事實(shí)上,，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的，其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授,。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,，也就是傳說(shuō)中的納米牛引起了極大的轟動(dòng)：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作,，這兩位教授做出了當(dāng)時(shí)世界上特別小的彈簧振子,，其加工分辨率達(dá)到了120nm，超越了衍射極限,，同時(shí)還沒(méi)有使用諸如近場(chǎng)加工之類的解決方案,，而是單純的利用了材料的性質(zhì)。來(lái)自不來(lái)梅大學(xué)微型傳感器,、致動(dòng)器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,，使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng)，利用雙光子聚合原理（2PP）結(jié)合光刻技術(shù),，將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級(jí)二維微流道中,。該微型混合器可以處理高達(dá)100微升/分鐘的高流速樣品,，適用于藥物和納米顆粒制造，快速化學(xué)反應(yīng),、生物學(xué)測(cè)量和分析藥物等各種不同應(yīng)用,。Nanoscribe 的新型微加工3D打印機(jī)為生命科學(xué)制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)。天津3D打印

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）,。文章中介紹了高精度3D打印,，并重點(diǎn)講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過(guò)激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過(guò)創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性,。上海高精度3D打印基于微納尺度的3D打印技術(shù)，可定制設(shè)計(jì)光學(xué)性能優(yōu)異,、超高精度,、超薄尺度的透鏡。

為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性,，科研人員又在新材料研發(fā)的過(guò)程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力,。一方面，利用SCRIBE新技術(shù)的情況下,，高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對(duì)打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度,。另一方面，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域,。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來(lái)的研究提供了進(jìn)一步的可能。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過(guò)組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差,。在給出的例子中,，成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān)，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化,。

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體,，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái),。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率,。長(zhǎng)遠(yuǎn)來(lái)看,，3D打印會(huì)顛覆傳統(tǒng)制造，實(shí)現(xiàn)服務(wù)的規(guī)?；?，屬于產(chǎn)業(yè)顛覆。

事實(shí)上,，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,，其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,，也就是傳說(shuō)中的納米牛引起了極大的轟動(dòng)：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,，這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作，這兩位教授做出了當(dāng)時(shí)世界上特別小的彈簧振子,，其加工分辨率達(dá)到了120nm,，超越了衍射極限，同時(shí)還沒(méi)有使用諸如近場(chǎng)加工之類的不太通用的解決方案,，而是單純的利用了材料的性質(zhì)?，F(xiàn)階段，3D打印是傳統(tǒng)制造的重要補(bǔ)充,，屬于產(chǎn)業(yè)增強(qiáng),。湖北微納光刻3D打印PPGT

微納3D打印的精度能達(dá)到細(xì)觀、微觀和納觀（即十億分之一米）級(jí)別,。天津3D打印

光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,，PIC)與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器,、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,，比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測(cè)器、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等,。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等,。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性,。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性，需要權(quán)衡對(duì)準(zhǔn),、效率和寬帶方面的種種要求,。針對(duì)這些困難，科學(xué)家們提出了寬帶光纖耦合概念,，并通過(guò)Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備而制造的3D耦合器得以實(shí)現(xiàn),。天津3D打印