IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

用于全場納米壓印應(yīng)用

三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

三個**控制的Z軸,，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL,，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準(zhǔn)：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理：涂層：水坑點膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù),，掌握了NIL,，并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn),。中國香港納米壓印推薦型號

       EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補(bǔ)充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對*復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化,。技術(shù),，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo(hù)客戶IP的強(qiáng)大政策的框架內(nèi),，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的,，以為*終客戶提供真正可擴(kuò)展的解決方案,。”

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾,，即在工業(yè),，企業(yè)和消費者等所有主要市場領(lǐng)域釋放AR在大眾市場的應(yīng)用，并遵循公司模塊計劃的推出,。 河南納米壓印國內(nèi)用戶EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng),。

EVG ® 720特征：

體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù),，多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印,，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式

可選的頂部對準(zhǔn)

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性

系統(tǒng)外殼，可實現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準(zhǔn)：可選的頂部對準(zhǔn)

自動分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

納米壓印光刻（NIL）技術(shù)

EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場**供應(yīng)商,。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,，并實現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝,，可用于生物MEMS,，微流體，電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用,。

其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號包含：

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®

熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號包含：

EVG®510HE

EVG®520HE

詳細(xì)的參數(shù),，請聯(lián)系我們岱美有限公司。

EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。

    納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography,；NIL)，現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中,。NIL為次世代圖樣形成技術(shù),。據(jù)ETNews報導(dǎo)，南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,，未確認(rèn)NIL設(shè)備實際圖樣形成能力,，直接參訪海外NIL設(shè)備廠。該制程研發(fā)小組透露，若引進(jìn)相關(guān)設(shè)備,，將可提升面板性能,。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機(jī),，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程,。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機(jī)接觸施加壓力,，印出面板圖樣,。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,，不需再另外貼附偏光薄膜,。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,，但省落偏光膜貼附制程,，可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度,。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,，將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,，因配線較多,，較難確保開口率(ApertureRatio)。分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版,。中國香港納米壓印推薦型號

EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng),，使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作,。中國香港納米壓印推薦型號

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻,。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù)，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板,。對于不能減小尺寸的顯示器,，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率,。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)有效的方法，因為它不受光學(xué)系統(tǒng)的限制,，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強(qiáng)大且可控的加工工藝,，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果,。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過程和模板 中國香港納米壓印推薦型號

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,，是一家磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提?**的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路，既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,，又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域,，實現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注自身,，在風(fēng)云變化的時代,，對自身的建設(shè)毫不懈怠，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務(wù)在行業(yè)的從容而自信,。