EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品，使用**/先進的工程技術(shù),。

用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關(guān)鍵參數(shù)決定,。亞微米對準精度，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,，以及對應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標準。此外,，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設(shè)計和不斷增強EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務(wù)的發(fā)展和提升我們的理念，使我們能夠跳出思維框架,，創(chuàng)造更先進的系統(tǒng),。 EVG光刻機關(guān)注未來市場趨勢 - 例如光子學 、光學3D傳感- 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案,。甘肅EVG610光刻機

EVG ® 101--先進的光刻膠處理系統(tǒng)

主要應(yīng)用：研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單腔設(shè)計中執(zhí)行研發(fā)類型的工藝,，與EVG的自動化系統(tǒng)完全兼容。EVG101光刻膠處理機支持**/大300 mm的晶圓,，并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應(yīng)用,。通過EVG先進的OmniSpray涂層技術(shù)，在互連技術(shù)的3D結(jié)構(gòu)晶圓上獲得了光致光刻膠或聚合物的保形層,。這確保了珍貴的高粘度光刻膠或聚合物的材料消耗降低,，同時提高了均勻性和光刻膠鋪展選擇,。這**地節(jié)省了用戶的成本。

奧地利光刻機供應(yīng)商家EVG已經(jīng)與研究機構(gòu)合作超過35年,，能夠深入了解他們的獨特需求,。

EVG ® 120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)

EVG ® 120是用于當潔凈室空間有限，需要生產(chǎn)一種緊湊的,，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng),。

新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設(shè)計,，并帶有新開發(fā)的化學柜,，可用于外部存儲化學品，同時提供更高的通量能力,，針對大批量客戶需求進行了優(yōu)化,，并準備在大批量生產(chǎn)（HVM）中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處，這是其他任何工具所無法比擬的,，并保證了**/高的質(zhì)量各個應(yīng)用領(lǐng)域的標準,，擁有成本卻非常低。

這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝,，這不僅需要高度的靈活性,，而且需要可控和可重復(fù)的處理。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗,，并將這些知識技能整合到EVG100系列中,，可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持。

光刻膠處理設(shè)備有：EVG101光刻膠處理,，EVG105光刻膠烘焙機,，EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng)；EVG150 光刻膠處理自動化系統(tǒng),。如果您需要了解每個型號的特點和參數(shù),，請聯(lián)系我們，我們會給您提供**/新的資料,?；蛘咴L問我們的官網(wǎng)獲取相關(guān)信息。

HERCULES對準精度：上側(cè)對準：≤±0.5 μm,；底側(cè)對準：≤±1,0 μm,；紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材。

掩模對準系統(tǒng)：EVG的發(fā)明,，例如1985年世界上較早的擁有底面對準功能的系統(tǒng),，開創(chuàng)了頂面和雙面光刻，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例,，并設(shè)定了行業(yè)標準,。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器產(chǎn)品來增強這些**光刻技術(shù)，從而在這些領(lǐng)域做出了貢獻,。

EVG的掩模對準系統(tǒng)可容納尺寸**/大,，尺寸和形狀以及厚度**/大為300 mm的晶片和基板，旨在為高級應(yīng)用提供先進的自動化程度和研發(fā)靈活性的復(fù)雜解決方案,。EVG的掩模對準器和工藝能力已經(jīng)過現(xiàn)場驗證,，并已安裝在全球的生產(chǎn)設(shè)施中，以支持眾多應(yīng)用,，包括高級封裝,，化合物半導體，功率器件,，LED,，傳感器和MEMS制造。 EVG101是光刻膠處理,，EVG105是光刻膠烘焙機,，EVG120、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng),。甘肅EVG610光刻機

IQ Aligner NT 光刻機系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片,，支持200mm和300mm尺寸的晶圓。甘肅EVG610光刻機

EVG ® 150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

附加模塊選項

預(yù)對準：光學/機械

ID讀取器：條形碼,，字母數(shù)字，數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR 甘肅EVG610光刻機

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，以科技創(chuàng)新實現(xiàn)***管理的追求,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)作為磁記錄、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的企業(yè)之一,，為客戶提供良好的磁記錄，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以本分踏實的精神和必勝的信念,，影響并帶動團隊取得成功,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表行業(yè)。滿足市場需求,，提高產(chǎn)品價值,，是我們前行的力量。