EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)

轉(zhuǎn)速：**/高10 k rpm

加速速度：**/高10 k rpm

噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生

超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴

開發(fā)模塊-分配選項

水坑顯影/噴霧顯影

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)附加模塊選項：

預對準：機械

系統(tǒng)控制參數(shù)：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

新型的EVG120帶有通用和全自動光刻膠處理工具,，能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基片。MEMS光刻機高級封裝應用

EVG的光刻機技術：EVG在光刻技術上的關鍵能力在于其掩模對準器的高產(chǎn)能,，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關知識,。EVG的所有光刻設備平臺均支持300毫米的晶圓，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并配有用于從上到下的側(cè)面對準驗證的度量工具,。

EVG不斷展望未來的市場趨勢，因此提供了針對特定應用的解決方案,，尤其是在光學3D傳感和光子學市場中,，其****的EVG的工藝和材料專業(yè)知識-源自對各種光刻膠材料進行的廣/泛優(yōu)化研究。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案成功的重要因素,。 掩模對準光刻機特點EVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內(nèi)提供服務,。

光刻膠處理系統(tǒng)

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標準,。EVG100系列的設計旨在提供**廣/泛的工藝變革，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂,，顯影,，烘烤和冷卻模塊，以滿足個性化生產(chǎn)需求,。這些系統(tǒng)可處理各種材料,，例如正性和負性光刻膠，聚酰亞胺,，薄光刻膠層的雙面涂層,，高粘度光刻膠和邊緣保護涂層。這些系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,，直徑從2寸到300 mm,，矩形，正方形甚至不規(guī)則形狀的基板,，而無需或只需很短的加工時間,。

EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品，使用**/先進的工程技術,。

用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關鍵參數(shù)決定,。亞微米對準精度，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,，以及對應于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標準,。此外，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設計和不斷增強EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務的發(fā)展和提升我們的理念,，使我們能夠跳出思維框架，創(chuàng)造更先進的系統(tǒng),。 IQ Aligner光刻機支持的晶圓尺寸高達200 mm / 300 mm,。

EVG ® 120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)

EVG ® 120是用于當潔凈室空間有限，需要生產(chǎn)一種緊湊的,，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng),。

新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設計,，并帶有新開發(fā)的化學柜,，可用于外部存儲化學品，同時提供更高的通量能力,，針對大批量客戶需求進行了優(yōu)化,，并準備在大批量生產(chǎn)（HVM）中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處，這是其他任何工具所無法比擬的,，并保證了**/高的質(zhì)量各個應用領域的標準,，擁有成本卻非常低,。

EVG光刻機的掩模對準器和工藝能力經(jīng)過客戶現(xiàn)場驗證，安裝并集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,。江西光刻機美元價

整個晶圓表面高光強度和均勻性是設計和不斷提高EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關鍵參數(shù),。MEMS光刻機高級封裝應用

EVG曝光光學：專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件（REO）可提供高出50％的強度，并顯著提高/分辨率,，在接近模式下可達到小于3μm的分辨率,。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率。EVG**/新的曝光光學增強功能是LED燈設置,。低能耗和長壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢,，因為不需要預熱或冷卻。在用戶軟件界面中可以輕松,、實際地完成曝光光譜設置。此外,，LED需要*在曝光期間供電,，并且該技術消除了對汞燈經(jīng)常需要的額外設施（廢氣，冷卻氣體）和更換燈的需要,。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運行和維護成本,，還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性。MEMS光刻機高級封裝應用

岱美儀器技術服務（上海）有限公司是一家磁記錄,、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,，是一家集研發(fā),、設計,、生產(chǎn)和銷售為一體的專業(yè)化公司。岱美儀器技術服務擁有一支經(jīng)驗豐富,、技術創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊,，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術服務致力于把技術上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心,，為用戶帶來良好體驗,。岱美儀器技術服務始終關注儀器儀表市場，以敏銳的市場洞察力,，實現(xiàn)與客戶的成長共贏,。