EVG ® 620 NT 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)（半自動/自動）

特色：EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準(zhǔn)技術(shù)在**小化的占位面積，支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸,。

技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱，在**小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對準(zhǔn)功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本,，提供了**/先進(jìn)的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具,，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務(wù)和支持,，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。 HERCULES以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢,。掩模對準(zhǔn)光刻機微流控應(yīng)用

IQ Aligner工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)200毫米

對準(zhǔn)方式：

上側(cè)對準(zhǔn)：≤±0.5 μm

底側(cè)對準(zhǔn)：≤±1,0 μm

紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

曝光選項：間隔曝光/洪水曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

實時遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除

產(chǎn)能

全自動：第/一批生產(chǎn)量：每小時85片

全自動：吞吐量對準(zhǔn)：每小時80片 官方光刻機原理HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時、大間隙,、晶圓平面或紅外對準(zhǔn),，在可編程位置自動定位。

曝光光學(xué)：提供不同配置的曝光光學(xué)系統(tǒng),，旨在實現(xiàn)任何應(yīng)用的**/大靈活性,。汞燈曝光光學(xué)系統(tǒng)針對150,，200和300 mm基片進(jìn)行了優(yōu)化，可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,，例如i-,，g-和h-線濾光片，甚至還有深紫外線,。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的特征：

晶圓尺寸可達(dá)300毫米,；

自動旋轉(zhuǎn)或噴涂或通過手動晶圓加載/卸載進(jìn)行顯影；

利用成熟的模塊化設(shè)計和標(biāo)準(zhǔn)化軟件,，快速輕松地將過程從研究轉(zhuǎn)移到生產(chǎn),；

注射器分配系統(tǒng)，用于利用小體積的光刻膠,，包括高粘度光刻膠,；

占地面積小，同時保持較高的人身和流程安全性,；

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）,。

選項功能：

使用OmniSpray®涂層技術(shù)對高形晶圓表面進(jìn)行均勻涂層,；

蠟和環(huán)氧涂層，用于后續(xù)粘合工藝,；

玻璃旋涂（SOG）涂層,。

IQ Aligner光刻機支持的晶圓尺寸高達(dá)200 mm / 300 mm。

EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。對于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形,，掩模對準(zhǔn)器是**/具成本效益的技術(shù)，與其他解決方案相比,，每層可節(jié)省30％以上的成本,，這對用戶來說是至關(guān)重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,，并由卓/越的全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持,。**重要的是，大焦深曝光光學(xué)系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑,，表面形貌和非平面基片的圖形,。在全球范圍內(nèi)，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng),，得到了他們的無數(shù)好評,。EVG已經(jīng)與研究機構(gòu)合作超過35年，能夠深入了解他們的獨特需求,。上海EVG620 NT光刻機

EVG101光刻膠處理機可支持**/大300 mm的晶圓,。掩模對準(zhǔn)光刻機微流控應(yīng)用

儀器儀表行業(yè)飛速發(fā)展一是因為我國的經(jīng)濟(jì)高速穩(wěn)定發(fā)展的運行;按照過去的經(jīng)驗,，如果GDP的增長在10%以上時，儀表行業(yè)的增長率則在26%～30%之間,。二是因為我國宏觀調(diào)控對儀表行業(yè)的影響有一個滯后期,，儀表往往在工程的后期才交付使用，因此,，因宏觀調(diào)控政策而減少的收入對儀表行業(yè)的影響不會太大,。進(jìn)一步提升我國儀器儀表技術(shù)和水平，有限責(zé)任公司企業(yè)要順應(yīng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展潮流,，在穩(wěn)固常規(guī)品種的同時,，進(jìn)一步發(fā)展智能儀器儀表，提升產(chǎn)業(yè)數(shù)字化,、智能化,、集成化水平。隨著手機移動網(wǎng)絡(luò)的消費潛力不斷隱現(xiàn),，消費者利用手機消費的頻率和份額逐年遞增,。移動互聯(lián)網(wǎng)所隱藏的商業(yè)價值被更多地挖掘出來之后，各種傳統(tǒng)行業(yè)（包括磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)行業(yè)）的移動網(wǎng)上平臺相繼誕生,。中國其他型正面臨百年未有之大變局,，行業(yè)行家認(rèn)為，中美貿(mào)易戰(zhàn)不會有終點,，中美關(guān)系時好時壞將成為常態(tài),，儀器儀表行業(yè)無法排除大局勢的影響,，且不要把問題聚焦在關(guān)稅上,。中國經(jīng)濟(jì)的高速發(fā)展得益于WTO框架下的全球化分工;現(xiàn)在中國制造的競爭力在于工業(yè)門類齊全、供應(yīng)鏈完整,、供應(yīng)鏈的高度專業(yè)和細(xì)分,。掩模對準(zhǔn)光刻機微流控應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司一直專注于磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】,，是一家儀器儀表的企業(yè)，擁有自己**的技術(shù)體系,。公司目前擁有專業(yè)的技術(shù)員工,，為員工提供廣闊的發(fā)展平臺與成長空間，為客戶提供高質(zhì)的產(chǎn)品服務(wù),，深受員工與客戶好評,。誠實、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求,，也是我們做人的基本準(zhǔn)則,。公司致力于打造***的磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。公司憑著雄厚的技術(shù)力量,、飽滿的工作態(tài)度,、扎實的工作作風(fēng)、良好的職業(yè)道德,，樹立了良好的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)形象,，贏得了社會各界的信任和認(rèn)可。