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市場(chǎng)拓展 ? 短期目標(biāo)：2025年前實(shí)現(xiàn)LCD光刻膠國內(nèi)市占率10%,，半導(dǎo)體負(fù)性膠進(jìn)入中芯國際、華虹供應(yīng)鏈,，納米壓印膠完成臺(tái)積電驗(yàn)證,。 ? 長期愿景：成為全球的半導(dǎo)體材料方案提供商，2030年芯片光刻膠營收占比超40...

吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造,、顯示面板,、PCB 及微納加工等領(lǐng)域，通過差異化技術(shù)（如納米壓印,、厚膜工藝）和環(huán)保特性（水性配方）,，滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域（如第三代半導(dǎo)體,、Mini LED）的多樣化需求,。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝,，還通過材料...

吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001：國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級(jí) JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻,，成為國產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。 吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠,，分辨率 1.5μm,，抗深蝕刻...

依托自主研發(fā)與國產(chǎn)供應(yīng)鏈，吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,，躋身國內(nèi)前段企業(yè),。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產(chǎn)樹脂與單體，實(shí)現(xiàn) 100% 國產(chǎn)化替代,。其分辨率 0.35μm,，附著力 > 3N/cm,，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-...

半導(dǎo)體集成電路 ? 應(yīng)用場(chǎng)景： ? 晶圓制造：正性膠為主（如ArF/EUV膠）,，實(shí)現(xiàn)20nm以下線寬,，用于晶體管柵極、接觸孔等精細(xì)結(jié)構(gòu),； ? 封裝工藝：負(fù)性膠用于凸點(diǎn)（Bump）制造，厚膠（5-50μm）耐...

國家戰(zhàn)略支持 《國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期規(guī)劃》將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域,，計(jì)劃投入超500億元支持研發(fā),。工信部對(duì)通過驗(yàn)證的企業(yè)給予稅收減免和設(shè)備采購補(bǔ)貼，單家企業(yè)比較高補(bǔ)貼可達(dá)研發(fā)投入的30%,。 地方產(chǎn)業(yè)協(xié)同 濟(jì)南設(shè)...

客戶需求導(dǎo)向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發(fā)光刻膠配方,，提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術(shù)支持,，尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢(shì)。 快速交付與售后支持 作為國內(nèi)廠商,，吉田半導(dǎo)體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源，交貨周期較...

綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì) 公司采用水性光刻膠技術(shù)，溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,，符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí),，其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn),，通過膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用，年減排VOCs（揮發(fā)性有機(jī)物）超100噸,。 ...

上游原材料： ? 樹脂：彤程新材,、鼎龍股份實(shí)現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成，金屬雜質(zhì)含量<5ppb（國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb）,。 ? 光引發(fā)劑：久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,，累計(jì)形成噸級(jí)訂單；威邁芯材合肥基...

國家大基金三期：注冊(cè)資本3440億元,，明確將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域,，計(jì)劃投入超500億元支持樹脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā),，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍,。 地方專項(xiàng)政策：湖北省對(duì)通過驗(yàn)證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補(bǔ)貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程...

綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì) 公司采用水性光刻膠技術(shù),，溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,，符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí),，其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn),，通過膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用，年減排VOCs（揮發(fā)性有機(jī)物）超100噸,。 ...

關(guān)鍵工藝流程 涂布： ? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠,，厚度控制在0.1-5μm（依制程精度調(diào)整），需均勻無氣泡（旋涂轉(zhuǎn)速500-5000rpm）,。 前烘（Soft Bake）： ...

吉田半導(dǎo)體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘,，國產(chǎn)替代再迎新進(jìn)展 自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗(yàn)證，吉田半導(dǎo)體填補(bǔ)國內(nèi)光刻膠空白,。 吉田半導(dǎo)體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠,，分辨率達(dá) 90nm，適用于 14nm 及以上制程,，已通過中芯國...

差異化競(jìng)爭(zhēng)策略 在高級(jí)市場(chǎng)（如ArF浸沒式光刻膠）,，吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新，通過優(yōu)化現(xiàn)有配方（如提高酸擴(kuò)散抑制效率）逐步縮小與國際巨頭的差距,；在中低端市場(chǎng)（如PCB光刻膠）,，則憑借性價(jià)比優(yōu)勢(shì)（價(jià)格較進(jìn)口產(chǎn)品低20%-30%）快速搶占份額，2023...

光伏電池（半導(dǎo)體級(jí)延伸） ? HJT/TOPCon電池：在硅片表面圖形化金屬電極,，使用高靈敏度光刻膠（曝光能量≤50mJ/cm2）,，線寬≤20μm，降低遮光損失,。 ? 鈣鈦礦電池：用于電極圖案化和層間隔離,，需耐有機(jī)溶劑（適...

吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001：國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級(jí) JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻，成為國產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料,。 吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠,，分辨率 1.5μm，抗深蝕刻...

