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定義與特性 正性光刻膠是一種在曝光后，曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案一致的圖形。與負(fù)性光刻膠（未曝光區(qū)域溶解）相比，其優(yōu)勢是分辨率高,、圖案邊緣清晰，是半導(dǎo)體制造（尤其是制程）的主流選擇,。 ...

作為中國半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè),，吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略，通過 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新,，成功突破多項 “卡脖子” 技術(shù),，構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國產(chǎn)化能力。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造,、顯示面板,、精密電子等領(lǐng)域，為國內(nèi)半導(dǎo)體...

差異化競爭策略 在高級市場（如ArF浸沒式光刻膠）,，吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新,，通過優(yōu)化現(xiàn)有配方（如提高酸擴(kuò)散抑制效率）逐步縮小與國際巨頭的差距；在中低端市場（如PCB光刻膠）,，則憑借性價比優(yōu)勢（價格較進(jìn)口產(chǎn)品低20%-30%）快速搶占份額,，2023...

技術(shù)挑戰(zhàn)： ? 技術(shù)壁壘：EUV光刻膠,、3nm以下制程材料仍處研發(fā)階段，光刻膠分辨率,、靈敏度與國際水平存在差距（如東京應(yīng)化ArF膠分辨率達(dá)14nm）,。 ? 供應(yīng)鏈風(fēng)險：樹脂、光引發(fā)劑等原...

吉田半導(dǎo)體獲評 "專精特新" 企業(yè),，行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),，以技術(shù)創(chuàng)新與標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)為，吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號,，樹立行業(yè),。 憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn)，吉田半導(dǎo)體獲評 "廣東省專精特新企業(yè)"" ",，承擔(dān)多項國家 02 專項課題,。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司，坐落于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),，是半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的一顆璀璨明珠,。公司注冊資本 2000 萬元，專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā),、生產(chǎn)與銷售,，是國家高新技術(shù)企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)以及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè),。 強(qiáng)大的產(chǎn)品陣容：吉田半導(dǎo)體產(chǎn)...

工藝流程 ? 目的：去除基板表面油污,、顆粒，增強(qiáng)感光膠附著力,。 ? 方法： ? 化學(xué)清洗（硫酸/雙氧水、去離子水）,； ? 表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,，PCB基板...

憑借多年研發(fā)積累，公司形成了覆蓋光刻膠,、焊接材料,、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,，不僅提供常規(guī)錫膏,、助焊膏，還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏,、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,，滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時,，感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,，兼具耐潮...

技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)重構(gòu)的臨界點 光刻膠技術(shù)的加速突破正在推動芯片制造行業(yè)進(jìn)入“材料定義制程”的新階段,。中國在政策支持和資本推動下，已在KrF/ArF領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)局部突破,，但EUV等領(lǐng)域仍需5-10年才能實現(xiàn)替代,。未來3-5年，EUV光刻膠研發(fā),、...

納米制造與表面工程 ? 納米結(jié)構(gòu)模板：作為納米壓印光刻（NIL）的母版制備材料,，通過電子束光刻膠寫出高精度納米圖案（如50nm以下的柱陣列、孔陣列）,，用于批量復(fù)制微流控芯片或柔性顯示基板,。 ? 表面功能化：在基底表面構(gòu)建納米...

感光機(jī)制 ? 重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉），曝光后通過交聯(lián)反應(yīng)固化,，適用于精細(xì)圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）,。 ? SBQ型（單液型）：預(yù)混光敏劑，無需調(diào)配,，感光度高（曝光時間...

技術(shù)研發(fā)：從配方到工藝的經(jīng)驗壁壘 配方設(shè)計的“黑箱效應(yīng)” 光刻膠配方涉及成百上千種成分的排列組合,，需通過數(shù)萬次實驗優(yōu)化。例如,，ArF光刻膠需在193nm波長下實現(xiàn)0.1μm分辨率,，其光酸產(chǎn)率、熱穩(wěn)定性等參數(shù)需精確匹配光刻機(jī)性能...

關(guān)鍵工藝流程 涂布： ? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠,，厚度控制在0.1-5μm（依制程精度調(diào)整）,，需均勻無氣泡（旋涂轉(zhuǎn)速500-5000rpm）。 前烘（Soft Bake）： ...

客戶認(rèn)證：從實驗室到產(chǎn)線的漫長“闖關(guān)” 驗證周期與試錯成本 半導(dǎo)體光刻膠需經(jīng)歷PRS（性能測試）,、STR（小試）,、MSTR（中批量驗證）等階段，周期長達(dá)2-3年,。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動驗證,，直至2025年才通過客戶5...

