微泰半導體閘閥的特點：已向中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體,、日本Micron,、三星半導體和其它的設備，設備廠批量供貨,，已得到品質認可,，已完成對半導體Utility設備和批量生產(chǎn)設備的驗證。1,，采用陶瓷球機構,，抗沖擊和震動，保證使用25萬次,，檢修方便,，較低維護成本。2，無Particle（顆粒）產(chǎn)生,，采用陶瓷球無腐蝕和顆粒產(chǎn),。3，屏蔽保護：屏蔽式保護功能,，閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm,，可防止粉末侵入閥內，壽命為半永久性,。4,，保護環(huán)：Protecrion Ring通過流速上升設計防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積,。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶫VA閘閥,、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。閘閥不易產(chǎn)生水錘現(xiàn)象。原因是關閉時間長,。轉移閘閥L型轉移閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥Heating gate valve,，加熱插板閥，加熱閘閥,，加熱器的加熱溫度為180-200度（可通過控制器設置溫度）-規(guī)格：適用雙金屬（達到200度時,，斷電后溫度下降后重新啟動），應用于去除粉末/氣體設備,。微泰,，加熱閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。加熱閘閥規(guī)格如下：驅動方式：手動或氣動,、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸,、法蘭類型：ISO、JIS,、ASA,、CF、連接方式：焊接波紋管,、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM,、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec,、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar ,、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar,、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒,、維護前可用次數(shù)：200,000次、,、安裝位置：任意,、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導體,、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,。CVD閘閥手動閥真空閘閥屬于真空隔離閥類別。但是,，它也有可用于控制氣流,。

微泰高壓閘閥可以應用于多種設備，如蒸發(fā),、濺射,、金剛石生長、PECV,、PVD集群,、卷對卷、涂層,、蝕刻,、擴散和CVD等。它具有陶瓷球機構產(chǎn)生的低顆粒和易于維護等特點,，可替代VAT閘閥,。該閥門的規(guī)格包括手動或氣動驅動方式、1.5英寸至14英寸的法蘭尺寸,、CF法蘭類型,、焊接波紋管連接方式、氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM閥門密封,、氟橡膠O型圈閥蓋密封,、≤2秒響應時間、1.5?至6?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1400 mbar,，8?至14?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1200 mbar,、≤30 mbar的開始時壓差,、≤1400 mbar的6?以下閘門差動壓力和≤1200 mbar的8?至14?閘門差動壓力、<1×10 -10 Mbar/秒的泄漏率,、250,000次維護前可用次數(shù),、閥體溫度≤200°、機構溫度≤80°C,、烤爐溫度≤150°C,、閥體不銹鋼304或316L和驅動器鋁6061陽極氧化、任意安裝位置和4至7 bar的N2操作壓力,。此外,，微泰高壓閘閥已在中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體,、日本Micron,、三星半導體和其他設備上得到應用。如果您需要了解更多關于微泰高壓閘閥的信息,，請聯(lián)系上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽?/p>

微泰控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導體CVD設備中的主要閥門,?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調節(jié)腔內壓力的作用，通過控制系統(tǒng)自動調節(jié)閘板的開啟和關閉,。精確控制腔內壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥,、蝶閥、多定位閘閥,?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作，而多定位閘閥使用氣動控制操作,。一,、控制系統(tǒng)閘閥?？刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,，以滑動方式操作，可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制,。如半導體等高真空工藝應用,。控制系統(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力,。二,、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結構,，通過閘板旋轉操作,。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導體和工業(yè)過程,。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,，保持一致的真空壓力。三,、多定位閘閥,。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器,，可以在本地和遠程模式下操作,。它還具有緊急關閉功能，以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況,。閘閥按閘板結構形式分為單閘板和雙閘板兩種,。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，插板閥,，氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥-按產(chǎn)品尺寸和法蘭類型排列-ID為1.5英寸至30英寸,，ISO、CF&JIS和ASA法蘭等-現(xiàn)有手動閘閥的鎖定功能（Exist Manual GV of Locking Function）,。微泰氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上,。有中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron,、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,。閘閥流動阻力小。閥體內部介質通道是直通的,，介質成直線流動,，流動阻力小。氣動閘閥法蘭閘閥

用真空閘閥時,，應考慮與工藝氣體的兼容性,、工作壓力范圍、循環(huán)速度和維護要求等因素,。轉移閘閥L型轉移閥

微泰半導體閘閥具有獨特的特點：其插板閥主滑閥采用球機構方式,，并且在量產(chǎn)工藝設備上經(jīng)過了性能驗證,。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷與金屬接觸驅動時不會產(chǎn)生顆粒,。目前已向中國臺灣的 Micron,、UMC、AKT,，新加坡的 Micron,、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導體,，日本的 Micron,、三星半導體等眾多設備廠批量供貨，且品質得到認可,，同時也完成了對半導體 Utility 設備和批量生產(chǎn)設備的驗證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅動會產(chǎn)生大量顆粒不同,，微泰半導體閘閥采用鋼陶瓷球,，在與金屬摩擦時不會損壞,，且金屬與陶瓷球之間不會產(chǎn)生 Particle。半永久板簧（SUS 鋼板）的應用確保了閥門驅動的同步性,，同時還采用了固定球導向器和鋼陶瓷。微泰半導體閘閥廣泛應用于 Evaporation（蒸發(fā)）,、Sputtering（濺射）,、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV,、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對卷）,、Coating（涂層）,、Etch（蝕刻）,、Diffusion（擴散）,、CVD（化學氣相沉積）等設備上,，可替代 HVIA閘閥,、VAT 閘閥。此外,，該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁＾D移閘閥L型轉移閥