3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域,。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實現(xiàn)具有特定光子，機械,，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。 更多有關(guān)3D微納加工的咨詢,，歡迎致電Nanoscribe中國分公司。德國科研Nanoscribe工藝

    傳統(tǒng)3D打印難以實現(xiàn)對于復(fù)雜設(shè)計或曲線形狀的高分辨率3D打印,，必須切片并分為大量水平和垂直層,。這會明顯增加對于平滑、曲線或精細結(jié)構(gòu)的打印時間,。雙光子聚合技術(shù)（2PP）則可以解決這個難題,。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）可實現(xiàn)體素調(diào)節(jié)，從而明顯減少打印層數(shù),。這是通過掃描過程中的快速激光調(diào)制來實現(xiàn)的,。并且，這項技術(shù)已從原先適用于,。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®,，該技術(shù)具備實現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì)，并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面,。整個打印過程在保持高速掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)整激光功率,。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓,。在無需切片步驟,，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學(xué)級表面的任意3D打印設(shè)計的真實完美形狀,。 湖北2GLNanoscribe技術(shù)更多有關(guān)3D打印的咨詢,，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統(tǒng)Quantum X實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。   

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。Quantum X shape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義?？偠灾?，該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性（如生命科學(xué)、材料工程,、微流體,、微納光學(xué)、微機械和微電子機械系統(tǒng)（MEMS）等）  更多有關(guān)高精度三維光刻的咨詢,，歡迎致電納糯三維,。

   對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn),。首先,，他們設(shè)計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印,。然后,，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點,。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),，是對可能傾斜的基材表面的補償,。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign,。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ),。

Nanoscribe的3D打印設(shè)備可以制造出針對生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域不同應(yīng)用的復(fù)雜3D設(shè)計。湖北2GLNanoscribe技術(shù)

德國Nanoscribe公司的雙光子聚合技術(shù)的3D打印設(shè)備為亞微尺度和納尺度結(jié)構(gòu)制造提供了有效的解決方案,。德國科研Nanoscribe工藝

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。 德國科研Nanoscribe工藝