某生物力學(xué)實(shí)驗(yàn)室通過(guò) Polos 光刻機(jī),，在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細(xì)胞力傳感器。其多材料曝光技術(shù)在 20μm 的懸臂梁上同時(shí)制備金屬電極與硅基壓阻元件,，傳感器的力分辨率達(dá) 5pN,，位移檢測(cè)精度達(dá) 1nm。在心肌細(xì)胞收縮力檢測(cè)中,，該集成傳感器實(shí)現(xiàn)了力 - 電信號(hào)的同步采集,，發(fā)現(xiàn)收縮力峰值與動(dòng)作電位時(shí)程的相關(guān)性達(dá) 0.92，為心臟電機(jī)械耦合機(jī)制研究提供了全新工具,，相關(guān)論文發(fā)表于《Biophysical Journal》,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。圖案靈活性：支持 STL 模型直接導(dǎo)入,，30 分鐘完成從設(shè)計(jì)到曝光全流程。河北德國(guó)POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

低成本桌面化光刻：SPS POLOS μ的科研普惠,！Polos系列在微流體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型,。例如，中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細(xì)胞浸潤(rùn)行為,，為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結(jié)構(gòu)批量生產(chǎn),，推動(dòng)醫(yī)療診斷芯片研發(fā),，如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。陜西德國(guó)桌面無(wú)掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化技術(shù)Benchmark：Polos-μPrinter 入選《半導(dǎo)體技術(shù)》年度創(chuàng)新產(chǎn)品,，推動(dòng)無(wú)掩模光刻技術(shù)普及,。

某revolution生物醫(yī)學(xué)研究機(jī)構(gòu)致力于開發(fā)快速、precise的疾病診斷技術(shù),。在研發(fā)一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時(shí),，采用了德國(guó) Polos 光刻機(jī)。利用其無(wú)掩模激光光刻技術(shù),，科研團(tuán)隊(duì)成功制造出擁有復(fù)雜微通道網(wǎng)絡(luò)的芯片,。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測(cè)試劑的混合及反應(yīng)過(guò)程，極大提高了檢測(cè)的靈敏度和準(zhǔn)確性。以往使用傳統(tǒng)光刻技術(shù)制備此類芯片,，不only周期長(zhǎng)，且精度難以保證,。而 Polos 光刻機(jī)使制備周期縮短了近三分之一,，助力該機(jī)構(gòu)在tumor早期診斷研究上取得重大突破，相關(guān)成果已發(fā)表在國(guó)際authority醫(yī)學(xué)期刊上,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。

上海有機(jī)化學(xué)研究所通過(guò)光刻技術(shù)制備多組分納米纖維,，實(shí)現(xiàn)了功能材料的精確組裝。類似地,，Polos系列設(shè)備可支持此類結(jié)構(gòu)的可控加工,，為新能源器件（如柔性電池）和智能材料提供技術(shù)基礎(chǔ)3。設(shè)備的高重復(fù)性（0.1 μm）確保了科研成果的可轉(zhuǎn)化性,。掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì),。生物界面創(chuàng)新：微納結(jié)構(gòu)可控加工,，為組織工程提供新型仿生材料解決方案。

無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。跨學(xué)科應(yīng)用：覆蓋微機(jī)械,、光子晶體,、仿生傳感器與納米材料合成領(lǐng)域。河南光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

微流體領(lǐng)域：支持 1-100μm 微通道定制,，助力organ芯片血管網(wǎng)絡(luò)precise建模,。河北德國(guó)POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

某能源研究團(tuán)隊(duì)采用 Polos 光刻機(jī)制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術(shù)在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,，器件的能量轉(zhuǎn)換效率達(dá) 35%,，在 10Hz 振動(dòng)下可輸出 50μW/cm2 的功率。通過(guò)自定義電極間距和厚度,，該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動(dòng),，在智能穿戴設(shè)備中實(shí)現(xiàn)了運(yùn)動(dòng)能量的實(shí)時(shí)采集與存儲(chǔ)。其輕量化設(shè)計(jì)（體積 < 1mm3）還被用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器節(jié)點(diǎn),，使傳感器續(xù)航時(shí)間從 3 個(gè)月延長(zhǎng)至 2 年,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。河北德國(guó)POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