不同配置的曝光光學(xué)系統(tǒng)，旨在實現(xiàn)任何應(yīng)用的**/大靈活性,。汞燈曝光光學(xué)系統(tǒng)針對150,，200和300 mm基片進(jìn)行了優(yōu)化，可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,，例如i-,，g-和h-線濾光片，甚至還有深紫外線,。 我們用持續(xù)的技術(shù)和市場領(lǐng)導(dǎo)地位證明了自己的實力,，包括EVG在使用各種非標(biāo)準(zhǔn)抗蝕劑方面的****的經(jīng)驗?；衔锇雽?dǎo)體光刻機(jī)要多少錢

IQ Aligner®NT技術(shù)數(shù)據(jù)：

產(chǎn)能：

全自動：首/次生產(chǎn)量印刷：每小時200片

全自動：吞吐量對準(zhǔn)：每小時160片晶圓

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，晶圓邊緣處理

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架SW平臺）

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能

事/故和警報分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米

對準(zhǔn)方式：

頂部對準(zhǔn)：≤±0,25 μm

底側(cè)對準(zhǔn)：≤±0.5 μm

紅外對準(zhǔn)：≤±2,0 μm /取決于基材 襯底光刻機(jī)干涉測量應(yīng)用EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新的標(biāo)準(zhǔn),。

IQ Aligner特征：

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /

8''

由于外部晶圓楔形測量，實現(xiàn)了非接觸式接近模式

增強(qiáng)的振動隔離,，有效減少誤差

各種對準(zhǔn)功能提高了過程靈活性

跳動控制對準(zhǔn)功能,，提高了效率

多種晶圓尺寸的易碎，薄或翹曲的晶圓處理

高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗

手動基板裝載能力

遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

IQ Aligner附加功能：

紅外對準(zhǔn)–透射和/或反射

IQ Aligner技術(shù)數(shù)據(jù)：

楔形補(bǔ)償：全自動軟件控制

非接觸式

先進(jìn)的對準(zhǔn)功能：自動對準(zhǔn),；大間隙對準(zhǔn),；跳動控制對準(zhǔn)；動態(tài)對準(zhǔn)

EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。對于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形,，掩模對準(zhǔn)器是**/具成本效益的技術(shù)，與其他解決方案相比，每層可節(jié)省30％以上的成本,，這對用戶來說是至關(guān)重要的,。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合，并由卓/越的全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持,。**重要的是,，大焦深曝光光學(xué)系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑，表面形貌和非平面基片的圖形,。在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機(jī)系統(tǒng)，得到了他們的無數(shù)好評,。EVG光刻機(jī)**/新的曝光光學(xué)增強(qiáng)功能是對LED燈的設(shè)置,。

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)

所述HERCULES ®是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統(tǒng)中，縮小處理工序和操作者支持,。

HERCULES基于模塊化平臺,，將EVG建立的光學(xué)掩模對準(zhǔn)技術(shù)與集成的晶圓清洗，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合,。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理。HERCULES安全地處理厚,，彎曲度高,，矩形，小直徑的晶圓,，甚至可以處理設(shè)備托盤,。精密的頂側(cè)和底側(cè)對準(zhǔn)以及亞微米至超厚（**/大300微米）光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應(yīng)用。出色的對準(zhǔn)臺設(shè)計可實現(xiàn)高產(chǎn)量的高精度對準(zhǔn)和曝光結(jié)果,。

EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)（自動化和半自動化）支持的晶圓尺寸 ：150 mm / 200 mm,。本地光刻機(jī)優(yōu)惠價格

IQ Aligner NT 光刻機(jī)系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片，支持200mm和300mm尺寸的晶圓,?；衔锇雽?dǎo)體光刻機(jī)要多少錢

儀器儀表行業(yè)飛速發(fā)展一是因為我國的經(jīng)濟(jì)高速穩(wěn)定發(fā)展的運行;按照過去的經(jīng)驗，如果GDP的增長在10%以上時,，儀表行業(yè)的增長率則在26%～30%之間,。二是因為我國宏觀調(diào)控對儀表行業(yè)的影響有一個滯后期，儀表往往在工程的后期才交付使用,，因此,，因宏觀調(diào)控政策而減少的收入對儀表行業(yè)的影響不會太大。進(jìn)一步提升我國儀器儀表技術(shù)和水平,，有限責(zé)任公司企業(yè)要順應(yīng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展潮流,，在穩(wěn)固常規(guī)品種的同時，進(jìn)一步發(fā)展智能儀器儀表,，提升產(chǎn)業(yè)數(shù)字化,、智能化、集成化水平,。隨著手機(jī)移動網(wǎng)絡(luò)的消費潛力不斷隱現(xiàn),，消費者利用手機(jī)消費的頻率和份額逐年遞增。移動互聯(lián)網(wǎng)所隱藏的商業(yè)價值被更多地挖掘出來之后,，各種傳統(tǒng)行業(yè)（包括磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)行業(yè)）的移動網(wǎng)上平臺相繼誕生,。隨著中國的不斷進(jìn)步，世界上只有一個救世主——市場,，能救企業(yè)的只有你自己——自強(qiáng),，提高其他型重點競爭力才是中國制造業(yè)的獨一出路。以顯微科學(xué)儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例,，以親身的實踐為例,，毛磊認(rèn)為，隨著經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展,，我國的環(huán)境和實力都發(fā)生了巨大變化,，有了完全不同的基礎(chǔ)，這為國產(chǎn)科學(xué)儀器走向**增強(qiáng)了信心,?；衔锇雽?dǎo)體光刻機(jī)要多少錢

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，交通便利,，環(huán)境優(yōu)美,，是一家其他型企業(yè)。是一家有限責(zé)任公司企業(yè),，隨著市場的發(fā)展和生產(chǎn)的需求,，與多家企業(yè)合作研究，在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上經(jīng)過不斷改進(jìn),，追求新型,，在強(qiáng)化內(nèi)部管理，完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時,，良好的質(zhì)量,、合理的價格、完善的服務(wù),，在業(yè)界受到寬泛好評,。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),，價格合理，品質(zhì)有保證,，深受廣大客戶的歡迎,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)自成立以來，一直堅持走正規(guī)化,、專業(yè)化路線,，得到了廣大客戶及社會各界的普遍認(rèn)可與大力支持。