EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)：

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務/排隊任務處理功能

設備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能：

事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米

模塊數(shù)：

工藝模塊：2

烘烤/冷卻模塊：**多10個

工業(yè)自動化功能：Ergo裝載盒式工作站/

SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口

分配選項：

各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,、大間隙,、晶圓平面或紅外對準，在可編程位置自動定位,。氮化鎵光刻機廠家

集成化光刻系統(tǒng)

HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化,，完善了EVG光刻產(chǎn)品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺,，將EVG已建立的光學掩模對準技術與集成的清潔,，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結合,。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務”,，在這里將經(jīng)過預處理的晶圓裝載到工具中，然后返回完全結構化的經(jīng)過處理的晶圓,。目前可以預定的型號為：HERCULES,。請訪問官網(wǎng)獲取更多的信息。

福建光刻機可以免稅嗎EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有：Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口,。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉涂層模塊-旋轉器參數(shù)

轉速：**/高10 k rpm

加速速度：**/高10 k rpm

噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生

超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴

開發(fā)模塊-分配選項

水坑顯影/噴霧顯影

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)附加模塊選項：

預對準：機械

系統(tǒng)控制參數(shù)：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR

IQ Aligner®

■   晶圓規(guī)格高達200 mm / 300 mm

■   某一時間內(nèi)

（第/一次印刷/對準）> 90 wph / 80 wph

■   頂/底部對準精度達到 ± 0.5 μm / ± 1.0 μm

■   接近過程100/%無觸點

■   可選Ergoload 磁盤,，SMIF或者FOUP

■   精/準的跳動補償,，實現(xiàn)**/佳的重疊對準

■   手動裝載晶圓的功能

■   IR對準能力–透射或者反射

IQ Aligner® NT

■   零輔助橋接工具-雙基片，支持200mm和300mm規(guī)格

■   無以倫比的吞吐量（第/一次印刷/對準） > 200 wph / 160 wph

■   頂/底部對準精度達到 ± 250 nm / ± 500 nm

■   接近過程100/%無觸點

■   暗場對準能力/ 全場清/除掩模（FCMM）

■   精/準的跳動補償,，實現(xiàn)**/佳的重疊對準

■   智能過程控制和性能分析框架軟件平臺 我們用持續(xù)的技術和市場領導地位證明了自己的實力,，包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的****的經(jīng)驗。

HERCULES®

■   全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設計,，用于掩模和曝光，集成了預處理和后處理能力

■   高產(chǎn)量的晶圓加工

■   **多8個濕法處理模塊以及多達24個額外烘烤,，冷卻和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技術進行對準和曝光

■   **的柜內(nèi)化學處理

■   支持連續(xù)操作模式(CMO)

EVG光刻機可選項有：

手動和自動處理

我們所有的自動化系統(tǒng)還支持手動基片和掩模加載功能,，以便進行過程評估。此外,，該系統(tǒng)可以配置成處理彎曲,，翹曲，變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片,。各種晶圓卡盤設計毫無任何妥協(xié),，帶來**/大的工藝靈活性和基片處理能力。我們的掩模對準器配有機械或非接觸式光學預對準器,，以確保**/佳的工藝能力和產(chǎn)量,。Load＆Go選項可在自動化系統(tǒng)上提供超快的流程啟動。 EVG101是光刻膠處理,，EVG105是光刻膠烘焙機,，EVG120、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng),。天津光刻機技術服務

了解客戶需求和有效的全球支持,，這是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎。氮化鎵光刻機廠家

光刻膠處理系統(tǒng)

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標準,。EVG100系列的設計旨在提供**廣/泛的工藝變革,，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂，顯影,，烘烤和冷卻模塊,，以滿足個性化生產(chǎn)需求。這些系統(tǒng)可處理各種材料,，例如正性和負性光刻膠,，聚酰亞胺,，薄光刻膠層的雙面涂層,，高粘度光刻膠和邊緣保護涂層,。這些系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板，直徑從2寸到300 mm,，矩形,，正方形甚至不規(guī)則形狀的基板，而無需或只需很短的加工時間,。

氮化鎵光刻機廠家

岱美儀器技術服務（上海）有限公司是一家磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易,、轉口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易,、轉口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,，是一家集研發(fā)、設計,、生產(chǎn)和銷售為一體的專業(yè)化公司,。岱美儀器技術服務擁有一支經(jīng)驗豐富、技術創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊,，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄,，半導體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術服務致力于把技術上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心，為用戶帶來良好體驗,。岱美儀器技術服務始終關注儀器儀表市場,，以敏銳的市場洞察力，實現(xiàn)與客戶的成長共贏。