Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項**技術(shù),，為全球客戶提供整套硬件,，軟件，打印材料和解決方案一站式服務(wù),。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,，擁有多項專項技術(shù)，為全球客戶提供整套硬件,，軟件,，打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計自由度和超高精度的特點,，結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu)，適用于生命科學領(lǐng)域的應用,，如設(shè)計和定制微型生物醫(yī)學設(shè)備的原型制作,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統(tǒng)。浙江雙光子灰度光刻技術(shù)

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復雜結(jié)構(gòu)微納光學元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,，以及普遍的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術(shù)強大的設(shè)計和制造能力的特別好證明,。高精度灰度光刻系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起了解更多關(guān)于雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)的內(nèi)容。

Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件,，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲,。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版,，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程,，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應用,。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間,。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合,，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。實現(xiàn)對光刻膠表面深度的精確控制,，從而制備出更加復雜和精細的微納結(jié)構(gòu)。

Nanoscribe成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄,，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,，推動著諸如力學超材料，微納機器人,，再生醫(yī)學工程,，微光學等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案,。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和,。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計自由的同時,，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件,，達到所見即所得,。。成本低：無掩膜光刻技術(shù)無需制作昂貴的掩膜版,，因此可以降低光刻成本,。山東德國灰度光刻

灰度光刻技術(shù)作為一種新型的光刻技術(shù),，具有突破傳統(tǒng)光刻技術(shù)的優(yōu)勢,。浙江雙光子灰度光刻技術(shù)

全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和2.5維光學元件。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng),，在充分滿足設(shè)計自由的同時,，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得,。全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工,。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝,。而且QuantumX提供了完全的設(shè)計自由度,、高速的打印效率、以及增材制造復雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度,?？焖佟蚀_的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計迭代周期,，實現(xiàn)了低成本的微納加工,。浙江雙光子灰度光刻技術(shù)