某revolution生物醫(yī)學(xué)研究機構(gòu)致力于開發(fā)快速,、precise的疾病診斷技術(shù),。在研發(fā)一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時，采用了德國 Polos 光刻機,。利用其無掩模激光光刻技術(shù),，科研團隊成功制造出擁有復(fù)雜微通道網(wǎng)絡(luò)的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應(yīng)過程,，極大提高了檢測的靈敏度和準(zhǔn)確性,。以往使用傳統(tǒng)光刻技術(shù)制備此類芯片，不only周期長,，且精度難以保證,。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一，助力該機構(gòu)在tumor早期診斷研究上取得重大突破,，相關(guān)成果已發(fā)表在國際authority醫(yī)學(xué)期刊上,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。Polos-μPrinter 入選《半導(dǎo)體技術(shù)》年度創(chuàng)新產(chǎn)品,，推動無掩模光刻技術(shù)普及。河南POLOSBEAM-XL光刻機分辨率1.5微米

SPS POLOS μ以緊湊的桌面設(shè)計降低實驗室設(shè)備投入,，光束引擎通過壓電驅(qū)動實現(xiàn)高速掃描（單次寫入400 μm區(qū)域）,。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光，成功制備3 μm間距微圖案陣列和叉指電容器,，助力納米材料與柔性電子器件的快速驗證,。其無掩模特性進一步減少材料浪費，為中小型實驗室提供經(jīng)濟解決方案62,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。河南德國POLOS桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長無掩模技術(shù)優(yōu)勢：摒棄傳統(tǒng)掩模，圖案實時調(diào)整,，研發(fā)成本降低 70%,，小批量生產(chǎn)經(jīng)濟性突出。

在航空航天科研中,，某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器,。其中，制造輕量化且高性能的微機械部件是關(guān)鍵,。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù),，助力團隊制造出尺寸precise,、質(zhì)量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結(jié)構(gòu),。例如,，利用該光刻機制造的微型齒輪，齒距精度達(dá)到納米級別,，極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性,。基于此,，科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器,，其續(xù)航時間和飛行靈活性遠(yuǎn)超同類產(chǎn)品，為未來微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅實基礎(chǔ),。

德國 Polos 光刻機系列以其緊湊的設(shè)計,，在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用。對于研究實驗室,，尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機構(gòu)來說,，設(shè)備的空間占用是重要考量因素。Polos 光刻機占用空間小的特點,，使其能夠輕松融入各類實驗室環(huán)境,。? 盡管體積小巧，但它的性能卻毫不遜色,。無掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作,，低成本的優(yōu)勢降低了科研投入門檻。在小型實驗室中,，科研人員使用 Polos 光刻機,，在微流體、電子學(xué)等領(lǐng)域開展研究,，成功取得多項成果,。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā)，Polos 光刻機證明了小空間也能蘊藏大能量,，為科研創(chuàng)新提供有力支持,。無掩模激光直寫技術(shù)：無需物理掩膜，軟件直接輸入任意圖案,，降低成本與時間,。

某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻機開發(fā)了基于阻變存儲器（RRAM）的存算一體架構(gòu)。其激光直寫技術(shù)在 10nm 厚度的 HfO?介質(zhì)層上實現(xiàn)了 5nm 的電極邊緣控制,，器件的電導(dǎo)均勻性提升至 95%,，計算能效比達(dá) 10TOPS/W，較傳統(tǒng) GPU 提升兩個數(shù)量級,?；谠摷夹g(shù)的邊緣 AI 芯片,，在圖像識別任務(wù)中能耗降低 80%，推理速度提升 3 倍,，已應(yīng)用于智能攝像頭和無人機避障系統(tǒng),，相關(guān)芯片出貨量突破百萬片。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。微流體3D成型：復(fù)雜流道快速曝光,，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā),。河南德國POLOS桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

Polos-BESM 光刻機：無掩模激光直寫，50nm 精度,，支持金屬 / 聚合物同步加工,，適配第三代半導(dǎo)體器件研發(fā)。河南POLOSBEAM-XL光刻機分辨率1.5微米

一家專注于再生醫(yī)學(xué)的科研公司在組織工程支架的研究上,，使用德國 Polos 光刻機取得remarkable成果,。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu)，以促進細(xì)胞的生長和組織的修復(fù),。Polos 光刻機能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計的三維模型,，在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案。通過該光刻機制造的支架,，在動物實驗中表現(xiàn)出優(yōu)異的細(xì)胞黏附和組織生長引導(dǎo)能力,。與傳統(tǒng)制造方法相比，使用 Polos 光刻機生產(chǎn)的支架,，細(xì)胞在其上的增殖速度提高了 50%，為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的臨床應(yīng)用提供了有力支持,。河南POLOSBEAM-XL光刻機分辨率1.5微米