這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品，名為3D無掩模光刻。無論您是進行科學研究還是制作工業(yè)手板,，這款產(chǎn)品都能滿足您的需求,。它不僅高效,，而且精度非常高,，能夠適用于多種尺度和多種應用領域，極大地節(jié)省了加工時間,。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,，無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作。如果您想要在科學研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,，3D無掩模光刻是您的比較好選擇,。它能夠為您節(jié)省時間和精力，讓您專注于更重要的事情,。立即購買,，體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧,！Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻技術的發(fā)展現(xiàn)狀,。廣東2PP灰度光刻系統(tǒng)

在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行,，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制,。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產(chǎn)生簡單和復雜的光學形狀,，具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟，以及本質上為準連續(xù)的形貌,，可以在一個步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。QuantumX支持多種類型襯底,，包括透明和不透明的襯底,，可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機,，允許高縱橫比,，支持高結構，無需掩模,、旋涂和預烘烤或后烘烤。上海德國灰度光刻雙光子灰度光刻敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結構在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景,。也就是說,，在納米級、微米級以及中尺度結構上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同,，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術,，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構,，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作,，并通過納米壓印技術進行復制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術的用途和特點,。

微透鏡陣列對表面質量和形貌要求比較高,，因此對制備工藝提出了很嚴格的要求?？蒲腥藛T提出了許多方法來實現(xiàn)具有高表面質量的微透鏡陣列的高效制備,，比如針對柔性材料的熱壓印成型方法實現(xiàn)了大面積微透鏡陣列；利用灰度光刻工藝和轉印方法在柔性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實現(xiàn)了微透鏡陣列,；利用光刻和熱回流方式實現(xiàn)了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等,。上述方法可以實現(xiàn)具有較高表面質量的微透鏡陣列，但通常需要使用復雜的工藝和步驟,。此外,，這些微透鏡基質通常為軟質材料，材料本身的機械抗性和耐酸堿的能力比較差,。相對而言,，透明硬脆材料例如石英,、藍寶石等由于其極高的硬度和極強的化學穩(wěn)定性，在光學窗口,、光學元件等方面的應用更加廣,。因此，如何制備具有高表面質量的透明硬脆材料微透鏡陣列等微光學元件成為研究人員研究的焦點,。制備各種復雜的微納米結構,，滿足不同應用領域的需求。山東2PP灰度光刻3D打印

灰度光刻技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結合,。廣東2PP灰度光刻系統(tǒng)

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結構、自由設計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構,。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,，以及非常廣的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明廣東2PP灰度光刻系統(tǒng)