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珠海制版光刻膠工廠

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-22

 上游原材料:

? 樹脂:彤程新材、鼎龍股份實(shí)現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,金屬雜質(zhì)含量<5ppb(國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb),。

? 光引發(fā)劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,累計(jì)形成噸級(jí)訂單,;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線。

? 溶劑:怡達(dá)股份電子級(jí)PM溶劑全球市占率超40%,與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn),。

設(shè)備與驗(yàn)證:

? 上海新陽(yáng)與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機(jī)適配參數(shù),驗(yàn)證周期較國(guó)際廠商縮短6個(gè)月,;徐州博康實(shí)現(xiàn)“單體-樹脂-成品膠”全鏈條國(guó)產(chǎn)化,適配ASML Twinscan NXT系列光刻機(jī),。

? 國(guó)內(nèi)企業(yè)通過(guò)18-24個(gè)月的晶圓廠驗(yàn)證周期(如中芯國(guó)際,、長(zhǎng)江存儲(chǔ)),一旦導(dǎo)入不易被替代,。
吉田半導(dǎo)體全流程解決方案,,賦能客戶提升生產(chǎn)效率。珠海制版光刻膠工廠

珠海制版光刻膠工廠,光刻膠

? 化學(xué)反應(yīng):

? 正性膠:曝光后光敏劑(如重氮醌DQN)分解,,生成羧酸,,在堿性顯影液中溶解;

? 負(fù)性膠:曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),。

5. 顯影(Development)

? 顯影液:

? 正性膠:堿性水溶液(如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH),,溶解曝光區(qū)域;

? 負(fù)性膠:有機(jī)溶劑(如二甲苯,、醋酸丁酯),,溶解未曝光區(qū)域。

? 方法:噴淋顯影(PCB)或沉浸式顯影(半導(dǎo)體),,時(shí)間30秒-2分鐘,,需控制顯影液濃度和溫度,。

6. 后烘(Post-Bake)

? 目的:固化膠膜,提升耐蝕刻性和熱穩(wěn)定性,。

? 條件:

? 溫度:100-150℃(半導(dǎo)體用正性膠可能更高,,如180℃);

? 時(shí)間:15-60分鐘(厚膠或高耐蝕需求時(shí)延長(zhǎng)),。

7. 蝕刻/離子注入(后續(xù)工藝)

? 蝕刻:以膠膜為掩膜,,通過(guò)濕法(酸堿溶液)或干法(等離子體)刻蝕基板材料(如硅、金屬,、玻璃),;

? 離子注入:膠膜保護(hù)未曝光區(qū)域,使雜質(zhì)離子只能注入曝光區(qū)域(半導(dǎo)體摻雜工藝),。

8. 去膠(Strip)

? 方法:

? 濕法去膠:強(qiáng)氧化劑(如硫酸+雙氧水)或有機(jī)溶劑(如N-甲基吡咯烷酮NMP),;

? 干法去膠:氧等離子體灰化(半導(dǎo)體領(lǐng)域,無(wú)殘留),。

四川水油光刻膠嚴(yán)苛光刻膠標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì),,吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢(shì)。

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢(shì),,適用于不同領(lǐng)域。

LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力的特點(diǎn),重量 100g,。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,,能確保 LCD 生產(chǎn)過(guò)程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g,。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,,滿足半導(dǎo)體器件對(duì)光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,,具有耐腐蝕的特性,,適用于在有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝中,比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。

光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域

光刻膠是微電子制造的主要材料,,廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域:

 半導(dǎo)體制造

? 功能:在晶圓表面形成微細(xì)電路圖案,作為蝕刻或離子注入的掩膜,。

? 分類:

? 正性光刻膠:曝光區(qū)域溶解于顯影液,,形成與掩膜版一致的圖案(主流,,分辨率高)。

? 負(fù)性光刻膠:未曝光區(qū)域溶解,,形成反向圖案(用于早期工藝,,耐蝕刻性強(qiáng))。

? 技術(shù)演進(jìn):隨制程精度提升,,需匹配不同曝光波長(zhǎng)(紫外UV,、深紫外DUV、極紫外EUV),,例如EUV光刻膠用于7nm以下制程,。

 平板顯示(LCD/OLED)

