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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-05-21

干涉測(cè)量法[9-10]是基于光的干涉原理實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜厚度測(cè)量的光學(xué)方法 ,,是一種高精度的測(cè)量技術(shù),。采用光學(xué)干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)一般具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,成本低廉,,穩(wěn)定性好,,抗干擾能力強(qiáng),使用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),。對(duì)于大多數(shù)的干涉測(cè)量任務(wù),,都是通過(guò)薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律,來(lái)研究干涉裝置中待測(cè)物理量引入的光程差或者是位相差的變化,,從而達(dá)到測(cè)量目的,。光學(xué)干涉測(cè)量方法的測(cè)量精度可達(dá)到甚至優(yōu)于納米量級(jí),而利用外差干涉進(jìn)行測(cè)量,,其精度甚至可以達(dá)到10-3nm量級(jí)[11],。根據(jù)所使用光源的不同,干涉測(cè)量方法又可以分為激光干涉測(cè)量和白光干涉測(cè)量?jī)纱箢?lèi),。激光干涉測(cè)量的分辨率更高,,但是不能實(shí)現(xiàn)對(duì)靜態(tài)信號(hào)的測(cè)量,只能測(cè)量輸出信號(hào)的變化量或者是連續(xù)信號(hào)的變化,,即只能實(shí)現(xiàn)相對(duì)測(cè)量,。而白光干涉是通過(guò)對(duì)干涉信號(hào)中心條紋的有效識(shí)別來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)物理量的測(cè)量,是一種測(cè)量方式,,在薄膜厚度的測(cè)量中得到了廣泛的應(yīng)用,。操作需要一定的專(zhuān)業(yè)基礎(chǔ)和經(jīng)驗(yàn),需要進(jìn)行充分的培訓(xùn)和實(shí)踐,。蘇州膜厚儀廠家直銷(xiāo)價(jià)格

由于不同性質(zhì)和形態(tài)的薄膜對(duì)系統(tǒng)的測(cè)量量程和精度的需求不盡相同,,因而多種測(cè)量方法各有優(yōu)缺,難以一概而論,。按照薄膜厚度的增加,,適用的測(cè)量方式分別為橢圓偏振法、分光光度法,、共聚焦法和干涉法,。對(duì)于小于1μm的較薄薄膜,白光干涉輪廓儀的測(cè)量精度較低,,分光光度法和橢圓偏振法較適合,。而對(duì)于小于200nm的薄膜,由于透過(guò)率曲線缺少峰谷值,橢圓偏振法結(jié)果更可靠,?;诎坠飧缮嬖淼墓鈱W(xué)薄膜厚度測(cè)量方案目前主要集中于測(cè)量透明或者半透明薄膜,通過(guò)使用不同的解調(diào)技術(shù)處理白光干涉的圖樣,,得到待測(cè)薄膜厚度,。本章在詳細(xì)研究白光干涉測(cè)量技術(shù)的常用解調(diào)方案、解調(diào)原理及其局限性的基礎(chǔ)上,,分析得到了常用的基于兩個(gè)相鄰干涉峰的白光干涉解調(diào)方案不適用于極短光程差測(cè)量的結(jié)論,。在此基礎(chǔ)上,我們提出了基于干涉光譜單峰值波長(zhǎng)移動(dòng)的白光干涉測(cè)量解調(diào)技術(shù),。蘇州膜厚儀廠家直銷(xiāo)價(jià)格白光干涉膜厚儀需要校準(zhǔn),。

針對(duì)微米級(jí)工業(yè)薄膜厚度測(cè)量,開(kāi)發(fā)了一種基于寬光譜干涉的反射式法測(cè)量方法,,并研制了適用于工業(yè)應(yīng)用的小型薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng),,考慮了成本、穩(wěn)定性,、體積等因素要求,。該系統(tǒng)結(jié)合了薄膜干涉和光譜共聚焦原理,采用波長(zhǎng)分辨下的薄膜反射干涉光譜模型,,利用經(jīng)典模態(tài)分解和非均勻傅里葉變換的思想,,提出了一種基于相位功率譜分析的膜厚解算算法。該算法能夠有效利用全光譜數(shù)據(jù)準(zhǔn)確提取相位變化,,抗干擾能力強(qiáng),,能夠排除環(huán)境噪聲等假頻干擾。經(jīng)過(guò)對(duì)PVC標(biāo)準(zhǔn)厚度片,、PCB板芯片膜層及鍺基SiO2膜層的測(cè)量實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,,結(jié)果表明該測(cè)厚系統(tǒng)具有1~75微米厚度的測(cè)量量程和微米級(jí)的測(cè)量不確定度,而且無(wú)需對(duì)焦,,可以在10ms內(nèi)完成單次測(cè)量,,滿足工業(yè)級(jí)測(cè)量需要的高效便捷的應(yīng)用要求。

