在科研領(lǐng)域，設(shè)備的先進(jìn)程度往往決定了研究的深度與廣度,。德國(guó)的 Polos - BESM,、Polos - BESM XL、SPS 光刻機(jī) POLOS μ 帶來(lái)了革新之光,。它們運(yùn)用無(wú)掩模激光光刻技術(shù),，摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長(zhǎng)的掩模，極大降低了成本,。這些光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,，在微流體,、電子學(xué)和納 / 微機(jī)械系統(tǒng)等領(lǐng)域大顯身手,。例如在微流體研究中，能precise制造復(fù)雜的微通道網(wǎng)絡(luò),，助力藥物傳輸,、細(xì)胞培養(yǎng)等研究。在電子學(xué)方面,，可實(shí)現(xiàn)高精度的電路圖案曝光,，為芯片研發(fā)提供有力支持。其占用空間小,，對(duì)于空間有限的研究實(shí)驗(yàn)室來(lái)說(shuō)堪稱完美,。憑借出色特性，它們已助力眾多科研團(tuán)隊(duì)取得成果,，成為科研創(chuàng)新的得力助手 ,。柔性電子制造：可制備叉指電容器與高頻電路，推動(dòng)5G通信與物聯(lián)網(wǎng)硬件發(fā)展,。天津德國(guó)POLOS光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米

無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。浙江德國(guó)POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸POLOS μ 光刻機(jī)：微型化機(jī)身,，納米級(jí)曝光精度,，微流體芯片制備周期縮短 40%。

德國(guó)Polos-BESM系列光刻機(jī)采用無(wú)掩模激光直寫(xiě)技術(shù),，突破傳統(tǒng)光刻對(duì)物理掩膜的依賴,，支持用戶通過(guò)軟件直接輸入任意圖案進(jìn)行快速曝光。其亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）和405 nm紫外光源,，可在5英寸晶圓上實(shí)現(xiàn)高精度微納結(jié)構(gòu)加工18,。系統(tǒng)體積緊湊，only占桌面空間,，搭配閉環(huán)自動(dòng)對(duì)焦（1秒完成）和半自動(dòng)多層對(duì)準(zhǔn)功能,，大幅提升實(shí)驗(yàn)室原型開(kāi)發(fā)效率，適用于微流體芯片設(shè)計(jì),、電子元件制造等領(lǐng)域,。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì),。

在構(gòu)建肝臟芯片的血管化網(wǎng)絡(luò)時(shí)，某生物工程團(tuán)隊(duì)使用 Polos 光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了跨尺度結(jié)構(gòu)制備,。其無(wú)掩模技術(shù)在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接,，血管內(nèi)皮細(xì)胞貼壁率達(dá) 95%，較傳統(tǒng)光刻提升 30%,。通過(guò)輸入 CT 掃描的真實(shí)肝臟血管數(shù)據(jù),，芯片成功模擬門(mén)靜脈與肝竇的血流梯度，使肝細(xì)胞功能維持時(shí)間從 7 天延長(zhǎng)至 21 天,。該技術(shù)為藥物肝毒性測(cè)試提供了接近體內(nèi)環(huán)境的模型,，某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%，相關(guān)成果登上《Lab on a Chip》封面,?？鐚W(xué)科應(yīng)用：覆蓋微機(jī)械、光子晶體,、仿生傳感器與納米材料合成領(lǐng)域,。

Polos光刻機(jī)在微機(jī)械加工中表現(xiàn)outstanding。其亞微米分辨率可制造80 μm直徑的開(kāi)環(huán)諧振器和2 μm叉指電極,，適用于傳感器與執(zhí)行器開(kāi)發(fā),。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe系統(tǒng)）,，用戶還能擴(kuò)展至3D微納結(jié)構(gòu)打印，為微型機(jī)器人及光學(xué)元件提供多尺度制造方案,。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì),。光束引擎高速掃描：SPS POLOS μ單次寫(xiě)入400 μm區(qū)域,，壓電驅(qū)動(dòng)提升掃描速度。陜西POLOSBEAM光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

軟件高效兼容：BEAM Xplorer支持GDS文件導(dǎo)入,，簡(jiǎn)化復(fù)雜圖案設(shè)計(jì)流程,。天津德國(guó)POLOS光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米

某能源研究團(tuán)隊(duì)采用 Polos 光刻機(jī)制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫(xiě)技術(shù)在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,，器件的能量轉(zhuǎn)換效率達(dá) 35%,，在 10Hz 振動(dòng)下可輸出 50μW/cm2 的功率。通過(guò)自定義電極間距和厚度,，該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動(dòng),，在智能穿戴設(shè)備中實(shí)現(xiàn)了運(yùn)動(dòng)能量的實(shí)時(shí)采集與存儲(chǔ)。其輕量化設(shè)計(jì)（體積 < 1mm3）還被用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器節(jié)點(diǎn),，使傳感器續(xù)航時(shí)間從 3 個(gè)月延長(zhǎng)至 2 年。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。天津德國(guó)POLOS光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米