Q 為柵極電荷,，可參考IGBT模塊參數(shù)手冊(cè),。例如,，常見(jiàn)IGBT驅(qū)動(dòng)器(如TX-KA101)輸出正電壓15V，負(fù)電壓-9V,，則U=24V,，假設(shè) F=10KHz，Q=2.8uC可計(jì)算出 P=0.67w ,，柵極電阻應(yīng)選取2W電阻,，或2個(gè)1W電阻并聯(lián)。三,、設(shè)置柵極電阻的其他注意事項(xiàng)1,、盡量減小柵極回路的電感阻抗，具體的措施有：a)驅(qū)動(dòng)器靠近IGBT減小引線長(zhǎng)度,；b) 驅(qū)動(dòng)的柵射極引線絞合,，并且不要用過(guò)粗的線,；c) 線路板上的 2 根驅(qū)動(dòng)線的距離盡量靠近；d) 柵極電阻使用無(wú)感電阻,；e) 如果是有感電阻,，可以用幾個(gè)并聯(lián)以減小電感。2,、IGBT 開(kāi)通和關(guān)斷選取不同的柵極電阻80年代初期,，用于功率MOSFET制造技術(shù)的DMOS(雙擴(kuò)散形成的金屬-氧化物-半導(dǎo)體)工藝被采用到IGBT中來(lái)。徐匯區(qū)哪里IGBT模塊聯(lián)系人

90年代中期,，溝槽柵結(jié)構(gòu)又返回到一種新概念的IGBT,，它是采用從大規(guī)模集成(LSI)工藝借鑒來(lái)的硅干法刻蝕技術(shù)實(shí)現(xiàn)的新刻蝕工藝，但仍然是穿通(PT)型芯片結(jié)構(gòu),。[4]在這種溝槽結(jié)構(gòu)中,，實(shí)現(xiàn)了在通態(tài)電壓和關(guān)斷時(shí)間之間折衷的更重要的改進(jìn)。硅芯片的重直結(jié)構(gòu)也得到了急劇的轉(zhuǎn)變,，先是采用非穿通(NPT)結(jié)構(gòu),，繼而變化成弱穿通(LPT)結(jié)構(gòu)，這就使安全工作區(qū)(SOA)得到同表面柵結(jié)構(gòu)演變類似的改善,。這次從穿通(PT)型技術(shù)先進(jìn)到非穿通(NPT)型技術(shù),，是**基本的，也是很重大的概念變化,。這就是：穿通(PT)技術(shù)會(huì)有比較高的載流子注入系數(shù),，而由于它要求對(duì)少數(shù)載流子壽命進(jìn)行控制致使其輸運(yùn)效率變壞。徐匯區(qū)哪里IGBT模塊聯(lián)系人開(kāi)關(guān)損耗增大,，使原件發(fā)熱加劇,，因此，選用IGBT模塊時(shí)額定電流應(yīng)大于負(fù)載電流,。

Rlimit =10～100Ω,C=10～470μF,Creset=10nF.一,、柵極電阻Rg的作用1、消除柵極振蕩絕緣柵器件(IGBT,、MOSFET)的柵射（或柵源）極之間是容性結(jié)構(gòu),，柵極回路的寄生電感又是不可避免的，如果沒(méi)有柵極電阻,，那柵極回路在驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)脈沖的激勵(lì)下要產(chǎn)生很強(qiáng)的振蕩,，因此必須串聯(lián)一個(gè)電阻加以迅速衰減。2,、轉(zhuǎn)移驅(qū)動(dòng)器的功率損耗電容電感都是無(wú)功元件，如果沒(méi)有柵極電阻,，驅(qū)動(dòng)功率就將絕大部分消耗在驅(qū)動(dòng)器內(nèi)部的輸出管上,，使其溫度上升很多,。

