作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑,，熱壓花和納米壓印等加工流程,，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用,。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間,。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作,，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件,，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹,？焖俳桓叮河捎谑∪チ搜谀ぶ谱鞯臅r(shí)間和成本,，無掩膜光刻技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)快速交付，更好地滿足客戶的緊急需求,。湖北Nanoscribe無掩膜光刻工藝

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性,。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達(dá)到上限的微納3D打印機(jī)。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,，適合用于納米,、微米、中尺度以及厘米級(jí)別的快速成型,。遼寧2PP無掩膜光刻三維光刻無掩膜光刻技術(shù)具有高精度,、高效率優(yōu)勢(shì)。

世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制，自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn)，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。歡迎咨詢,。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體,，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作我們提供高精度無掩膜光刻寫服務(wù),，確保圖案清晰無模糊。

集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,，需要權(quán)衡對(duì)準(zhǔn),、效率和寬帶方面的種種要求。針對(duì)這些困難,，科學(xué)家們提出了寬帶光纖耦合概念,，并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備而制造的3D耦合器得以實(shí)現(xiàn)。它可以根據(jù)不同需求進(jìn)行快速的圖案設(shè)計(jì)和修改,，無需制作復(fù)雜的掩膜板,，提高了加工的靈活性和效率。遼寧2PP無掩膜光刻三維光刻

由于沒有物理掩膜,，無掩膜光刻技術(shù)可以快速地制造出大量的芯片,，提高了生產(chǎn)效率。湖北Nanoscribe無掩膜光刻工藝

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),，微流體,，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。湖北Nanoscribe無掩膜光刻工藝