Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。更多有關(guān)3D雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢 歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國(guó)分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司,。北京雙光子聚合無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)

斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心,，共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學(xué)器件寬度只有125微米,，可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進(jìn)行內(nèi)窺鏡檢查,。而這個(gè)精密的微光學(xué)器件是通過使用德國(guó)Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設(shè)備制作的。微型內(nèi)窺鏡可以幫助檢測(cè)人體動(dòng)脈內(nèi)的斑塊,、血栓和膽固醇晶體,，因此對(duì)于醫(yī)學(xué)檢測(cè)極其重要,，可以有助于減少中風(fēng)和心臟病發(fā)作的風(fēng)險(xiǎn),。來自不來梅大學(xué)微型傳感器、致動(dòng)器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,，使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),，利用雙光子聚合原理（2PP）結(jié)合光刻技術(shù)，將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級(jí)二維微流道中,。該微型混合器可以處理高達(dá)100微升/分鐘的高流速樣品,，適用于藥物和納米顆粒制造,，快速化學(xué)反應(yīng)、生物學(xué)測(cè)量和分析藥物等各種不同應(yīng)用,。湖北2PP無(wú)掩膜光刻3D微納加工Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢(shì),。

QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要：快速原型制作，高精度,，高設(shè)計(jì)自由度,，簡(jiǎn)易明了的工程流程；工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn),；200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量,；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。

德國(guó)公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商，也是BICO集團(tuán)（前身為Cellin）的一部分,，推出了一款新型高精度3D打印機(jī),，用于制造微納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱,，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線,，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學(xué),、材料工程,、微流體、微光學(xué),、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度,、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP),，一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),，在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度,。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級(jí)高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn),?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動(dòng)了平面微光學(xué)器件的超快速制造,，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?！盢anoscribe于2018年推出了用于微加工和無(wú)掩模光刻的Photonic Professional GT2 3D打印機(jī),。

光學(xué)和光電組件的小型化對(duì)于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會(huì)有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷,，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題,。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu),，包括光子集成電路,，光纖頂端和預(yù)制晶片等。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。更多有關(guān)3D雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品,，請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。浙江Nanoscribe無(wú)掩膜光刻多少錢

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Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向?qū)В稍谝婚_始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè),，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像,。例如，可接受高達(dá)32位分辨率的BMP,、PNG或TIFF文件,，以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中,，激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實(shí)現(xiàn)同步進(jìn)行,，以便對(duì)每個(gè)掃描平面進(jìn)行全體素大小控制,。Nanoscribe稱,，QuantumX在每個(gè)掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡(jiǎn)單和復(fù)雜的光學(xué)形狀,，具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,，以及本質(zhì)上為準(zhǔn)連續(xù)的形貌,，可以在一個(gè)步驟中完成打印，而不需要多步光刻或多塊掩模制造,。北京雙光子聚合無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)