正式商用的高壓大電流IGBT器件至今尚未出現(xiàn)，其電壓和電流容量還很有限,，遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足電力電子應(yīng)用技術(shù)發(fā)展的需求,，特別是在高壓領(lǐng)域的許多應(yīng)用中，要求器件的電壓等級(jí)達(dá)到10KV以上,。目前只能通過(guò)IGBT高壓串聯(lián)等技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)高壓應(yīng)用,。國(guó)外的一些廠家如瑞士ABB公司采用軟穿通原則研制出了8KV的IGBT器件，德國(guó)的EUPEC生產(chǎn)的6500V/600A高壓大功率IGBT器件已經(jīng)獲得實(shí)際應(yīng)用,，日本東芝也已涉足該領(lǐng)域,。與此同時(shí)，各大半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商不斷開(kāi)發(fā)IGBT的高耐壓,、大電流,、高速、低飽和壓降,、高可靠性,、低成本技術(shù)，主要采用1um以下制作工藝,，研制開(kāi)發(fā)取得一些新進(jìn)展,。 [1]特別是用作高頻開(kāi)關(guān)時(shí)，由于開(kāi)關(guān)損耗增大,，發(fā)熱加劇,，選用時(shí)應(yīng)該降等使用。

基片的應(yīng)用在管體的P+和N+ 區(qū)之間創(chuàng)建了一個(gè)J1結(jié),。當(dāng)正柵偏壓使柵極下面反演P基區(qū)時(shí),，一個(gè)N溝道形成，同時(shí)出現(xiàn)一個(gè)電子流,，并完全按照功率MOSFET的方式產(chǎn)生一股電流,。如果這個(gè)電子流產(chǎn)生的電壓在0.7V范圍內(nèi)，那么,，J1將處于正向偏壓,，一些空穴注入N-區(qū)內(nèi)，并調(diào)整陰陽(yáng)極之間的電阻率,，這種方式降低了功率導(dǎo)通的總損耗,，并啟動(dòng)了第二個(gè)電荷流。***的結(jié)果是,，在半導(dǎo)體層次內(nèi)臨時(shí)出現(xiàn)兩種不同的電流拓?fù)洌阂粋€(gè)電子流(MOSFET 電流),；空穴電流（雙極）。 [4]uGE大于開(kāi)啟電壓UGE(th)時(shí)，MOSFET內(nèi)形成溝道,，為晶體管提供基極電流,，IGBT導(dǎo)通。 [2]非穿通(NPT)技術(shù)則是基于不對(duì)少子壽命進(jìn)行殺傷而有很好的輸運(yùn)效率,，不過(guò)其載流子注入系數(shù)卻比較低,。徐匯區(qū)哪里IGBT模塊聯(lián)系人

具體地來(lái)說(shuō)，p+n-p的電流放大系數(shù)α設(shè)計(jì)為0.5以下,。徐匯區(qū)哪里IGBT模塊聯(lián)系人

通常為達(dá)到更好的驅(qū)動(dòng)效果,，IGBT開(kāi)通和關(guān)斷可以采取不同的驅(qū)動(dòng)速度，分別選取 Rgon和Rgoff（也稱 Rg+ 和 Rg- ）往往是很必要的,。IGBT驅(qū)動(dòng)器有些是開(kāi)通和關(guān)斷分別輸出控制,，只要分別接上Rgon和Rgoff就可以了。有些驅(qū)動(dòng)器只有一個(gè)輸出端,，這就要在原來(lái)的Rg 上再并聯(lián)一個(gè)電阻和二極管的串聯(lián)網(wǎng)絡(luò),，用以調(diào)節(jié)2個(gè)方向的驅(qū)動(dòng)速度。3,、在IGBT的柵射極間接上Rge=10－100K 電阻,，防止在未接驅(qū)動(dòng)引線的情況下，偶然加主電高壓,，通過(guò)米勒電容燒毀IGBT,。所以用戶比較好再在IGBT的柵射極或MOSFET柵源間加裝Rge。徐匯區(qū)哪里IGBT模塊聯(lián)系人

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