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湖南TPPNanoscribe無(wú)掩膜光刻

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-11-02

為了探索待測(cè)物微納米表面形貌,探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目,。然而,,由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,,在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過(guò)去幾十年中沒(méi)有明顯的研究進(jìn)展,,這也限制了基于力傳感反饋的測(cè)量性能,。如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變,以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題,。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),,雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù),,其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí),,并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求,。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢,,歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國(guó)分公司 - 納糯三維科技.湖南TPPNanoscribe無(wú)掩膜光刻

湖南TPPNanoscribe無(wú)掩膜光刻,Nanoscribe

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過(guò)成分和幾何設(shè)計(jì)來(lái)調(diào)整和定制,。通過(guò)使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,,可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子,機(jī)械,,生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,,由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說(shuō),,在納米級(jí),、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),,您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。北京實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe生物工程更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢,,歡迎聯(lián)系 納糯三維科技(上海)有限公司,。

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NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,,以及普遍的材料-基板選擇,。因此,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室,。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中,超過(guò)1,000個(gè)開(kāi)創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的證明,。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,微光學(xué)元件,,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡通過(guò)使用Nanoscribe的3D打印系統(tǒng),,科學(xué)家們實(shí)現(xiàn)了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波導(dǎo)的微觀結(jié)構(gòu),。

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    對(duì)于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn),。首先,,他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架,,可以在光纖的切面上打印。然后,,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對(duì)齊,,以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn),,特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),,是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低,。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign,。憑借其專(zhuān)有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,,新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ),。 更多有關(guān)增材制造的咨詢,,歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維,。雙光子Nanoscribe三維微納米加工系統(tǒng)

影響增材制造技術(shù)的因素你了解嗎,?歡迎咨詢Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。湖南TPPNanoscribe無(wú)掩膜光刻

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),,斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭湖南TPPNanoscribe無(wú)掩膜光刻