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Nano X-3000輪廓儀廠家

來源: 發(fā)布時間:2021-12-15

2)共聚焦顯微鏡方法 

共聚焦顯微鏡包括LED光源,、旋轉多***盤、帶有壓電驅動器的物鏡和CCD相機,。LED光源通過多***盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,,從而反射光。反射光通過MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機上,。傳統(tǒng)光學顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細節(jié),,但是在共焦圖像中,,通過多***盤的操作濾除模糊細節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達CCD相機,。因此,,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內獲得高 分辨率。 每個共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,,在不同的焦點高度捕獲圖像產生這樣的圖像的堆疊,,共焦顯微鏡通過壓電驅動器和物鏡的精確垂直位移來實現(xiàn)。200到400個共焦圖像通常在幾秒內被捕獲,,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像,。 輪廓儀可用于藍寶石拋光工藝表面粗糙度分析(粗拋與精拋比較)。Nano X-3000輪廓儀廠家

輪廓儀的物鏡知多少?  

白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理,,以三維非接觸時方法測量分析樣片表面形貌的關鍵參數(shù)和尺寸,,典型結果包括:


表面形貌(粗糙度,平面度,,平行度,,臺階高度,錐角等)

幾何特征(關鍵孔徑尺寸,,曲率半徑,,特征區(qū)域的面積和集體,特征圖形的位置和數(shù)量等)


白光干涉系統(tǒng)基于無限遠顯微鏡系統(tǒng),,通過干涉物鏡產生干涉條紋,,使基本的光學顯微鏡系統(tǒng)變?yōu)榘坠飧缮鎯x。  

因此物鏡是輪廓儀****的部件,,

物鏡的選擇根據(jù)功能和檢測的精度提出需求,,為了滿足各種精度的需求,需要提供各種物鏡,,例如標配的10×,, 還有2.5×,5×,,20×,,50×,100×,,可選,。  

不同的鏡頭價格有很大的差別,因此需要量力根據(jù)需求選配對應的鏡頭哦,。


輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應用:

晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程,,其中由于光罩中電路結構尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會導致制造的晶圓IC表面存在缺 陷,,因此必須對光罩和晶圓的表面輪廓進行檢測,,檢測相應的輪廓尺寸,。 PSI輪廓儀研發(fā)可以用嗎但是在共焦圖像中,通過多***盤的操作濾除模糊細節(jié)(未聚焦),,只有來自聚焦平面的光到達CCD相機,。

輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求?

答:輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm(可擴展),,Z向測量范圍比較大可達10mm,,但由于白光干涉儀單次測量區(qū)域比較小(以10X鏡頭為例,,在1mm左右),,因而在測量大尺寸的樣品時,全檢的方式需要進行拼接測量,,檢測效率會比較低,,建議尋找樣品表 面的特征位置或抽取若干區(qū)域進行抽點檢測,以單點或多點反映整個面的粗糙度參數(shù),;

4.測量的**小尺寸是否可以達到12mm,,或者能夠測到更小的尺寸?


如果需要了解更多,,請訪問官網,。

一、從根源保障物件成品的準確性:

通過光學表面三維輪廓儀的掃描檢測,,得出物件的誤差和超差參數(shù),,**提高物件在生產加工時的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應”,,造成下游生產加工的更大偏離,,**終導致整個生產鏈更大的損失。

二,、提高效率:

智能化檢測,,全自動測量,檢測時只需將物件放置在載物臺,,然后在檢定軟件上選擇相關參數(shù),,即可一鍵分析批量測量。擯棄傳統(tǒng)檢測方法耗時耗力,,精確度低的缺點,,**提高加工效率。 包含了從納米到微米級別的輪廓,、線粗糙度、面粗糙度等二維,、三維參數(shù),,作為評定該物件是否合格的標準,。

白光干涉輪廓儀對比激光共聚焦輪廓儀

白光干涉3D顯微鏡:

干涉面成像,

多層垂直掃描

比較好高度測量精度:< 1nm

高度精度不受物鏡影響


性價比好

激光共聚焦3D顯微鏡:

點掃描合成面成像,,

多層垂直掃描

Keyence(日本)

比較好高度測量精度:~10nm

高度精度由物鏡決定,,1um精度@10倍

90萬-130萬


三維光學輪廓儀采用白光軸向色差原理(性能優(yōu)于白光干涉輪廓儀與激光干涉輪廓儀)對樣品表面進行快速、重復性高,、高 分辨率的三維測量,,測量范圍可從納米級粗糙度到毫米級的表面形貌,臺階高度,,給MEMS,、半導體材料、太陽能電池,、醫(yī)療工程,、制藥、生物材料,,光學元件,、陶瓷和先進材料的研發(fā)和生產提供了一個精確的、價格合理的計量方案,。(來自網絡) 視場范圍:560×750um(10×物鏡) 具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機 ,。Nano X-3000輪廓儀廠家

輪廓儀可用于:微結構均勻性 缺 陷,表面粗糙度,。Nano X-3000輪廓儀廠家

NanoX-8000 3D輪廓測量主要技術參數(shù)

3D測量主要技術指標(1):

測量模式: PSI + VSI + CSI

Z軸測量范圍: 大行程PZT 掃描 (300um 標配/500um選配)

10mm 精密電機拓展掃描

CCD相機: 1920x1200 高速相機(標配)

干涉物鏡: 2.5X, 5X, 10X(標配), 20X, 50X, 100X(NIKON )

物鏡切換: 5孔電動鼻切換 FOV: 1100x700um(10X物鏡), 220x140um(50X物鏡)

Z軸聚焦: 高精密直線平臺自動聚焦

照明系統(tǒng): 高 效長壽白光LED + 濾色鏡片電動切換(綠色/藍色)

傾斜調節(jié): ±5°電動調節(jié)

橫向分辨率: ≥0.35μm(與所配物鏡有關)

3D測量主要技術指標(2):

垂直掃描速度: PSI : <10s,,VSI/CSI:< 38um/s

高度測量范圍: 0.1nm – 10mm

表面反射率: > 0.5%

測量精度: PSI: 垂直分辨率 < 0.1nm

準確度 < 1nm

RMS重復性 < 0.01nm (1σ)

臺階高重復性:0.15nm(1σ)

VSI/CSI:垂直分辨率 < 0.5nm

準確度<1%

重復性<0.1% (1σ,10um臺階高) Nano X-3000輪廓儀廠家

岱美儀器技術服務(上海)有限公司專注技術創(chuàng)新和產品研發(fā),,發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,。公司目前擁有專業(yè)的技術員工,為員工提供廣闊的發(fā)展平臺與成長空間,,為客戶提供高質的產品服務,,深受員工與客戶好評。公司業(yè)務范圍主要包括:磁記錄,,半導體,,光通訊生產,測試儀器的批發(fā)等,。公司奉行顧客至上,、質量為本的經營宗旨,深受客戶好評,。公司深耕磁記錄,,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發(fā),,正積蓄著更大的能量,,向更廣闊的空間、更寬泛的領域拓展,。