Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL ®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡潔性,，以及普遍的材料-基板選擇。因此,，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國家的前沿研究中,，超過1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討灰度光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀。黑龍江雙光子灰度光刻3D光刻

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運(yùn)行,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。上?；叶裙饪涛⒓{光刻基于雙光子灰度光刻技術(shù) (2GL ?)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作,。

我們往往需要通過灰度光刻的方式來實(shí)現(xiàn)微透鏡陣列結(jié)構(gòu)，灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）,。微透鏡陣列也是類似,，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意,，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面,。微納3D打印這種方法與灰度光刻有點(diǎn)類似,，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合,，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),，不僅只是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu),，后續(xù)可以通過LIGA工藝獲得金屬模具,，并通過納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制。

微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件,，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力,。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻,、干法刻蝕和注射澆鑄等,。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上,，會產(chǎn)生場曲。在商業(yè)生產(chǎn)中,，為了消除場曲這種光學(xué)像差,，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進(jìn)行校正，從而增加了器件復(fù)雜度和成本,。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子灰度光刻技術(shù),。

    作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微納加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者，Nanoscribe在全球30多個(gè)國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體,?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持,，并推動生物打印,、微流體、微納光學(xué),、微機(jī)械,、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團(tuán),，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機(jī)遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 更多灰度光刻技術(shù)詳情,，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。黑龍江工業(yè)級灰度光刻三維光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X。黑龍江雙光子灰度光刻3D光刻

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納糯三維科技（上海）有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表,，擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)和良好的市場口碑,。公司業(yè)務(wù)涵蓋PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)等,，價(jià)格合理，品質(zhì)有保證,。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競爭力,，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識，遵守行業(yè)規(guī)范,，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展,。在社會各界的鼎力支持下，持續(xù)創(chuàng)新,，不斷鑄造***服務(wù)體驗(yàn),，為客戶成功提供堅(jiān)實(shí)有力的支持。