技術(shù)驗證周期長 半導(dǎo)體光刻膠的客戶驗證周期通常為2-3年，需經(jīng)歷PRS（性能測試）,、STR（小試）,、MSTR（批量驗證）等階段。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動驗證,，預(yù)計2025年才能進(jìn)入穩(wěn)定供貨階段,。 原材料依賴仍存 ...

納米壓印光刻膠 微納光學(xué)器件制造：制作衍射光學(xué)元件、微透鏡陣列等微納光學(xué)器件時,，納米壓印光刻膠可實現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復(fù)制,。通過納米壓印技術(shù)，將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上,，再經(jīng)過后續(xù)處理,，可制造出具有特定光學(xué)性能的微納光學(xué)器件,，應(yīng)用于光通信...

吉田半導(dǎo)體水性感光膠 JT-1200：水油兼容，鋼片加工精度 ±5μm JT-1200 水性感光膠解決鋼片加工難題,，提升汽車電子部件制造精度,。 針對汽車電子鋼片加工需求，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 JT-1200 水性感光膠實現(xiàn)水油兼容性達(dá) 100%,，加工精度...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板、負(fù)性,、正性,、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求,。 UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號,，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C,，長期可靠性高,，粘接強(qiáng)度高，重量 100g,。適用于需要...

納米壓印光刻膠 微納光學(xué)器件制造：制作衍射光學(xué)元件,、微透鏡陣列等微納光學(xué)器件時，納米壓印光刻膠可實現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復(fù)制,。通過納米壓印技術(shù),，將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再經(jīng)過后續(xù)處理,，可制造出具有特定光學(xué)性能的微納光學(xué)器件,，應(yīng)用于光通信...

正性光刻膠（如 YK-300） 應(yīng)用場景：用于芯片的精細(xì)圖案化，如集成電路（IC）,、分立器件（二極管,、三極管）的制造。 特點：高分辨率（可達(dá)亞微米級）,，適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性,。 負(fù)性光刻膠（...

產(chǎn)品優(yōu)勢：多元化布局與專業(yè)化延伸 全品類覆蓋 吉田產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏等,，形成“光刻膠+配套材料”的完整產(chǎn)品線。例如： ? 芯片光刻膠：覆蓋i線,、g線光刻膠,，適用于6...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強(qiáng)大,。 在光刻膠領(lǐng)域，芯片光刻膠為芯片制造中的精細(xì)光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持,，確保芯片線路的精細(xì)刻畫,； 納米壓印光刻膠適用于微納加工，助力制造超精細(xì)的微納結(jié)構(gòu),； LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)...

公司遵循國際質(zhì)量管理標(biāo)準(zhǔn),，通過 ISO9001:2008 認(rèn)證，并在生產(chǎn)過程中執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,，從原料入庫到成品出庫實現(xiàn)全流程監(jiān)控,。以錫膏產(chǎn)品為例，其無鹵無鉛配方符合環(huán)保要求,，同時具備低飛濺,、高潤濕性等特點，適用于電子產(chǎn)品組裝,。此外,，公司建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)...

LCD顯示 ? 彩色濾光片（CF）： ? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm,，透光率<0.1%,。 ? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍(lán)像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性,。 ...

光刻膠的工作原理： 1. 涂覆與曝光：在基底（如硅片,、玻璃、聚合物）表面均勻涂覆光刻膠,，通過掩膜（或直接電子束掃描）對特定區(qū)域曝光,。 2. 化學(xué)變化：曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)（正性膠曝光后溶解，負(fù)性膠曝光后交聯(lián)不溶）,。...

全品類覆蓋 吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠,、厚膜光刻膠及水性光刻膠等,，覆蓋芯片制造、顯示面板,、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求,，技術(shù)布局全面性于多數(shù)國內(nèi)廠商。 關(guān)鍵技術(shù)突破 納...

產(chǎn)品優(yōu)勢：多元化布局與專業(yè)化延伸 全品類覆蓋 吉田產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠,、LCD光刻膠、半導(dǎo)體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整產(chǎn)品線,。例如： ? 芯片光刻膠：覆蓋i線,、g線光刻膠，適用于6...

差異化競爭策略 在高級市場（如ArF浸沒式光刻膠）,，吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新,，通過優(yōu)化現(xiàn)有配方（如提高酸擴(kuò)散抑制效率）逐步縮小與國際巨頭的差距；在中低端市場（如PCB光刻膠）,，則憑借性價比優(yōu)勢（價格較進(jìn)口產(chǎn)品低20%-30%）快速搶占份額,，2023...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司，坐落于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),，是半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的一顆璀璨明珠,。公司注冊資本 2000 萬元，專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā),、生產(chǎn)與銷售,，是國家高新技術(shù)企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)以及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè),。 強(qiáng)大的產(chǎn)品陣容：吉田半導(dǎo)體產(chǎn)...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領(lǐng)域,。 厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年,。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術(shù)資料,。適用...