為了進一步提升技術(shù)先進性,，科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力,。一方面，利用SCRIBE新技術(shù)的情況下,，高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結(jié)構(gòu)的光學性能的調(diào)節(jié)度,。另一方面,，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進一步的可能,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）無需機械加工或任何模具,，能直接從計算機圖形數(shù)據(jù)中生成任何形狀的零件。浙江2PP3D打印激光直寫

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速,，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作,?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片,，光子和微流控芯片等，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求,。3D設(shè)計的多功能性對于制作復雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學設(shè)計的上限,，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能,，可以輕松實現(xiàn)球形，非球形,，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作,，并具備出色的光學質(zhì)量表面和形狀精度。歡迎咨詢浙江2PP3D打印激光直寫高精度和高分辨率：微納3D打印技術(shù)可以實現(xiàn)微米級甚至納米級的打印精度,，能夠制造出非常精細的結(jié)構(gòu)和零件,。

Nanoscribe公司推出針對微光學元件（如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件）具有特殊性能的新型打印材料,，IP-n162光刻膠,。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數(shù)的特性,，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設(shè)計尤為重要,，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下,。由于在紅外區(qū)域吸收率不高，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先,，同時也是光通訊,、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設(shè)計,，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性,，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用,，例如光電應(yīng)用中，他們可以增加顯示設(shè)備,、相機或投影儀鏡頭的視覺特性,。此外，這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件,。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設(shè)計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,，QuantumXshape提升了3D微納加工能力,，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量,?？偠灾I(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進的微制造工藝,，適用于晶圓級批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率,。微納尺度3D打印能批量復制微小結(jié)構(gòu)，制造出真正處于微觀級別的器件,，實現(xiàn)了一般3D打印無法企及的精度,。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導地位,，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。想要了解微納3D打印技術(shù)信息，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司,。天津Nanoscribe3D打印Nanoscribe

高分辨率的3D打印技術(shù)可以生產(chǎn)出比傳統(tǒng)制造工藝更小,、更精確的零件。浙江2PP3D打印激光直寫

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭浙江2PP3D打印激光直寫