? 彩色濾光片(CF):在玻璃基板上制作紅/綠/藍(lán)像素單元,光刻膠用于圖案化黑矩陣(BM),、彩色層(R/G/B)和保護(hù)層,。

? 電極圖案:制作TFT-LCD的電極線路或OLED的陰極/陽(yáng)極,需高透光率和精細(xì)邊緣控制,。

 印刷電路板(PCB)

? 線路蝕刻:在覆銅板上涂膠,,曝光顯影后保留線路區(qū)域,蝕刻去除未保護(hù)的銅箔,,形成導(dǎo)電線路,。

? 阻焊與字符層:阻焊膠覆蓋非線路區(qū)域,防止短路,;字符膠用于印刷電路板標(biāo)識(shí),。

 LED與功率器件

? 芯片制造:在藍(lán)寶石/硅基板上制作電極和量子阱結(jié)構(gòu),需耐高功率環(huán)境的耐高溫光刻膠,。

? Micro-LED:微米級(jí)芯片轉(zhuǎn)移和陣列化,,依賴超高分辨率光刻膠(分辨率≤5μm)。

光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,,23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì)!

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 綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì)
公司采用水性光刻膠技術(shù),,溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,,符合歐盟REACH法規(guī)和國(guó)內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí),,其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn),,通過(guò)膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用,年減排VOCs(揮發(fā)性有機(jī)物)超100噸,。

 低碳供應(yīng)鏈管理
吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開發(fā)生物基樹脂,,部分產(chǎn)品采用可再生原料(如植物基丙烯酸酯),碳排放強(qiáng)度較傳統(tǒng)工藝降低30%,。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞,,相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%,。
松山湖光刻膠廠家吉田,2000 萬(wàn)級(jí)產(chǎn)能,,48 小時(shí)極速交付,!西安PCB光刻膠國(guó)產(chǎn)廠商

發(fā)展戰(zhàn)略與行業(yè)地位。珠海制版光刻膠工廠

厚板光刻膠

  • 電路板制造:在制作對(duì)線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時(shí),,厚板光刻膠可確保線路的精細(xì)度和穩(wěn)定性,,比如汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板,,能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流,、高電壓等工況。
  • 功率器件制造:像絕緣柵雙極晶體管(IGBT)這類功率器件,,需要承受高電壓和大電流,,厚板光刻膠可用于其芯片制造過(guò)程中的光刻環(huán)節(jié),保障芯片內(nèi)部電路的精細(xì)布局,,提高器件的性能和可靠性,。


負(fù)性光刻膠

  • 半導(dǎo)體制造:在芯片制造過(guò)程中,用于制作一些對(duì)精度要求高,、圖形面積較大的結(jié)構(gòu),,如芯片的金屬互連層、接觸孔等,。通過(guò)負(fù)性光刻膠的曝光和顯影工藝,,能實(shí)現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移,確保芯片各部分之間的電氣連接正常,。
  • 平板顯示制造:在液晶顯示器(LCD)和有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(OLED)的制造中,,用于制作電極、像素等大面積圖案,。以 LCD 為例,,負(fù)性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案,控制液晶分子的排列,,從而實(shí)現(xiàn)圖像顯示,。


珠海制版光刻膠工廠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才,集企業(yè)奇思,,創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡,,一群有夢(mèng)想有朝氣的團(tuán)隊(duì)不斷在前進(jìn)的道路上開創(chuàng)新天地,繪畫新藍(lán)圖,,在廣東省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的信譽(yù),,信奉著“爭(zhēng)取每一個(gè)客戶不容易,失去每一個(gè)用戶很簡(jiǎn)單”的理念,市場(chǎng)是企業(yè)的方向,,質(zhì)量是企業(yè)的生命,,在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下,全體上下,,團(tuán)結(jié)一致,,共同進(jìn)退,**協(xié)力把各方面工作做得更好,,努力開創(chuàng)工作的新局面,,公司的新高度,未來(lái)吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來(lái),,即使現(xiàn)在有一點(diǎn)小小的成績(jī),,也不足以驕傲,過(guò)去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗(yàn),,才能繼續(xù)上路,,讓我們一起點(diǎn)燃新的希望,放飛新的夢(mèng)想,!

標(biāo)簽: 光刻膠