技術(shù)挑戰(zhàn)與發(fā)展趨勢(shì) 更高分辨率需求： ? EUV光刻膠需解決“線邊緣粗糙度（LER）”問題（目標(biāo)＜5nm）,，通過納米顆粒分散技術(shù)或新型聚合物設(shè)計(jì)改善,。 缺陷控制： ? 半導(dǎo)...

生產(chǎn)設(shè)備與工藝：從設(shè)計(jì)到制造的“木桶效應(yīng)” 前端設(shè)備的進(jìn)口依賴 光刻膠生產(chǎn)所需的超臨界流體萃取設(shè)備、納米砂磨機(jī)等關(guān)鍵裝備被德國耐馳,、日本光洋等企業(yè)壟斷,。國內(nèi)企業(yè)如拓帕實(shí)業(yè)雖推出砂磨機(jī)產(chǎn)品，但在研磨精度（如納米...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負(fù)性,、正性、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求,。 UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號(hào)，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,，耐高溫達(dá) 250°C,，長期可靠性高,，粘接強(qiáng)度高,，重量 100g,。適用于需要...

公司嚴(yán)格執(zhí)行 ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系與 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn),，通過工藝革新與設(shè)備升級(jí)實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過程的低污染,、低能耗,。注塑廢氣,、噴涂廢氣經(jīng)多級(jí)凈化處理后達(dá)標(biāo)排放,，生活污水經(jīng)預(yù)處理后納入市政管網(wǎng),，冷卻水循環(huán)利用率達(dá) 100%。危險(xiǎn)廢物（如廢機(jī)油,、含...

全品類覆蓋與定制化能力 吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠等全品類,，適用于半導(dǎo)體,、顯示面板、MEMS等多個(gè)領(lǐng)域,。例如,，其LCD正性光刻膠YK-200和水油光刻膠JT-2001可滿足0.45μm及以上線寬需求，支持客戶...

公司嚴(yán)格執(zhí)行 ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系與 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn),，通過工藝革新與設(shè)備升級(jí)實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過程的低污染,、低能耗。注塑廢氣,、噴涂廢氣經(jīng)多級(jí)凈化處理后達(dá)標(biāo)排放,，生活污水經(jīng)預(yù)處理后納入市政管網(wǎng)，冷卻水循環(huán)利用率達(dá) 100%,。危險(xiǎn)廢物（如廢機(jī)油,、含...

綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì) 公司采用水性光刻膠技術(shù)，溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,，符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn),。同時(shí)，其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn),，通過膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用,，年減排VOCs（揮發(fā)性有機(jī)物）超100噸,。 ...

客戶需求導(dǎo)向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發(fā)光刻膠配方,，提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術(shù)支持,，尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢(shì)。 快速交付與售后支持 作為國內(nèi)廠商,，吉田半導(dǎo)體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源,，交貨周期較...

定義與特性 正性光刻膠是一種在曝光后，曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,，形成與掩膜版（Mask）圖案一致的圖形,。與負(fù)性光刻膠（未曝光區(qū)域溶解）相比，其優(yōu)勢(shì)是分辨率高,、圖案邊緣清晰,，是半導(dǎo)體制造（尤其是制程）的主流選擇。 ...

吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠：半導(dǎo)體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,，成為 45nm 及以上制程的理想選擇,。 YK-300 正性光刻膠分辨率達(dá) 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm,，適用于半導(dǎo)體芯片前道工藝...

差異化競(jìng)爭(zhēng)策略 在高級(jí)市場(chǎng)（如ArF浸沒式光刻膠）,，吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新，通過優(yōu)化現(xiàn)有配方（如提高酸擴(kuò)散抑制效率）逐步縮小與國際巨頭的差距,；在中低端市場(chǎng)（如PCB光刻膠）,，則憑借性價(jià)比優(yōu)勢(shì)（價(jià)格較進(jìn)口產(chǎn)品低20%-30%）快速搶占份額，2023...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以全球化視野布局市場(chǎng),，通過嚴(yán)格的質(zhì)量管控與完善的服務(wù)體系贏得客戶信賴,。公司產(chǎn)品不僅通過 ISO9001 認(rèn)證，更以進(jìn)口原材料和精細(xì)化生產(chǎn)流程保障品質(zhì),，例如錫膏產(chǎn)品采用無鹵無鉛配方,，符合環(huán)保要求，適用于電子產(chǎn)品制造,。其銷售網(wǎng)絡(luò)覆蓋全...

主要原材料“卡脖子”：從樹脂到光酸的依賴 樹脂與光酸的技術(shù)斷層 光刻膠成本中50%-60%來自樹脂,，而國內(nèi)KrF/ArF光刻膠樹脂的單體國產(chǎn)化率不足10%。例如,，日本信越化學(xué)的KrF樹脂純度達(dá)99.999%,，金屬雜質(zhì)含量低于1...

光刻膠的納米級(jí)性能要求 超高分辨率：需承受電子束（10keV以上）或EUV（13.5nm波長）的轟擊，避免散射導(dǎo)致的邊緣模糊,，目前商用EUV膠分辨率已達(dá)13nm（3nm制程）,。 低缺陷率：納米級(jí)結(jié)構(gòu)對(duì)膠層中的顆粒或化學(xué)不...