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海南超高速無(wú)掩膜光刻多少錢(qián)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-03-19

Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域,,諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,,再生醫(yī)學(xué)工程,,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國(guó)子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強(qiáng)了全球銷(xiāo)售活動(dòng),,并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍,。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺(jué)效果上更清晰,結(jié)構(gòu)分類(lèi)上更明確,。首頁(yè)導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息,,產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫(kù),公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄,。比較大化滿足用戶對(duì)信息的了解和需求,。Nanoscribe中國(guó)子公司總經(jīng)理崔博士表示:“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國(guó)客戶無(wú)需顧慮語(yǔ)言障礙,,更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用,。”想要了解無(wú)掩膜光刻的技術(shù)內(nèi)容,,請(qǐng)致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司,。海南超高速無(wú)掩膜光刻多少錢(qián)

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QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),,微流體,,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹(shù)脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),,非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。江蘇德國(guó)無(wú)掩膜光刻設(shè)備無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)非常高的加工精度和分辨率,適用于微米和納米級(jí)別的加工要求,。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),用于快速,,精度非常高的微納加工,,可以輕松3D微納光學(xué)制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,,光子和微流控芯片等,,也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫(xiě)技術(shù),,可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,;也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下,實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。

由于在紅外區(qū)域吸收率不高,,因此光敏樹(shù)脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,同時(shí)也是光通訊,、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實(shí)現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計(jì),,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個(gè)新的高度,。由于其光學(xué)特性,高折射率聚合物可促進(jìn)許多運(yùn)用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用,,例如光電應(yīng)用中,,他們可以增加顯示設(shè)備、相機(jī)或投影儀鏡頭的視覺(jué)特性,。此外,,這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng),,內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測(cè)的微透鏡,。支持多種材料:無(wú)掩膜光刻技術(shù)不僅限于特定的材料,還可以應(yīng)用于各種不同的材料為制造帶來(lái)了更大的靈活性,。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),,用于快速,精度非常高的微納加工,,可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,,包括玻璃,,硅晶片,光子和微流控芯片等,,也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,?;陔p光子聚合原理的激光直寫(xiě)技術(shù),可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,;也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下,,實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作無(wú)掩膜光刻技術(shù)是微納制造領(lǐng)域的未來(lái)方向。進(jìn)口無(wú)掩膜光刻三維光刻

無(wú)掩膜光刻技術(shù)也適用于制造精細(xì)的電子元件和結(jié)構(gòu),。海南超高速無(wú)掩膜光刻多少錢(qián)

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