雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的,，其先驅(qū)者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授,。當時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作,，這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子，其加工分辨率達到了120nm,，超越了衍射極限,，同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案，而是單純的利用了材料的性質(zhì),。環(huán)保：無掩膜光刻技術(shù)減少了廢棄物的產(chǎn)生,，因為它不需要使用掩膜，減少了掩膜的廢棄和回收問題,。海南雙光子無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。湖北進口無掩膜光刻PPGT適用于微米和納米級別的加工要求,。這是因為它使用數(shù)字圖案，可以獲得更高的分辨率和更精確的圖案,。

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設計自由度和光學質(zhì)量的特點，您可以進行幾乎任何形狀,，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計。另外,，Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設計自由度,，可以在各種預先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu),。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。歡迎咨詢

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,，突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。無掩膜光刻技術(shù)還具有靈活性和可擴展性,。

如何能夠利用微納尺寸的旋轉(zhuǎn)軸和鉸鏈改進傳感器并為新的傳感器設計概念鋪平道路,？這正是位于代頓（俄亥俄州）的美國空軍技術(shù)學院的科研人員們通過在光纖上打印具有可活動部件的微型3D傳感器所聚焦的課題。內(nèi)置的鉸鏈和微軸給傳感器設計帶來的新的設計理念,，例如用于流量傳感的微轉(zhuǎn)子,，可通過物***相沉積法來進入以往不易觸及的區(qū)域的微型傳感器。

光纖上3D打印的流量傳感器（渲染動畫）：轉(zhuǎn)子被安裝在光纖端面的一個偏心軸上,，傳感器的信號由通過光纖芯的反射光產(chǎn)生,，以實現(xiàn)流量傳感的應用。 無掩膜光刻在生活中的應用,。湖南Nanoscribe無掩膜光刻3D打印

無掩膜光刻技術(shù)是一種先進的微納加工技術(shù),。海南雙光子無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結(jié)構(gòu)微納光學元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機。該設備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,，適合用于納米,、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型,。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領域應用海南雙光子無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)