光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,，PIC)與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器,、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器、電光調制器,、光電探測器,、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等,。集成光子學可較廣地應用于各種領域,，例如數(shù)據(jù)通訊，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等,。而光子集成電路這項關鍵技術,，尤其是微型光子組件應用，可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性,。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,，需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求,。針對這些困難,，科學家們提出了寬帶光纖耦合概念，并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn),。微納3D打印和“傳統(tǒng)”3D打印的主要區(qū)別在于,，微納3D打印能達到“傳統(tǒng)”3D打印無法達到的高精度。湖南實驗室3D打印微納光刻

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業(yè),，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像,。例如，可接受高達32位分辨率的BMP,、PNG或TIFF文件,，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行,，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制,。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產(chǎn)生簡單和復雜的光學形狀,，具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟，以及本質上為準連續(xù)的形貌,，可以在一個步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。湖南3D打印Nanoscribe3D打印實際是對傳統(tǒng)制造的補充,。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,，從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。

光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要,。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷,，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不光可以用于在平面基板上打印微納米部件,，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構,，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等,。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,，可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構,。早期的Photonic Professional GT 3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結構塑料組件和模具。

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構,，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作,。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結構、自由設計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構,。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,，以及比較廣的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明,。Nanoscribe是微納米生產(chǎn)的和3D打印市場的帶領人物。雙光子聚合3D打印激光直寫

Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統(tǒng),。湖南實驗室3D打印微納光刻

3D微納加工技術應用于材料工程領域,。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實現(xiàn)具有特定光子,，機械，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結構上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。湖南實驗室3D打印微納光刻

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