Nanoscribe成立于2007年,，憑借著爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持,，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長成為了現(xiàn)在世界公認(rèn)的微納米加工技術(shù)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。公司主要產(chǎn)品有基于雙光子聚合技術(shù)（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項(xiàng)國際專項(xiàng)的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺(tái)工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻（2GL®)微納打印設(shè)備QuantumX受到普遍關(guān)注并被眾多高學(xué)府和高科技單位所采用,，例如哈佛大學(xué),，牛津大學(xué)等出名的院校，華為公司等,?？蓱?yīng)用于微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程,，微納光學(xué),，力學(xué)超材料等不同領(lǐng)域。雙光子灰度光刻技術(shù)多強(qiáng)大,，如需了解詳情請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。湖南進(jìn)口灰度光刻3D微納加工

在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實(shí)現(xiàn)同步進(jìn)行,，以便對(duì)每個(gè)掃描平面進(jìn)行全體素大小控制,。Nanoscribe稱,，QuantumX在每個(gè)掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡單和復(fù)雜的光學(xué)形狀,，具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,，以及本質(zhì)上為準(zhǔn)連續(xù)的形貌,，可以在一個(gè)步驟中完成打印，而不需要多步光刻或多塊掩模制造,。Quantum X支持多種類型襯底,，包括透明和不透明的襯底，可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓,。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機(jī),，允許高縱橫比，支持高結(jié)構(gòu),，無需掩模,、旋涂和預(yù)烘烤或后烘烤。湖南進(jìn)口灰度光刻3D微納加工Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術(shù),。

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,，Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm,。

    Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄,，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持,。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,，推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料,，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程,，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和,。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng),，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí)，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件,，達(dá)到所見即所得,。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機(jī)。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,，適合用于納米,、微米、中尺度以及厘米級(jí)別的快速成型,。 想要了解灰度光刻技術(shù)的運(yùn)用,，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí),。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作,，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng),。黑龍江2PP灰度光刻三維光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您了解Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)。湖南進(jìn)口灰度光刻3D微納加工

    Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的子公司,，開發(fā)并提供用于納米,、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案。其口號(hào)是：“我們讓小物件變得重要”,，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù),，對(duì)智能手機(jī)、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品,。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機(jī)投入市場,，他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級(jí)3D打印光學(xué),，甚至利用他們的技術(shù)來開發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備,，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,，“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制,，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制,，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性,，我們的客戶正在微加工的前沿工作?！凹{米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收,，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程,。為了使用雙光子工藝制造3D物體,，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,，其中吸收的光的強(qiáng)度非常高,。 湖南進(jìn)口灰度光刻3D微納加工

納糯三維科技（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加楓路26號(hào)108室，是一家作為Nanoscribe在中國全資子公司,，納糯三維科技（上海）有限公司可進(jìn)行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā),，技術(shù)轉(zhuǎn)讓，技術(shù)咨詢,，技術(shù)服務(wù),，三維打印設(shè)備，光電機(jī)一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),，進(jìn)出口,，傭金代理，并提供相關(guān)配套服務(wù)，貿(mào)易信息咨詢,，企業(yè)管理咨詢,。的公司。納糯三維擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富,、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì),，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)。納糯三維始終以本分踏實(shí)的精神和必勝的信念,，影響并帶動(dòng)團(tuán)隊(duì)取得成功,。納糯三維始終關(guān)注儀器儀表市場，以敏銳的市場洞察力,，實(shí)現(xiàn)與客戶的成長共贏,。