Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫,，而是在孔型支架內,。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,，對折射率的調節(jié)范圍甚至超過0.3,。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,，例如已經提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同,。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差,。在給出的例子中，成像中的熒光強度和折射率高度相關,，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化,。雙光子聚合技術是近年發(fā)展起來的在利用光的原理上不同于普通光聚合和光交聯的一種新型的光聚合技術。天津3D打印雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點,，您可以進行幾乎任何形狀,，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計,。另外,，Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作,。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。黑龍江高精度雙光子聚合技術3D打印Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您揭秘什么是飛秒激光雙光子聚合納米光刻,。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面,，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為mm,。

來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版,，并結合軟光刻技術做后續(xù)復制工作,。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭,。這種集成復雜3D結構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場,，以匹配光子芯片上光波導模式場,。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您了解雙光子光聚合反應及其在周期性微結構方面的應用,。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制,，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起揭秘雙光子聚合的加工原理,。湖南微納米雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構,、自由設計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內置倒扣以及橋接結構,。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現精度上限的3D打印,，突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。天津3D打印雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

納糯三維科技（上海）有限公司在PPGT2,，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)一直在同行業(yè)中處于較強地位,，無論是產品還是服務,，其高水平的能力始終貫穿于其中。公司始建于2017-11-08,，在全國各個地區(qū)建立了良好的商貿渠道和技術協(xié)作關系,。納糯三維以PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)為主業(yè)，服務于儀器儀表等領域,，為全國客戶提供先進PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng),。將憑借高精尖的系列產品與解決方案，加速推進全國儀器儀表產品競爭力的發(fā)展,。