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廣東2GL灰度光刻系統(tǒng)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-04-13

QuantumXbio是具有高分辨率的多功能生物打印系統(tǒng),。該系統(tǒng)擁有的**技術(shù)是以雙光子聚合(2PP)為關(guān)鍵,,以出色的工程設(shè)計(jì)為基礎(chǔ),,通過生物學(xué)家的想法定制并且重新設(shè)計(jì)的,。作為2019年推出的First臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,,該生物打印系統(tǒng)具有精確的溫度控制,、無菌的工作環(huán)境和功能化的生物材料等特點(diǎn),,可讓生物打印達(dá)到一個(gè)新的高度,,并有效加速組織工程、細(xì)胞生物學(xué)和方方面面生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用等關(guān)鍵應(yīng)用的創(chuàng)新,。相比于傳統(tǒng)的二進(jìn)制光刻技術(shù),,灰度光刻技術(shù)可以更高效地利用光刻膠,降低成本,。廣東2GL灰度光刻系統(tǒng)

廣東2GL灰度光刻系統(tǒng),灰度光刻

超高速灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用不僅局限于傳統(tǒng)領(lǐng)域,,還可以拓展到新興領(lǐng)域。例如,,在新能源領(lǐng)域,,它可以用于制造高效的太陽能電池板;在人工智能領(lǐng)域,,它可以用于制造更快,、更強(qiáng)大的計(jì)算芯片。這些應(yīng)用將進(jìn)一步推動(dòng)科技的發(fā)展,,為人類創(chuàng)造更美好的未來,。超高速灰度光刻技術(shù)的發(fā)展離不開科研人員的不懈努力和創(chuàng)新精神。他們通過不斷突破科技邊界,,攻克了一個(gè)又一個(gè)難題,,從而實(shí)現(xiàn)了這一技術(shù)的突破。他們的付出為我們帶來了更多的機(jī)遇和挑戰(zhàn),,也為科技進(jìn)步做出了巨大貢獻(xiàn),。超高速灰度光刻技術(shù)的問世,標(biāo)志著科技進(jìn)步的新里程碑,。我們相信,,在這項(xiàng)技術(shù)的推動(dòng)下,未來將會有更多的創(chuàng)新和突破,。讓我們共同期待超高速灰度光刻技術(shù)帶來的美好未來,!吉林雙光子灰度光刻技術(shù)微納3D打印和灰度光刻技術(shù)有什么區(qū)別?

廣東2GL灰度光刻系統(tǒng),灰度光刻

近年來,,利用雙光子聚合對聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術(shù)已日臻成熟,,其高精度,、高度可設(shè)計(jì)性和維度可控性已經(jīng)在平行技術(shù)中排名在前,。與此同時(shí),如何更有效地將微納結(jié)構(gòu)功能化,,也逐漸成為各種微納加工技術(shù)的研究重點(diǎn),。在現(xiàn)階段,對于3D飛秒激光打印技術(shù)而言,,具體來說就是利用其加工的高度可設(shè)計(jì)性來實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的功能化和芯片化,,并使這些結(jié)構(gòu)能夠更好地集成器件,,從而達(dá)到理想的應(yīng)用目的。微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件,,具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力,。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻,、干法刻蝕和注射澆鑄等,。受加工手段的限制,傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),,這樣的1組微透鏡陣列無法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上,,會產(chǎn)生場曲。

Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,。基于雙光子灰度光刻技術(shù) (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作,,即一步打印多級衍射光學(xué)元件,,并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹W鳛槿蝾^一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),,Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,,熱壓花和納米壓印等加工流程,,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。實(shí)現(xiàn)對光刻膠表面深度的精確控制,,從而制備出更加復(fù)雜和精細(xì)的微納結(jié)構(gòu),。

廣東2GL灰度光刻系統(tǒng),灰度光刻

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),,可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等?;叶裙饪碳夹g(shù)可用于制造復(fù)雜掩膜版,。吉林雙光子灰度光刻技術(shù)

由于灰度光刻的高精度特性,它可以有效地解決傳統(tǒng)光刻技術(shù)中存在的誤差和缺陷問題,。廣東2GL灰度光刻系統(tǒng)

   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有專項(xiàng)的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®),。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)在于:這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步,,這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小,,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。廣東2GL灰度光刻系統(tǒng)