SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術,，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化,。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合,，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,，同時保留了可擴展性和易于維護的操作,。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本,，大批量替代光刻技術,。

注：*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司,。 EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商,。中國香港納米壓印供應商家

納米壓印光刻設備-處理結果：

新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關,。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器,，生物技術和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新,。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像

資料來源：EVG與SwissLitho

AG合作（歐盟項目SNM）

2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片

資料來源：EVG

3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm

資料來源：EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源：EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結構50 μm

資料來源：EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源：EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）

10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相

資料來源：EVG 晶圓片納米壓印參數(shù)岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關知識。

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

    具體說來就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動,，因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負的電荷）,，以確保跨各組件的通道性能的一致性,。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上,，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,，摻雜有時會泄到別的不需要的地方,，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應”區(qū)域，并導致性能下降,。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖,。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學、德克薩斯大學,、以及加州大學伯克利分校等）,，開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質的新技術。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,，從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程,。（來自網(wǎng)絡。EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,，因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇,。

IQ Aligner®：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

■用于光學元件的微成型應用

■用于全場納米壓印應用

■三個**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV）,，并在壓模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

■粘合對準和紫外線粘合功能

紫外線壓印_紫外線固化

印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結構分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材,。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián),。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領取物料,，物料轉移，刪除印章

岱美儀器代理的SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器,，生物技術和光子應用中的許多新創(chuàng)新,。天津納米壓印價格怎么樣

EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度,，可用于**小50 nm的特征尺寸,。中國香港納米壓印供應商家

EVG ® 6200 NT是SmartNIL

UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術范圍達150m,。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱,，以**小的占地面積提供了**

新的掩模對準技術。操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案,。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空,，軟,，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準,。此外,，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻,。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

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岱美儀器技術服務（上海）有限公司是一家磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易,、轉口貿易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易,、轉口貿易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,，致力于發(fā)展為創(chuàng)新務實,、誠實可信的企業(yè)。岱美儀器技術服務擁有一支經(jīng)驗豐富,、技術創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊,，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術服務繼續(xù)堅定不移地走高質量發(fā)展道路,，既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,，又要聚焦關鍵領域，實現(xiàn)轉型再突破,。岱美儀器技術服務始終關注儀器儀表行業(yè),。滿足市場需求，提高產(chǎn)品價值,，是我們前行的力量,。