可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道，傳統(tǒng)工藝需多次掩模對(duì)準(zhǔn),，良率only 30%,。Polos 光刻機(jī)的多材料同步曝光技術(shù)，支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道,，將良率提升至 85%,。某微系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室利用該特性，開發(fā)出可實(shí)時(shí)切換流路的生化分析芯片,，通過軟件輸入不同圖案,，10 分鐘內(nèi)即可完成從 DNA 擴(kuò)增到蛋白質(zhì)檢測(cè)的模塊切換。該成果應(yīng)用于 POCT 設(shè)備,，使現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)系統(tǒng)的體積縮小 60%,，檢測(cè)時(shí)間縮短至傳統(tǒng)方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。成本效益：?jiǎn)未纹毓獬杀镜陀趥鹘y(tǒng)光刻 1/3,，小批量研發(fā)更經(jīng)濟(jì),。北京德國(guó)桌面無掩模光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

在微流體領(lǐng)域，Polos系列光刻機(jī)通過無掩模技術(shù)實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型,。例如,，中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列，研究細(xì)胞球浸潤(rùn)行為,，為組織工程提供了新型生物界面設(shè)計(jì)策略10,。Polos設(shè)備的精度與靈活性可支持此類仿生結(jié)構(gòu)的批量生產(chǎn)，推動(dòng)醫(yī)療診斷芯片的研發(fā),。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì),。北京德國(guó)桌面無掩模光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米固態(tài)電池：鋰金屬界面阻抗降至 50Ω?cm2,，電池循環(huán)壽命提升 3 倍。

Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計(jì),，寫入?yún)^(qū)域達(dá)155×155 mm,，平臺(tái)雙向重復(fù)性精度0.1 μm，滿足工業(yè)級(jí)需求,。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭,，支持實(shí)時(shí)觀測(cè)與多層對(duì)準(zhǔn)。配套的BEAM Xplorer軟件簡(jiǎn)化了復(fù)雜圖案設(shè)計(jì)流程,，內(nèi)置高性能筆記本電腦實(shí)現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理,，成為微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和光子晶體研究的理想工具。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì)。

一家專注于再生醫(yī)學(xué)的科研公司在組織工程支架的研究上,，使用德國(guó) Polos 光刻機(jī)取得remarkable成果,。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu)，以促進(jìn)細(xì)胞的生長(zhǎng)和組織的修復(fù),。Polos 光刻機(jī)能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計(jì)的三維模型,，在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案。通過該光刻機(jī)制造的支架，在動(dòng)物實(shí)驗(yàn)中表現(xiàn)出優(yōu)異的細(xì)胞黏附和組織生長(zhǎng)引導(dǎo)能力,。與傳統(tǒng)制造方法相比,，使用 Polos 光刻機(jī)生產(chǎn)的支架，細(xì)胞在其上的增殖速度提高了 50%,，為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的臨床應(yīng)用提供了有力支持,。電子學(xué)應(yīng)用：2μm 線寬光刻能力，第三代半導(dǎo)體器件研發(fā)效率提升 3 倍,。

在organ芯片研究中,，模擬人體organ微環(huán)境需要微米級(jí)精度的三維結(jié)構(gòu)。德國(guó) Polos 光刻機(jī)憑借無掩模激光光刻技術(shù),，幫助科研團(tuán)隊(duì)在 PDMS 材料上構(gòu)建出仿生血管網(wǎng)絡(luò)與組織界面,。某再生醫(yī)學(xué)實(shí)驗(yàn)室使用 Polos 光刻機(jī)，成功制備出肝芯片微通道,，其內(nèi)皮細(xì)胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%,，且可通過軟件實(shí)時(shí)調(diào)整通道曲率，precise模擬肝臟血流動(dòng)力學(xué),。該技術(shù)縮短了organ芯片的研發(fā)周期,，為藥物肝毒性測(cè)試提供了更真實(shí)的體外模型，相關(guān)成果入選《自然?生物技術(shù)》年度創(chuàng)新技術(shù)案例,。德國(guó)技術(shù)基因：融合精密光學(xué)與自動(dòng)化控制,，確保設(shè)備高穩(wěn)定性與長(zhǎng)壽命。北京德國(guó)桌面無掩模光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

光束引擎高速掃描：SPS POLOS μ單次寫入400 μm區(qū)域,，壓電驅(qū)動(dòng)提升掃描速度,。北京德國(guó)桌面無掩模光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

Polos-BESM支持GDS文件直接導(dǎo)入和多層曝光疊加，簡(jiǎn)化射頻器件（如IDC電容器）制造流程,。研究團(tuán)隊(duì)利用類似設(shè)備成功制備高頻電路元件,，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。其高重復(fù)性（0.1 μm）確?？蒲谐晒目赊D(zhuǎn)化性,，助力國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術(shù)封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。北京德國(guó)桌面無掩模光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米