我們的研發(fā)實力,。

EVG已經與研究機構合作超過35年，讓我們深入了解他們的獨特需求,。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供卓/越的技術和**/大的靈活性,，使大學、研究機構和技術開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應用項目,。此外,，研發(fā)設備與EVG的**技術平臺無縫集成，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產的整個制造鏈,。研發(fā)和全/面生產系統之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠將其流程遷移到批量生產環(huán)境,。以客戶的需求為導向，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力,。 EVG101光刻膠處理機可支持**/大300 mm的晶圓,。浙江襯底光刻機

EVG的光刻機技術：EVG在光刻技術上的關鍵能力在于其掩模對準器的高產能，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統的內部處理的相關知識,。EVG的所有光刻設備平臺均支持300毫米的晶圓,，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統中，并配有用于從上到下的側面對準驗證的度量工具,。

EVG不斷展望未來的市場趨勢,，因此提供了針對特定應用的解決方案，尤其是在光學3D傳感和光子學市場中,，其****的EVG的工藝和材料專業(yè)知識-源自對各種光刻膠材料進行的廣/泛優(yōu)化研究。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案成功的重要因素,。 EVG620光刻機價格怎么樣EVG的掩模對準目標是適用于高達300 mm的不同的厚度,，尺寸，形狀的晶圓和基片,。

IQ Aligner®NT曝光設定：硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式

IQ Aligner®NT曝光選項：間隔曝光/洪水曝光

先進的對準功能：自動對準

暗場對準功能/完整的明場掩模移動（FCMM）

大間隙對準

跳動控制對準

IQ Aligner®NT系統控制：

操作系統：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，FR,，IT，JP,，KR

實時遠程訪問,，診斷和故障排除

如果您需要確認準確的產品的信息，請聯系我們,。如果需要鍵合機,，請看官網信息。

       EV集團（EVG）是面向MEMS,，納米技術和半導體市場的晶圓鍵合機和光刻設備的**供應商,，***宣布已收到其制造設備和服務的***組合產品組合的多個訂單，這些產品和服務旨在滿足對晶圓的新興需求,，水平光學（WLO）和3D感應,。市場**的產品組合包括EVG®770自動UV-納米壓印光刻（UV-NIL）步進器，用于步進重復式主圖章制造,，用于晶圓級透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統以及EVG ®40NT自動測量系統,，用于對準驗證。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持,。

      使用** 欣的壓印光刻技術和鍵合對準技術在晶圓級制造微透鏡,，衍射光學元件和其他光學組件可帶來諸多好處。這些措施包括通過高度并行的制造工藝降低擁有成本,，以及通過堆疊使**終器件的外形尺寸更小,。EVG是納米壓印光刻和微成型領域的先驅和市場***,，擁有全球比較大的工具安裝基礎。 EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的光刻膠旋涂和噴涂經驗,。

EVG101光刻膠處理系統的技術數據：

可用模塊：旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā)

分配選項：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達52000 cP的粘度；

液體底漆/預濕/洗盤,；

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）,；

恒壓分配系統/注射器分配系統。

智能過程控制和數據分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務/排隊任務處理功能,，提高效率

設備和過程性能跟/蹤功能：智能處理功能,；事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米

EVG所有光刻設備平臺均為300mm。晶圓片光刻機售后服務

EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統,，可以在頂部和雙面光刻,。浙江襯底光刻機

EVG光刻機簡介

EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統，可以在頂部和雙面光刻,，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻技術方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標準,。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器來為這些領域做出貢獻，以增強**重要的光刻技術,。EVG的掩模對準目標是容納高達300 mm的不同的尺寸,，形狀和厚度的晶圓和基片，同時為高級應用提供高科技含量的有效解決方案,，并為研發(fā)提供充分的靈活可選性,。EVG光刻機的掩模對準器和工藝能力經過現場驗證，安裝并完美集成在全球各地的用戶系統中,，可在眾多應用場景中找到,，包括高級封裝，化合物半導體,，功率器件,，LED，傳感器和MEMS,。 浙江襯底光刻機

岱美儀器技術服務（上海）有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,，現有一支專業(yè)技術團隊，各種專業(yè)設備齊全,。專業(yè)的團隊大多數員工都有多年工作經驗,，熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能，致力于發(fā)展岱美儀器技術服務的品牌,。公司以用心服務為重點價值,，希望通過我們的專業(yè)水平和不懈努力，將磁記錄,、半導體,、光通訊生產及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿易,、轉口貿易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經批準的項目,，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體,、光通訊生產及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿易,、轉口貿易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】等業(yè)務進行到底,。誠實,、守信是對企業(yè)的經營要求，也是我們做人的基本準則,。公司致力于打造***的磁記錄,，半導體，光通訊生產,，測試儀器的批發(fā),。