EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。對于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形,，掩模對準(zhǔn)器是**/具成本效益的技術(shù),，與其他解決方案相比,，每層可節(jié)省30％以上的成本，這對用戶來說是至關(guān)重要的,。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,，并由卓/越的全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持。**重要的是,，大焦深曝光光學(xué)系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑，表面形貌和非平面基片的圖形,。在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機(jī)系統(tǒng)，得到了他們的無數(shù)好評,?？稍诒姸鄳?yīng)用場景中找到EVG的設(shè)備應(yīng)用，包括高級封裝,，化合物半導(dǎo)體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS,。低溫光刻機(jī)技術(shù)服務(wù)

光刻膠處理系統(tǒng)

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標(biāo)準(zhǔn)。EVG100系列的設(shè)計(jì)旨在提供**廣/泛的工藝變革，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂,，顯影,，烘烤和冷卻模塊，以滿足個(gè)性化生產(chǎn)需求,。這些系統(tǒng)可處理各種材料,，例如正性和負(fù)性光刻膠，聚酰亞胺,，薄光刻膠層的雙面涂層,，高粘度光刻膠和邊緣保護(hù)涂層。這些系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,，直徑從2寸到300 mm,，矩形，正方形甚至不規(guī)則形狀的基板,，而無需或只需很短的加工時(shí)間,。

天津功率器件光刻機(jī)EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動的基片處理，能夠?qū)崿F(xiàn)現(xiàn)場升級,。

     EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實(shí)：“我們看到支持晶圓級光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加,。” “*從今年年初開始,，我們就向大型WLO制造商交付了多個(gè)用于透鏡成型和堆疊以及計(jì)量的系統(tǒng),，以進(jìn)行大批量生產(chǎn)。此類訂單進(jìn)一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場***的地位,，同時(shí)創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機(jī)會,。”

      業(yè)界**的設(shè)備制造商**近宣布了擴(kuò)大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標(biāo)的計(jì)劃,，以幫助解決客戶日益激進(jìn)的上市時(shí)間窗口,。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法，下一代智能手機(jī)中正在設(shè)計(jì)十多種傳感器,。其中包括3D感測相機(jī),，指紋傳感器，虹膜掃描儀,，激光二極管發(fā)射器,，激光測距儀和生物傳感器?？傮w而言,，光纖集線器預(yù)計(jì)將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元，復(fù)合年增長率超過11％*,。

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)

所述HERCULES ®是一個(gè)高容量的平臺整合整個(gè)光刻工藝流在一個(gè)系統(tǒng)中,，縮小處理工序和操作者支持,。

HERCULES基于模塊化平臺，將EVG建立的光學(xué)掩模對準(zhǔn)技術(shù)與集成的晶圓清洗,，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理,。HERCULES安全地處理厚,，彎曲度高，矩形,，小直徑的晶圓,，甚至可以處理設(shè)備托盤。精密的頂側(cè)和底側(cè)對準(zhǔn)以及亞微米至超厚（**/大300微米）光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應(yīng)用,。出色的對準(zhǔn)臺設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的高精度對準(zhǔn)和曝光結(jié)果,。

HERCULES平臺是“一站式服務(wù)”平臺。

這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝,，這不僅需要高度的靈活性,，而且需要可控和可重復(fù)的處理。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn),，并將這些知識技能整合到EVG100系列中,，可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持。

光刻膠處理設(shè)備有：EVG101光刻膠處理,，EVG105光刻膠烘焙機(jī),，EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng)；EVG150 光刻膠處理自動化系統(tǒng),。如果您需要了解每個(gè)型號的特點(diǎn)和參數(shù),，請聯(lián)系我們，我們會給您提供**/新的資料,?；蛘咴L問我們的官網(wǎng)獲取相關(guān)信息。

EVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內(nèi)提供服務(wù),。高級封裝光刻機(jī)技術(shù)服務(wù)

EVG101是光刻膠處理,，EVG105是光刻膠烘焙機(jī)，EVG120,、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng)。低溫光刻機(jī)技術(shù)服務(wù)

EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)：

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能：

事/故和警報(bào)分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)200毫米

模塊數(shù)：

工藝模塊：2

烘烤/冷卻模塊：**多10個(gè)

工業(yè)自動化功能：Ergo裝載盒式工作站/

SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口

分配選項(xiàng)：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

低溫光刻機(jī)技術(shù)服務(wù)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，是一家其他型公司。公司自成立以來,，以質(zhì)量為發(fā)展,，讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié)，公司旗下磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年,，有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì),、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊(duì)伍,，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場，依托強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力,，融合前沿的技術(shù)理念,，飛快響應(yīng)客戶的變化需求。