EVG ® 6200 NT特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 6200 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

智能NIL ®

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5 μm,；SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部,；SmartNIL ®：支持

HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能,，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離,。紫外光納米壓印有哪些應(yīng)用

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān),。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器,，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新,。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像

資料來源：EVG與SwissLitho

AG合作（歐盟項目SNM）

2.通過熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片

資料來源：EVG

3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層,，厚度約為10 nm

資料來源：EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源：EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm

資料來源：EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源：EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）

10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相

資料來源：EVG 湖南納米壓印推薦型號EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng),。

EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案

納米壓印光刻的介紹：

EV Group是納米壓印光刻（NIL）的市場**設(shè)備供應(yīng)商,。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn),。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,，開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗進行了優(yōu)化，以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求,。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結(jié)果,。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識,。我們愿意與您共同進步。

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻,。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù),，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,，線柵偏振器,，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率,。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟有效的方法，因為它不受光學(xué)系統(tǒng)的限制,，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度,。

SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果,。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識,，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過程和模板 納米壓印設(shè)備哪個好,？預(yù)墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上,。

    EV集團和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展,，這是一個開放式的光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日,，奧地利,，圣弗洛里安――微機電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備**供應(yīng)商EV集團（EVG）***宣布,，與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的**技術(shù)集團肖特攜手合作,，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)在下一代增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實（AR/MR）頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/光導(dǎo)制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓,，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進行,。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板,，裝配在應(yīng)用SmartNIL?UV-NIL技術(shù)的EVG?HERCULES?,。 EVG?770可用于連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作,。三維芯片納米壓印要多少錢

EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。紫外光納米壓印有哪些應(yīng)用

EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到比較大150毫米,。

該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,，例如真空，軟,，硬和接近曝光模式,，并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外,，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,，以改變用戶需求,，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求,，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇,。

紫外光納米壓印有哪些應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司屬于儀器儀表的高新企業(yè)，技術(shù)力量雄厚,。公司致力于為客戶提供安全,、質(zhì)量有保證的良好產(chǎn)品及服務(wù)，是一家有限責(zé)任公司企業(yè),。以滿足顧客要求為己任,；以顧客永遠(yuǎn)滿意為標(biāo)準(zhǔn)；以保持行業(yè)優(yōu)先為目標(biāo),，提供***的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)將以真誠的服務(wù)、創(chuàng)新的理念、***的產(chǎn)品,，為彼此贏得全新的未來,！