Quantum X 新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）,。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。而且Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,?；叶裙饪碳夹g(shù)可以應(yīng)用于微電子、光電子,、生物醫(yī)學(xué)等多個領(lǐng)域。天津雙光子灰度光刻技術(shù)

  雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級,。由于需要多次光刻，刻蝕和對準(zhǔn)工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。浙江德國灰度光刻微納光刻N(yùn)anoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術(shù)。

來自德國亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計,。科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)（2PP）打印微型通道的聚合物母版,，并結(jié)合軟灰度光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作,。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭,。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心，共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學(xué)器件寬度只有125微米,，可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進(jìn)行內(nèi)窺鏡檢查

2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。雙光子灰度光刻技術(shù)將灰度光刻的高性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,。

這款灰度光刻設(shè)備具備出色的精度和穩(wěn)定性,。通過先進(jìn)的光刻技術(shù)，它能夠在微米級別上進(jìn)行精確的圖案制作,，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達(dá)到比較高水平,。同時，設(shè)備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升,，減少了生產(chǎn)過程中的誤差和損耗,，提高了生產(chǎn)效率。這款設(shè)備具備高效的生產(chǎn)能力,。它采用了快速曝光和快速開發(fā)的技術(shù),，**縮短了生產(chǎn)周期。相比傳統(tǒng)的光刻設(shè)備,，它的生產(chǎn)速度提高了30%,，提升了我們的生產(chǎn)效率。同時,，設(shè)備還具備多通道同時加工的能力,，可以同時處理多個產(chǎn)品，進(jìn)一步提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)能,。如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù),，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。天津高分辨率灰度光刻設(shè)備

灰度光刻技術(shù)作為一種新型的光刻技術(shù),，具有突破傳統(tǒng)光刻技術(shù)的優(yōu)勢,。天津雙光子灰度光刻技術(shù)

   Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計的上限,，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實現(xiàn)球形,，非球形,，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件,，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。天津雙光子灰度光刻技術(shù)