德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎,。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL®）的精密加工微納米打印系統(tǒng),，可應用于折射和衍射微光學。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領域,。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求,。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結合,，使其同時具備高速打印,，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。想要了解Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備,。江蘇高精度灰度光刻技術

2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行,。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件,、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。湖北灰度光刻3D微納加工Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應用,。

在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制,。Nanoscribe稱,，QuantumX在每個掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡單和復雜的光學形狀，具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟,，以及本質(zhì)上為準連續(xù)的形貌，可以在一個步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造,。QuantumX支持多種類型襯底，包括透明和不透明的襯底,，可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓,。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機，允許高縱橫比,，支持高結構，無需掩模,、旋涂和預烘烤或后烘烤,。

Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄,，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司的支持,。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領者,，推動著諸如力學超材料,，微納機器人，再生醫(yī)學工程,，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和,。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng),，在充分滿足設計自由的同時，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件,，達到所見即所得,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代,，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX,，并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應用于折射和衍射微光學,。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領域,。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。該技術還可以與雙光子聚合技術結合,，實現(xiàn)高速打印高設計自由度和超高精度的特點,進一步擴展了其應用范圍,。江蘇灰度光刻3D打印

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ?)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。江蘇高精度灰度光刻技術

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,，但是原理不同,，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構,，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構,，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制,?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構（如下圖4所示,，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似,，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)江蘇高精度灰度光刻技術