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基于低成本和小型化特點(diǎn)的集成光子芯片技術(shù)，該項(xiàng)目有望將光學(xué)相干斷層掃描（OCT）從局限的眼科臨床應(yīng)用帶入更廣的眼科護(hù)理移動(dòng)應(yīng)用中來,。由維也納醫(yī)科大學(xué)牽頭的HandheldOCT研究項(xiàng)目旨在運(yùn)用成熟的光學(xué)相干斷層掃描成像技術(shù)（OCT）,，來實(shí)現(xiàn)便攜式現(xiàn)場(chǎng)即時(shí)眼科護(hù)理檢查,。預(yù)計(jì)此款正在開發(fā)的具備先進(jìn)技術(shù)和成本效應(yīng)的便攜式集成光子芯片技術(shù)OCT成像設(shè)備將用于診斷和監(jiān)測(cè)多種眼部疾病，例如,，老年性黃斑病變,、糖尿病性視網(wǎng)膜病變以及青光眼，這些疾病在世界范圍內(nèi)都是導(dǎo)致失明的主要因素,。該便攜式設(shè)備將會(huì)在維也納總醫(yī)院進(jìn)行測(cè)試以驗(yàn)證其在眼科診斷的效果,。全新Quantum X shape是Nanoscribe工業(yè)級(jí)無...

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，...

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度...

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）,。文章中介紹了高精度3D打印，并重點(diǎn)講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。Nanosc...

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,，包括玻璃,，硅晶片，光子和微流控芯片等,，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統(tǒng)的技術(shù)中心是Nanoscribe特別研發(fā)的雙光子灰...

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者,，Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料,，微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強(qiáng)了全球銷售活動(dòng)，并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍,。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰,，結(jié)構(gòu)分類上更明確。首頁導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫,，公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄,。比較大化滿足用戶對(duì)信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經(jīng)理崔博士表示：“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,，我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙,，更...

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計(jì)來調(diào)整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子，機(jī)械,，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,，在納米級(jí),、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統(tǒng)的技術(shù)中心是Nanoscr...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,，包括玻璃,，硅晶片，光子和微流控芯片等,，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o需額外成本增加的前提下,，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。了解更多...

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,，包括仿生表面，微...

斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心,，共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學(xué)器件寬度只有125微米,，可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進(jìn)行內(nèi)窺鏡檢查,。而這個(gè)精密的微光學(xué)器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設(shè)備制作的。微型內(nèi)窺鏡可以幫助檢測(cè)人體動(dòng)脈內(nèi)的斑塊,、血栓和膽固醇晶體,，因此對(duì)于醫(yī)學(xué)檢測(cè)極其重要，可以有助于減少中風(fēng)和心臟病發(fā)作的風(fēng)險(xiǎn),。來自不來梅大學(xué)微型傳感器,、致動(dòng)器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式，使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),，利用雙光子聚合原理（2PP）結(jié)合光刻技術(shù)...

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）,。文章中介紹了高精度3D打印，并重點(diǎn)講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。Nanosc...

光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit，PIC)與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,，比如激光器,、電光調(diào)制器、光電探測(cè)器,、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非...

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,，可實(shí)現(xiàn)通過簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力,，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開...

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,，包括仿生表面,，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建...

Nanoscribe公司推出針對(duì)微光學(xué)元件（如微透鏡,、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件）具有特殊性能的新型打印材料,，IP-n162光刻膠,。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數(shù)的特性,，這些特性對(duì)于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計(jì)尤為重要,，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對(duì)稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,，因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,，同時(shí)也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實(shí)現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計(jì)，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個(gè)新的...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速,，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作,?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片,，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)已經(jīng)運(yùn)用在30多個(gè)國家的前沿研究中,。廣東Nanoscri...

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?；陔p光子聚合技術(shù),，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型，同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?；a(chǎn),。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL?),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,，同時(shí)保持高精度的形狀控制。Photonic Professional GT2...

如何能夠利用微納尺寸的旋轉(zhuǎn)軸和鉸鏈改進(jìn)傳感器并為新的傳感器設(shè)計(jì)概念鋪平道路,？這正是位于代頓（俄亥俄州）的美國空軍技術(shù)學(xué)院的科研人員們通過在光纖上打印具有可活動(dòng)部件的微型3D傳感器所聚焦的課題,。內(nèi)置的鉸鏈和微軸給傳感器設(shè)計(jì)帶來的新的設(shè)計(jì)理念，例如用于流量傳感的微轉(zhuǎn)子,，可通過物***相沉積法來進(jìn)入以往不易觸及的區(qū)域的微型傳感器,。光纖上3D打印的流量傳感器（渲染動(dòng)畫）：轉(zhuǎn)子被安裝在光纖端面的一個(gè)偏心軸上，傳感器的信號(hào)由通過光纖芯的反射光產(chǎn)生,，以實(shí)現(xiàn)流量傳感的應(yīng)用,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢(shì)。海南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻3D光刻N(yùn)ano...

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,，可實(shí)現(xiàn)通過簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力,，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開...

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí)，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像...

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達(dá)到上限的微納3D打印機(jī),。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D...

Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印,。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),，為全球客戶提供整套硬件,，軟件，打印材料和解決方案一站式服務(wù),。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,，擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù)，為全球客戶提供整套硬件,，軟件,，打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),，結(jié)合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹脂和生物材料,，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu)，適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,，如設(shè)計(jì)和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作,。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù)，您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像...

Nanoscribe公司成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄，秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景的德國卡爾蔡司公司的支持,，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長(zhǎng),，已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者，一直致力于推動(dòng)諸如力學(xué)超材料,，微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。如今，Nanoscribe客戶遍布全球30個(gè)國家,，超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng),。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué),、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué),、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等,。為了拓展并加強(qiáng)中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務(wù)范圍，Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨(dú)資...

世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻（2GL?）系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制，自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn)，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。歡迎咨詢,。Nanoscribe的Quantum X無掩模光刻系統(tǒng)在LASER World of Photonics...

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商,，也是BICO集團(tuán)（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機(jī),，用于制造微納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu),。據(jù)該公司稱，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線,，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”,。它有望顯著提高生命科學(xué)、材料工程,、微流體,、微光學(xué)、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度,、輸出和可用性,。基于雙光子聚合(2PP),，一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速,，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等,，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。微米級(jí)增...