藥物：從藥物發(fā)現(xiàn)到藥物生產(chǎn),，D8D為藥品的整個(gè)生命周期提供支持，其中包括結(jié)構(gòu)測定,、候選材料鑒別,、配方定量和非環(huán)境穩(wěn)定性測試。地質(zhì)學(xué)：D8D是地質(zhì)構(gòu)造研究的理想之選,。借助μXRD,，哪怕是對小的包裹體進(jìn)行定性相分析和結(jié)構(gòu)測定也不在話下。金屬：在常見的金屬樣品檢測技術(shù)中,。殘余奧氏體,、殘余應(yīng)力和織構(gòu)檢測不過是其中的一小部分，檢測目的在于確保終產(chǎn)品復(fù)合終用戶的需求,。薄膜計(jì)量：從微米厚度的涂層到納米厚度的外延膜的樣品都受益于用于評估晶體質(zhì)量,、薄膜厚度、成分外延排列和應(yīng)變松弛的一系列技術(shù),。D8 DISCOVER 特點(diǎn)：UMC樣品臺(tái)可對重達(dá)5 kg的樣品進(jìn)行掃描,、大區(qū)域映射300mm的樣品、高通量篩選支持三個(gè)孔板,。全新XRD衍射儀

對分布函數(shù)分析對分布函數(shù)（PDF）分析是一種分析技術(shù),，它基于Bragg衍射以及漫散射（“總散射”），提供無序材料的結(jié)構(gòu)信息,。其中,，您可以通過Bragg衍射峰，了解材料的平均晶體結(jié)構(gòu)的信息（即長程有序）,，通過漫散射,，表征其局部結(jié)構(gòu)（即短程有序）。就分析速度,、數(shù)據(jù)質(zhì)量以及對非晶,、弱晶型、納米晶或納米結(jié)構(gòu)材料的分析結(jié)果而言,，D8ADVANCE和TOPAS軟件是目前市面上性能較好的PDF分析解決方案：相鑒定結(jié)構(gòu)測定和精修納米粒度和形狀,。遼寧進(jìn)口XRD衍射儀所有樣品臺(tái)都是DIFFRAC.DAVINCI概念的組成部分,，因此元件及其電動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置可在安裝時(shí)自動(dòng)完成識(shí)別和配置。

X射線粉末衍射（XRPD）技術(shù)是重要的材料表征工具之一,。粉末衍射圖中的許多信息,，直接源于物相的原子排列。在D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下,，您將能簡單地實(shí)施常見的XRPD方法：鑒別晶相和非晶相,，并測定樣品純度對多相混合物的晶相和非晶相進(jìn)行定量分析微觀結(jié)構(gòu)分析（微晶尺寸、微應(yīng)變,、無序…）熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應(yīng)力織構(gòu)（擇優(yōu)取向）分析指標(biāo)化,、從頭晶體結(jié)構(gòu)測定和晶體結(jié)構(gòu)精修，由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE,，您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,，都可簡單快捷、不出錯(cuò)地對配置進(jìn)行更改,。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí),，免工具、免準(zhǔn)直,，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持,。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前,，在峰位,、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE,。

XRD檢測聚合物結(jié)晶度測定引言聚合物的結(jié)晶度是與其物理性質(zhì)有很大關(guān)系的結(jié)構(gòu)參數(shù),。有時(shí)，可以通過評估結(jié)晶度來確定剛度不足,，裂紋,，發(fā)白和其他缺陷的原因。通常,，測量結(jié)晶度的方法包括密度,，熱分析，NMR,、IR以及XRD方法,。這里將給出通過X射線衍射技術(shù)加全譜擬合法測定結(jié)晶度的方法的說明以及實(shí)例。結(jié)晶度對于含有非晶態(tài)的聚合物,，其散射信號來源于兩部分：晶態(tài)的衍射峰和非晶態(tài)漫散峰,。那么結(jié)晶度DOC則定義為晶態(tài)衍射峰面積與總散射信號面積的比值：使用DIFFRAC.EVA,測定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性,。通過積分2D圖像，進(jìn)行1D掃描,，來進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析,。

超薄HfO2薄膜XRR測試引言隨著晶體管節(jié)點(diǎn)技術(shù)的發(fā)展，薄膜厚度越來越薄,。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm,。在該技術(shù)節(jié)點(diǎn)的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一,。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,，XRR是的測量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE,，您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡單快捷,、不出錯(cuò)地對配置進(jìn)行更改,。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí)，免工具,、免準(zhǔn)直,，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證,。目前,，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE,。定性相分析和結(jié)構(gòu)測定 微米應(yīng)變和微晶尺寸分析 應(yīng)力和織構(gòu)分析 粒度和粒度分布測定 微米大小X射線束局部分析。江西第三方檢測機(jī)構(gòu)XRD衍射儀

D8D對地質(zhì)構(gòu)造研究,，借助μXRD,，哪怕是很小的包裹體定性相分析和結(jié)構(gòu)測定都不在話下。全新XRD衍射儀

那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來表征其石墨化度,。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計(jì)算石墨化度G[1]：式中：0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距,，nm；0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距,，nm,。為實(shí)際石墨試樣（002）晶面間距，nm,。實(shí)例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位,，需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn),。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范，用硅作為內(nèi)標(biāo)物,，加入待測石墨樣品中,，在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融,、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),，應(yīng)用于冶金、化工,、航空航天等行業(yè),。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求,。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎,、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料,。石墨的質(zhì)量對電池的性能有很大影響,，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。全新XRD衍射儀