德國Polos-BESM系列光刻機(jī)采用無掩模激光直寫技術(shù)，突破傳統(tǒng)光刻對物理掩膜的依賴,，支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進(jìn)行快速曝光。其亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）和405 nm紫外光源，可在5英寸晶圓上實(shí)現(xiàn)高精度微納結(jié)構(gòu)加工18,。系統(tǒng)體積緊湊,，only占桌面空間，搭配閉環(huán)自動對焦（1秒完成）和半自動多層對準(zhǔn)功能,，大幅提升實(shí)驗室原型開發(fā)效率,，適用于微流體芯片設(shè)計、電子元件制造等領(lǐng)域,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢,。無掩模技術(shù)優(yōu)勢：摒棄傳統(tǒng)掩模,，圖案設(shè)計實(shí)時調(diào)整，研發(fā)成本直降 70%,。遼寧德國POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

某分析化學(xué)實(shí)驗室采用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)了集成電化學(xué)傳感器的微流控芯片,。其多材料同步曝光技術(shù)在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極，傳感器的檢測限達(dá) 1nM,，較傳統(tǒng)電化學(xué)工作站提升 100 倍,。通過軟件輸入不同圖案，可在 24 小時內(nèi)完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換,。該芯片被用于即時檢測（POCT）設(shè)備,，使現(xiàn)場水質(zhì)監(jiān)測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘，相關(guān)設(shè)備已通過歐盟 CE 認(rèn)證,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。北京德國PSP-POLOS光刻機(jī)分辨率1.5微米用戶案例broad：全球超500家科研機(jī)構(gòu)采用,，覆蓋高校、研究所與企業(yè)實(shí)驗室,。

某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)了基于阻變存儲器（RRAM）的存算一體架構(gòu),。其激光直寫技術(shù)在 10nm 厚度的 HfO?介質(zhì)層上實(shí)現(xiàn)了 5nm 的電極邊緣控制,，器件的電導(dǎo)均勻性提升至 95%，計算能效比達(dá) 10TOPS/W,，較傳統(tǒng) GPU 提升兩個數(shù)量級,。基于該技術(shù)的邊緣 AI 芯片,，在圖像識別任務(wù)中能耗降低 80%,，推理速度提升 3 倍，已應(yīng)用于智能攝像頭和無人機(jī)避障系統(tǒng),，相關(guān)芯片出貨量突破百萬片,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。

Polos-BESM支持GDS文件直接導(dǎo)入和多層曝光疊加，簡化射頻器件（如IDC電容器）制造流程,。研究團(tuán)隊利用類似設(shè)備成功制備高頻電路元件,，驗證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。其高重復(fù)性（0.1 μm）確?？蒲谐晒目赊D(zhuǎn)化性,，助力國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術(shù)封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。微型傳感器量產(chǎn)：80 μm開環(huán)諧振器加工能力,，推動工業(yè)級MEMS傳感器升級,。

Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計，寫入?yún)^(qū)域達(dá)155×155 mm,，平臺雙向重復(fù)性精度0.1 μm,，滿足工業(yè)級需求。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭,，支持實(shí)時觀測與多層對準(zhǔn),。配套的BEAM Xplorer軟件簡化了復(fù)雜圖案設(shè)計流程，內(nèi)置高性能筆記本電腦實(shí)現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理,，成為微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和光子晶體研究的理想工具,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢,。德國技術(shù)基因：融合精密光學(xué)與自動化控制，確保設(shè)備高穩(wěn)定性與長壽命,。河北德國PSP-POLOS光刻機(jī)分辨率1.5微米

生物界面創(chuàng)新：微納結(jié)構(gòu)可控加工,，為組織工程提供新型仿生材料解決方案。遼寧德國POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

德國 Polos 光刻機(jī)系列以其緊湊的設(shè)計,，在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用,。對于研究實(shí)驗室，尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機(jī)構(gòu)來說,，設(shè)備的空間占用是重要考量因素,。Polos 光刻機(jī)占用空間小的特點(diǎn)，使其能夠輕松融入各類實(shí)驗室環(huán)境,。? 盡管體積小巧,，但它的性能卻毫不遜色。無掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作,，低成本的優(yōu)勢降低了科研投入門檻,。在小型實(shí)驗室中，科研人員使用 Polos 光刻機(jī),，在微流體,、電子學(xué)等領(lǐng)域開展研究，成功取得多項成果,。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā),，Polos 光刻機(jī)證明了小空間也能蘊(yùn)藏大能量,，為科研創(chuàng)新提供有力支持。遼寧德國POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