在計(jì)算成像領(lǐng)域中有一個(gè)重要的分支，即光場成像,。而光場成像中的中心光學(xué)元件,，即為微透鏡陣列。其材質(zhì)為透明玻璃,，表面刻有很多微小的透鏡,，組成陣列結(jié)構(gòu)，用來成像,。目前比較成熟的制作石英微透鏡的工藝是光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法,，但該方法存在著各種各樣的問題。常用的光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法在透鏡的設(shè)計(jì)時(shí)需通過掩膜板圖形確定,，無法自由調(diào)節(jié),，且成本高，周期長,。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。 如需了解更多全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X的內(nèi)容,，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維,。吉林高分辨率灰度光刻

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,，包括仿生表面，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統(tǒng)Quantum X實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對體素大小的超快控制,，自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。吉林高精度灰度光刻3D微納加工微納3D打印和灰度光刻技術(shù)有什么區(qū)別,？

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,，Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm。

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。雙光子灰度光刻技術(shù)將灰度光刻的高性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,。

納米紋理在納米技術(shù)中起著越來越重要的作用,。近期的研究表明，可以通過空間調(diào)節(jié)其納米級像素的高度來進(jìn)一步增強(qiáng)其功能,。但是,，實(shí)現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性,，因?yàn)樗枰獙{米像素進(jìn)行“灰度”打印，其中,，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內(nèi),。只有少數(shù)幾種方法（例如，灰度光刻或掃描束光刻）可以滿足這種嚴(yán)格的要求,，但通常其成本較高,，并且它們中的大多數(shù)需要化學(xué)開發(fā)過程。因此,，具有高垂直和水平分辨率的可重構(gòu)灰度納米像素打印技術(shù)受到高度追捧,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X。吉林高精度灰度光刻3D微納加工

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Quantum X shape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®),。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制,。它不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué),、微光學(xué)、MEMS,、微流道,、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具,。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實(shí)用性,。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置，實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn),。吉林高分辨率灰度光刻

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