Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),,用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。總而言之,,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性(如生命科學(xué),、材料工程、微流體,、微納光學(xué),、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)等)。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,,可實(shí)現(xiàn)在25 cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),,很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),微流體,,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。更多有關(guān)3D微納加工的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司,。湖南進(jìn)口Nanoscribe無掩膜光刻
為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性,,科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力。一方面,,利用SCRIBE新技術(shù)的情況下,,高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對(duì)打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度。另一方面,,低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域,。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進(jìn)一步的可能,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示),。通過色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。海南微納Nanoscribe微流道Nanoscribe的3D打印設(shè)備具有高度靈活性和可定制性,,能夠滿足不同行業(yè)的需求,。
對(duì)于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn),。首先,,他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架,,可以在光纖的切面上打印。然后,,打印的物體必須與光纖的重點(diǎn)部分完全對(duì)齊,,以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn),,特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),,是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低,。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign,。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,,新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ),。
借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),,您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip),。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來研究細(xì)胞生長(zhǎng),、遷移和干細(xì)胞分化。此外,,3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器,,包括植入物,微針和微孔膜等制作,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。更多有關(guān)3D打印的咨詢,歡迎致電納糯三維,。
Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,,例如用光敏聚合物,,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,,并可以選擇添加金屬涂層,。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件(DOE),,并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻,,刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝,,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢,,歡迎聯(lián)系 納糯三維科技(上海)有限公司,。海南微納Nanoscribe微流道
使用Nanoscribe的3D微加工技術(shù)并配合其新型研發(fā)的IP-Visio光刻膠,可以打印極其復(fù)雜的3D微支架,。湖南進(jìn)口Nanoscribe無掩膜光刻
Nanoscribe設(shè)備專注于納米,,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具,。在該過程中,,激光固化部分流體光敏材料,逐層固化,。使用雙光子聚合,,分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面,,GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體,,通常為160納米至毫米范圍。此外,,使用GT2,,用戶可以選擇針對(duì)其應(yīng)用定制的多組物鏡,基板,,材料和自動(dòng)化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,用于制作單個(gè)元素,。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,,滿足智能手機(jī)行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求。 湖南進(jìn)口Nanoscribe無掩膜光刻