近年來,，實現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結構在包括微機電（MEMS）、微納光學及微流控研究領域內備受關注,，良好的線性側壁灰度結構可以很大程度上提高維納器件的靜電力學特性,，信號通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結構的傳統(tǒng)手段,，如超快激光刻蝕工藝,、電化學腐蝕或反應離子刻蝕等，灰度直寫圖形曝光結合干法刻蝕可以更加方便地制作任意圖形的3D微納結構,。該方法中,，利用微鏡矩陣（DMD）開合控制的激光灰度直寫曝光表現(xiàn)出更大的操作便捷性、易于設計等特點,，不需要特定的灰度色調掩膜版,，結合軟件的圖形化設計可以直觀地獲得灰度結構。如需了解更多全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X的內容,，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維,。天津德國灰度光刻激光直寫

在雙光子灰度光刻工藝中,，激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制,。Nanoscribe稱,，QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產生簡單和復雜的光學形狀，具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟,，以及本質上為準連續(xù)的形貌，可以在一個步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造,。Quantum X支持多種類型襯底，包括透明和不透明的襯底,，可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓,。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機，允許高縱橫比,，支持高結構,，無需掩模、旋涂和預烘烤或后烘烤,。黑龍江灰度光刻無掩膜激光直寫更多德國雙光子灰度光刻技術內容,，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

    基于雙光子聚合(2PP),，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度,。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準?！半m然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造,，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產?！?。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代,，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX,，并榮獲創(chuàng)新獎,。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應用于折射和衍射微光學,。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領域,。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備應用的領域。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,，可適用于批量生產的流水線工業(yè)程序，例如注塑,，熱壓花和納米壓印等加工流程,，從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業(yè)程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間,。另外，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,，即一步打印多級衍射光學元件,，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術,。黑龍江灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

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德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng) Quantum X ,，并榮獲創(chuàng)新獎,。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL®）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應用于折射和衍射微光學,。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領域,。具有全自動化系統(tǒng)的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到準同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結合,，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點,。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。天津德國灰度光刻激光直寫

納糯三維科技（上海）有限公司在同行業(yè)領域中，一直處在一個不斷銳意進取,，不斷制造創(chuàng)新的市場高度,，多年以來致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價值理念的產品標準，在上海市等地區(qū)的儀器儀表中始終保持良好的商業(yè)口碑,，成績讓我們喜悅,，但不會讓我們止步,，殘酷的市場磨煉了我們堅強不屈的意志，和諧溫馨的工作環(huán)境,，富有營養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開拓創(chuàng)新,，勇于進取的無限潛力，納糯三維科技供應攜手大家一起走向共同輝煌的未來,，回首過去,，我們不會因為取得了一點點成績而沾沾自喜，相反的是面對競爭越來越激烈的市場氛圍,，我們更要明確自己的不足,，做好迎接新挑戰(zhàn)的準備，要不畏困難,，激流勇進,，以一個更嶄新的精神面貌迎接大家，共同走向輝煌回來,！