對(duì)同一靶丸相同位置進(jìn)行白光垂直掃描干涉 ,,圖4-3是靶丸的垂直掃描干涉示意圖,,通過(guò)控制光學(xué)輪廓儀的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)干涉物鏡在垂直方向上的移動(dòng),,從而測(cè)量到光線穿過(guò)靶丸后反射到參考鏡與到達(dá)基底直接反射回參考鏡的光線之間的光程差,,顯然,當(dāng)一束平行光穿過(guò)靶丸后,,偏離靶丸中心越遠(yuǎn)的光線,,測(cè)量到的有效壁厚越大,其光程差也越大,但這并不表示靶丸殼層的厚度,,當(dāng)垂直穿過(guò)靶丸中心的光線測(cè)得的光程差才對(duì)應(yīng)靶丸的上,、下殼層的厚度。精度高的白光干涉膜厚儀通常采用Michelson干涉儀的結(jié)構(gòu),。

白光干涉時(shí)域解調(diào)方案需要借助機(jī)械掃描部件帶動(dòng)干涉儀的反射鏡移動(dòng),,補(bǔ)償光程差,實(shí)現(xiàn)對(duì)信號(hào)的解調(diào),。光纖白光干涉儀的兩輸出臂分別作為參考臂和測(cè)量臂,,作用是將待測(cè)的物理量轉(zhuǎn)換為干涉儀兩臂的光程差變化。測(cè)量臂因待測(cè)物理量而增加了一個(gè)未知的光程,,參考臂則通過(guò)移動(dòng)反射鏡來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)測(cè)量臂引入的光程差的補(bǔ)償,。當(dāng)干涉儀兩臂光程差ΔL=0時(shí),即兩干涉光束為等光程的時(shí)候,,出現(xiàn)干涉極大值,,可以觀察到中心零級(jí)干涉條紋,而這一現(xiàn)象與外界的干擾因素?zé)o關(guān),,因而可據(jù)此得到待測(cè)物理量的值,。干擾輸出信號(hào)強(qiáng)度的因素包括:入射光功率、光纖的傳輸損耗,、各端面的反射等,。外界環(huán)境的擾動(dòng)會(huì)影響輸出信號(hào)的強(qiáng)度,但是對(duì)零級(jí)干涉條紋的位置不會(huì)產(chǎn)生影響,。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展,,白光干涉膜厚儀的性能和功能將得到進(jìn)一步提高。薄膜干涉膜厚儀制造廠家

白光干涉膜厚儀可以配合不同的軟件進(jìn)行分析和數(shù)據(jù)處理,,例如建立數(shù)據(jù)庫(kù),、統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)等。蘇州膜厚儀廠家直銷(xiāo)價(jià)格

白光干涉的相干原理早在1975年就被提出,,并在1976年實(shí)現(xiàn)了在光纖通信領(lǐng)域中的應(yīng)用,。1983年,Brian Culshaw的研究小組報(bào)道了白光干涉技術(shù)在光纖傳感領(lǐng)域中的應(yīng)用,。隨后在1984年,,報(bào)道了基于白光干涉原理的完整的位移傳感系統(tǒng)。這項(xiàng)研究成果證明了白光干涉技術(shù)可以用于測(cè)量能夠轉(zhuǎn)換成位移的物理參量,。此后的幾年中,,白光干涉技術(shù)應(yīng)用于溫度、壓力等的研究也相繼被報(bào)道,。自上世紀(jì)90年代以來(lái),,白光干涉技術(shù)得到了快速發(fā)展,,提供了更多實(shí)現(xiàn)測(cè)量的解決方案。近年來(lái),,由于傳感器設(shè)計(jì)和研制的進(jìn)步,,信號(hào)處理的新方案提出,以及傳感器的多路復(fù)用等技術(shù)的發(fā)展,,使白光干涉測(cè)量技術(shù)的發(fā)展更加迅速,。蘇州膜厚儀廠家直銷(xiāo)價(jià)格